СПОСОБ СОЗДАНИЯ РЕЛЬЕФНО-ФАЗОВОЙ ГОЛОГРАФИЧЕСКОЙ ЗАЩИТНОЙ МЕТКИ Российский патент 1998 года по МПК B42D15/00 B42D15/10 

Изобретение относится к полиграфии и может использоваться при изготовлении печатной продукции, такой как банкноты, чеки, кредитные карточки, идентификационные документы и другие ценные бумаги, с целью защиты от подделок.

В настоящее время широко используются способы защиты ценных документов от подделок путем нанесения на них защитных меток в виде голографических изображений. При этом в зависимости от используемого метода создания голограммы защитные свойства получаемого изображения различны.

Известен способ создания защиты голографической метки, заключающийся в том, что на пластину из оптического фоторезиста экспонируют аналоговую голограмму и затем проявляют [1].

Известный способ позволяет получить простым методом объемное изображение, однако не обладает достаточно высокой защищенностью от воспроизведения защищающего изображения.

Известен также способ защитных голографических меток, выбранный в качестве прототипа, включающий экспонирование голограммы на пластинку из электронного фоторезиста, размещенную на подслое из непрозрачного для оптического излучения материала [2].

Этот способ обеспечивает полную воспроизводимость и высокую устойчивость к несанкционированному воспроизведению защищающего изображения, а также высокую контролируемость процесса.

Однако данный метод практически неосуществим для объемных объектов, что составляет одну из привлекательных особенностей объемных голограмм.

Техническая задача изобретения - разработка способа создания рельефно-фазовой голографической защитной метки, сочетающего преимущества аналогового и электронного методов получения голограммы и позволяющего тем самым создавать защитные метки, обладающие внешней привлекательностью и обеспечивающие повышенную защищенность документов, для которых они используются.

Поставленная задача решается в способе получения рельефно-фазовой голографической защитной метки, заключающемся в том, что на слой электронного фоторезиста, размещенный на подслое, выполненном из непрозрачного для оптического излучения материала, экспонируют электронную голограмму и затем проявляют, в котором, согласно изобретению после проявления на полученный рельеф электронной голограммы наносят слой оптического фоторезиста, экспонируют аналоговую голограмму на участках оптического фоторезиста, не перекрывающих рельеф электронной голограммы, затем осуществляют дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста с экспозицией, заведомо большей, чем необходимо для экспонирования аналоговой голограммы, и снова проявляют. При этом перед нанесением слоя оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы переводят на подслой, а дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста осуществляют со стороны подслоя либо перед нанесением слоя оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы задубливают через маску и дополнительно проявляют, а дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста осуществляют через ту же маску.

Нанесение на полученный рельеф электронной голограммы слоя оптического фоторезиста, экспонирование на нем аналоговой голограммы на участках, не перекрывающих рельеф электронной голограммы, с последующей дополнительной засветкой слоя оптического фоторезиста с экспозицией, заведомо большей, чем необходимо для экспонирования аналоговой голограммы, и повторная проявка позволяют создавать защитные метки с двумя типами голограмм - электронной и аналоговой - и тем самым сочетать их преимущества: повысить защищенность метки путем нанесения дополнительных защитных элементов, надписей, линз и т.д. , что дает электронный метод; обеспечить привлекательность метки путем получения объемного изображения, что позволяет аналоговый метод.

Перенесение рельефа электронной голограммы на подслой при осуществлении дополнительной засветки слоя оптического фоторезиста со стороны подслоя обеспечивают высокую точность разделения участков аналоговой и электронной голограмм и эффект полупрозрачности электронной голограммы.

Задубливание рельефа электронной голограммы через маску с последующим проявлением и засветкой слоя оптического фоторезиста через ту же маску позволяют уменьшить разницу высот аналоговой и электронной частей голограммы и тем самым улучшить технологичность получения метки на защищаемом документе.

