МАСКИРОВОЧНЫЙ МАТЕРИАЛ Российский патент 2004 года по МПК F41H3/00 

Описание патента на изобретение RU2229089C2

Изобретение относится к маскировке, а конкретно - к материалам для изготовления маскировочной одежды, маскировочных покрытий и других устройств, выполняющих маскировочные функции.

Известен патент США №4656065, F 41 H 3/00, 1987, в котором предложено для имитации трехмерной текстуры поверхности естественного фона использовать камуфляжный рисунок, в котором пятна различных оттенков соответствуют различным участкам светотеневого рисунка естественного фона. При изменении характера естественного освещения меняется соотношение яркости освещенных и неосвещенных (теневых) участков естественного трехмерного фона, то есть контраст (Всвт)/Всв, где Всв - яркость освещенного участка фона, а Вт - яркость неосвещенного участка фона.

В ясный солнечный день величина контраста между освещенными и неосвещенными поверхностями естественных трехмерных объектов выше, чем в пасмурную погоду. Напротив, контраст между темными и светлыми пятнами плоского камуфляжного рисунка остается постоянным, так как определяется постоянным соотношением коэффициентов отражения светлых и темных участков поверхности. Это приводит к отличию видимой текстуры естественного фона от видимой текстуры камуфляжа, что определяет недостаток указанного решения.

Известен патент США №3069796, 1962, в котором предложен трехмерный камуфляжный материал, образующийся в результате прорезывания в исходном плоском материале периодического набора разрезов, что при растягивании материала создает трехмерную структуру, имитирующую растительный фон.

Недостатком указанного решения является снижение прочности материала, а также невозможность создания мелкомасштабной текстуры.

Известен патент США №2502926, 1950, в котором для создания декоративного рельефа на поверхности плоского материала предлагается нанесение пасты поливинилхлорида.

Однако нанесенный рисунок, выполняя декоративные функции, не имитировал естественного фона и не мог использоваться для маскировки.

Известен патент США №4243709, В 32 В 003/10, 1981, в котором предложен камуфляжный материал, образованный нанесением на материю нескольких слоев пластизоля, образующих пятна различного цвета случайной формы.

Предложенный материал имел гладкую поверхность, что приводит к независимости величины контраста светлых и темных участков поверхности от интенсивности и характера естественного освещения и определяет недостаток данного решения. Данный аналог по совокупности признаков является наиболее близким к изобретению.

Задачей данного изобретения является улучшение маскировочных свойств маскировочных изделий за счет имитации трехмерной фактуры естественных фонов.

Для решения данной задачи предлагается материал, содержащий тканевую основу и несколько полимерных слоев различного цвета, нанесенных на нее. Каждый слой наносится в виде случайно расположенных пятен неправильной формы. При этом полимерные слои имеют различную толщину, и поэтому поверхность предлагаемого материала имеет рельеф. Предлагаемое решение лишено недостатков прототипа, поскольку образуемый выпуклыми участками полимерного слоя светотеневой рисунок соответствует по своему контрасту светотеневому рисунку естественного фона, и это соответствие сохраняется при изменении интенсивности и характера естественного освещения.

На чертеже схематически изображено сечение предлагаемого материала, содержащего тканевую основу 1 и два полимерных слоя 2.

Глубина рельефа L должна быть от 0,5 до 5 мм, чтобы наилучшим образом имитировать пространственную структуру естественного фона, не повышая при этом жесткость материала выше эргономически допустимых значений.

Рельефные полимерные слои могут быть, например, слоями поливинилхлорида, полученными путем нанесения пасты (пластизоля), например, ротационно-шаблонным способом. Ротационно-шаблонный метод печати пастами ПВХ широко применяется в промышленности.

Похожие патенты RU2229089C2

название год авторы номер документа
Маскировочный материал 2015
  • Строчков Артем Валентинович
  • Строчков Валентин Степанович
  • Строчкова Наталья Валентиновна
RU2676162C2
ЗИМНЯЯ ОДЕЖДА С КАМУФЛИРОВАННЫМ МЕХОМ 2001
  • Сильников М.В.
  • Ватник М.П.
  • Чернышев С.В.
RU2199710C2
СПОСОБ МАСКИРОВКИ ПОСРЕДСТВОМ РАСТРОВОГО КАМУФЛЯЖА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 1999
  • Сильников М.В.
  • Ватник М.П.
RU2150658C1
УСТРОЙСТВО АДАПТИВНОЙ МАСКИРОВКИ ОБЪЕКТОВ 2014
  • Афанасьева Елена Михайловна
  • Ельцов Олег Николаевич
  • Петещенков Эдуард Викторович
RU2552978C1
СПОСОБ МАСКИРОВКИ ПОСРЕДСТВОМ ОРИЕНТИРОВАННОГО РАСТРОВОГО КАМУФЛЯЖА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 2000
  • Сильников М.В.
  • Сердцев Н.И.
  • Аверченко А.М.
  • Ватник М.П.
RU2204789C2
Способ противодействия оптико-электронной разведке 2016
  • Щербаков Виталий Алексеевич
  • Антонов Юрий Петрович
RU2632271C2
МНОГОСЛОЙНЫЙ МАСКИРОВОЧНЫЙ МАТЕРИАЛ 2013
  • Строчков Артем Валентинович
  • Строчков Валентин Степанович
  • Зенкин Сергей Михайлович
RU2558347C2
Маскировочное и защитное устройство для военной техники 2019
  • Матиенко Виктор Иванович
  • Шишов Сергей Владимирович
  • Козлов Александр Германович
RU2734302C1
МАСКИРОВОЧНОЕ ПОКРЫТИЕ 2006
  • Шевчук Руслан Семенович
RU2338993C2
МАСКИРОВОЧНАЯ СЕТЬ 2014
  • Молохина Лариса Аркадьевна
  • Филин Сергей Александрович
RU2546470C1

Реферат патента 2004 года МАСКИРОВОЧНЫЙ МАТЕРИАЛ

Изобретение относится к области военной техники, конкретно к материалам для изготовления маскировочных устройств. Маскировочный материал содержит тканевую основу и несколько нанесенных на нее полимерных слоев различного цвета и толщины, образующих маскировочный рисунок в виде случайно расположенных пятен неправильной формы. Полимерные слои формируют рельефную поверхность материала с глубиной рельефа 0,5...5 мм. Указанный маскировочный материал обеспечивает улучшение маскировочных свойств. 1 ил.

Формула изобретения RU 2 229 089 C2

Маскировочный материал, содержащий тканевую основу и несколько полимерных слоев различного цвета, нанесенных на указанную тканевую основу и образующих маскировочный рисунок в виде случайно расположенных пятен неправильной формы, отличающийся тем, что указанные полимерные слои выполнены различной толщины и образуют рельефную поверхность с глубиной рельефа 0,5...5 мм.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2004 года RU2229089C2

US 4243709, 06.01.1981
МАСКИРОВОЧНОЕ ПОКРЫТИЕ 1992
  • Булахов А.Г.
  • Мельниченко А.С.
  • Говша В.В.
RU2007687C1
US 4656065, 07.04.1987
US 4868019, 19.09.1989.

RU 2 229 089 C2

Авторы

Сильников М.В.

Ватник М.П.

Чернышев С.В.

Даты

2004-05-20Публикация

2001-01-09Подача