Изобретение относится к области газового анализа, в частности к детектирующим устройствам, применяемым для регистрации и измерения содержания микропримесей оксида углерода и других газов. Изобретение может быть использовано в экологии.
Известен датчик (детектор) по теплопроводности, действие которого основано на различии теплопроводности паров вещества и газа-носителя (Вяхирев Д.А., Шушукова А.Ф. Руководство по газовой хроматографии. М.: Высш. школа, 1987. - 287 с.).
Однако такой датчик (детектор) чувствителен только к веществам с теплопроводностью, близкой к теплопроводности газа-носителя.
Известен также полупроводниковый газовый датчик на основе оксида индия (In2O3), легированного оксидами щелочных металлов (Vamaura Hiroyuki, Tamaki Jun, Moriya Koji, Miura Norio, Vamazoe Noboru // J. Electrochem. Soc. - 1996. - V.43. N2. P.36-37). Он позволяет детектировать 6,7-0,05 Па CO во влажном воздухе при 300°C.
Недостатком данного устройства является его недостаточная чувствительность для контроля содержания оксида углерода, высокая рабочая температура - 300°C и трудоемкость его изготовления.
Ближайшим техническим решением к изобретению является газовый датчик, состоящий из непроводящей подложки и поликристаллической пленки антимонида индия, легированного селенидом цинка, с нанесенными на ее поверхность металлическими электродами (патент РФ №2206083. М.Кл. 7G01 №27/12).
Недостатком известного устройства является его недостаточная чувствительность при контроле микропримесей оксида углерода.
Задачей изобретения является создание датчика, позволяющего, при повышенной чувствительности и технологичности его изготовления, определять содержание микропримесей оксида углерода в газовых смесях при комнатной температуре.
Поставленная задача решена за счет того, что в известном газовом датчике, содержащем полупроводниковое основание и подложку, согласно изобретению, полупроводниковое основание выполнено в виде наноразмерной пленки теллурида кадмия, легированного селенидом цинка, а подложкой служит электродная площадка пьезокварцевого резонатора.
Сущность изобретения поясняется чертежами, где представлены на фиг.1 - конструкция заявляемого датчика, на фиг.2 - кривая зависимости величины адсорбции оксида углерода от температуры, на фиг.3 - градуировочная кривая зависимости изменения частоты колебания пьезокварцевого резонатора с нанесенной полупроводниковой наноразмерной пленкой (Δf) в процессе адсорбции при комнатной температуре от начального давления CO (PCO). Последняя наглядно демонстрирует его чувствительность.
Датчик состоит из полупроводникового основания 1, выполненного в виде наноразмерной пленки теллурида кадмия, легированного селенидом цинка, нанесенной на электродную площадку 2 пьезокварцевого резонатора 3 (фиг.1).
Принцип работы такого датчика основан на адсорбционно-десорбционных процессах, протекающих на полупроводниковой пленке, нанесенной на электродную площадку пьезокварцевого резонатора, и вызывающих изменение его массы, и соответственно, частоты.
Работа датчика осуществляется следующим образом.
Датчик помещают в находящуюся при комнатной температуре камеру (ею может быть обычная стеклянная трубка), через которую пропускают (или в которой выдерживают) анализируемый на содержание CO газ. При контакте пропускаемого газа с поверхностью полупроводниковой пленки CdTe(ZnSe) происходит избирательная адсорбция молекул CO, увеличение массы композиции «пленка-кварцевый резонатор» и изменение частоты колебания последнего. По величине изменения частоты, с помощью градуировочных кривых можно определить содержание оксида углерода в исследуемой среде.
Из анализа приведенной на фиг.3 типичной градуировочной кривой, полученной с помощью заявляемого датчика и выражающей зависимость изменения Δf от содержания оксида углерода (PCO), следует: заявляемый датчик позволяет определять содержание оксида углерода (угарного газа) с чувствительностью, в несколько раз превышающей чувствительность известных датчиков. Кроме того, существенно упрощается технология изготовления датчика, т.к. отпадает необходимость в нанесении электродов.
Малые габариты устройства (рабочий объем менее 0,2 см3) в сочетании с малой массой пленки - адсорбента позволяют снизить постоянную датчика по времени до 10-20 мс.
Конструкция заявляемого датчика позволяет также улучшить и другие характеристики: быстродействие, регенерируемость, способность работать не только в статическом, но и динамическом режиме.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Полупроводниковый анализатор оксида углерода | 2016 |
|
RU2631010C2 |
ГАЗОАНАЛИЗАТОР УГАРНОГО ГАЗА | 2009 |
|
RU2395799C1 |
НАНОПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ГАЗОВЫЙ ДАТЧИК | 2010 |
|
RU2458338C2 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ДАТЧИК ОКСИДА УГЛЕРОДА | 2016 |
|
RU2637791C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ГАЗОВЫЙ ДАТЧИК МИКРОПРИМЕСЕЙ АММИАКА | 2015 |
|
RU2607733C1 |
ДАТЧИК УГАРНОГО ГАЗА | 2006 |
|
RU2326371C1 |
ДАТЧИК УГАРНОГО ГАЗА | 2020 |
|
RU2733799C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ДАТЧИК ОКСИДА УГЛЕРОДА | 2019 |
|
RU2739146C1 |
НАНОПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ГАЗОАНАЛИЗАТОР | 2010 |
|
RU2423688C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ГАЗОВЫЙ ДАТЧИК МИКРОПРИМЕСЕЙ КИСЛОРОДА | 2015 |
|
RU2610349C1 |
Изобретение относится к области газового анализа, в частности к детектирующим устройствам, для регистрации и измерения содержания оксида углерода и других газов. Датчик содержит полупроводниковое основание и подложку. Полупроводниковое основание выполнено из наноразмерной пленки теллурида кадмия, легированного селенидом цинка. Подложкой служит электродная площадка пьезокварцевого резонатора. Изобретение обеспечивает повышение чувствительности датчика и технологичности его изготовления. 3 ил.
Нанополупроводниковый газовый датчик, содержащий полупроводниковое основание, легированное селенидом цинка, отличающийся тем, что полупроводниковое основание выполнено из наноразмерной пленки теллурида кадмия.
СПОСОБ БЕТОНИРОВАНИЯ МОНОЛИТНЫХ ЖЕЛЕЗОБЕТОННЫХ СТРОИТЕЛЬНЫХ КОНСТРУКЦИЙ, ПРОТЯЖЕННЫХ ПО ПЛОЩАДИ | 2001 |
|
RU2208083C2 |
ПЬЕЗОРЕЗОНАНСНЫЙ ГАЗОВЫЙ ДАТЧИК | 2004 |
|
RU2274854C1 |
ДАТЧИК ДИОКСИДА АЗОТА | 2004 |
|
RU2274853C1 |
ГАЗОВЫЙ ДАТЧИК | 2000 |
|
RU2178558C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ГАЗОВЫЙ ДАТЧИК | 1999 |
|
RU2178559C2 |
JP 11051892 A, 28.02.1999 | |||
US 2005129573 A1, 16.06.2005 | |||
WO 2008039165 A2, 03.04.2008. |
Авторы
Даты
2011-06-27—Публикация
2010-02-08—Подача