На фиг. 1 и 2 приведены чертежи защитных меток, поясняющие способ создания рельефно-фазовой голографической защитной метки.

Способ получения рельефно-фазовой голографической защитной метки реализуется следующим образом.

На слой 1 электронного фоторезиста, например, ФП - 617, замещенный на подслое 2, выполненном из непрозрачного для оптического излучения материала, например из хрома, экспонируют электронную голограмму одним из известных способов, например, методом электронной литографии на установке ZBA-21. Затем осуществляют проявку голограммы путем помещения в раствор проявителя.

После проявления на полученный рельеф электронной голограммы наносят слой 3 оптического фоторезиста, например, S-1800.

На слое 3 оптического фоторезиста, на участках, не перекрывающих рельеф электронной голограммы, экспонируют аналоговую голограмму, которую дополнительно засвечивают с экспозицией, заведомо большей, чем необходимо для экспонирования аналоговой голограммы. Полученную голограмму проявляют.

Электронная и аналоговая голограммы могут быть сформированы либо на разных уровнях, либо на одном.

В первом случае (фиг. 1) перед нанесением слоя 3 оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы переводят на подслой 2, а дополнительную засветку слоя 3 оптического фоторезиста осуществляют со стороны подслоя 2.

Перевод полученного рельефа на подслой 2 может быть осуществлен путем удаления материала слоя 1 электронного фоторезиста на всю его толщину, например, методом травления, и последующего удаления остатков слоя 1 электронного фоторезиста путем промывки. В этом случае дополнительную засветку слоя 3 оптического фоторезиста ведут со стороны подслоя 2.

Во втором случае (фиг. 2) после проявления полученный рельеф электронной голограммы задубливают через маску, например, на основе пластины ФПР. Задубливание осуществляют, например, путем подсвечивания жестким ультрафиолетовым излучением. Далее маску снимают, а незадубленные участки удаляют повторным проявлением.

После экспонирования аналоговой голограммы слой 3 оптического фоторезиста накрывают той же маской, дополнительно засвечивают, а затем проявляют.

Полученные таким образом метки наносят на защищаемый документ одним из известных методов.

Изобретение заключается в том, что на слой электронного фоторезиста, размещенный на подслое, выполненном из непрозрачного для оптического излучения материала, экспонируют электронную голограмму и затем проявляют. После проявления на полученный рельеф электронной голограммы наносят слой оптического фоторезиста, экспонируют аналоговую голограмму на участках оптического фоторезиста, не перекрывающих рельеф электронной голограммы, затем осуществляют дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста с экспозицией, заведомо большей, чем необходимо для экспонирования аналоговой голограммы, и снова проявляют. При этом перед нанесением слоя оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы переводят на подслой, а дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста осуществляют со стороны подслоя, либо перед нанесением слоя оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы задубливают через маску и дополнительно проявляют, а дополнительную засветку слоя оптического Фоторезиста осуществляют через ту же маску. Изобретение обеспечивает повышение защищенности документов. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

1. Способ получения рельефно-фазовой голографической защитной метки, заключающийся в том, что на слой электронного фоторезиста, размещенный на подслое, выполненном из непрозрачного для оптического излучения материала, экспонируют электронную голограмму и затем проявляют, отличающийся тем, что после проявления на полученный рельеф электронной голограммы наносят слой оптического фоторезиста, экспонируют аналоговую голограмму на участках оптического фоторезиста, не перекрывающих рельеф электронной голограммы, осуществляют дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста с экспозицией, заведомо большей, чем необходимо для экспонирования аналоговой голограммы, и снова проявляют. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что перед нанесением слоя оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы переводят на подслой, а дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста осуществляют со стороны подслоя. 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что перед нанесением слоя оптического фоторезиста полученный рельеф электронной голограммы задубливают через маску, дополнительно проявляют, а дополнительную засветку слоя оптического фоторезиста осуществляют через ту же маску.