Изобретение относится к технике измерения тепловых характеристик полупроводниковых изделий (ППИ) в виде полупроводниковых приборов (ППП) и интегральных схем (ИС) и может быть использовано для контроля тепловых параметров ППИ как на этапах их разработки и производства, так и на входном контроле предприятий-потребителей ППИ.
Ключевой задачей контроля тепловых свойств ППИ является определение параметров их тепловой эквивалентной схемы (см. фиг. 1, б), по которым можно рассчитать температуру активной области (p-n-перехода) ППИ в любом заданном (в том числе, динамическом) режиме работы. В приближении одномерной тепловой эквивалентной схемы ППИ задача сводится к определению набора значений тепловых сопротивлений (RTi) и теплоемкостей (CTi) или тепловых постоянных времени (τTi = RTi·CTi) отдельных элементов и слоев материалов, составляющих конструкцию ППИ (фиг. 1, а). Указанные параметры могут быть определены по переходной тепловой характеристике (ПТХ) H(t) ППИ, то есть по изменению температуры Δθn(t) активной области прибора при его саморазогреве рассеиваемой электрической мощностью заданного уровня P0, включаемой в момент времени t=0: .
Следует отметить, что для большинства практических приложений, в том числе для контроля качества сборки ППИ, достаточно определить параметры двухзвенной тепловой эквивалентной схемы ППИ (см. фиг. 2): тепловое сопротивление и теплоемкость переход-корпус, которые представляют собой тепловое сопротивление и теплоемкость слоев конструкции между активной областью (p-n переходом) и основанием корпуса; тепловое сопротивление корпус-среда и теплоемкость корпуса ППИ [см., например, Сергеев В.А., Ходаков А.М. Нелинейные тепловые модели полупроводниковых приборов. - Ульяновск : УлГТУ, 2012. - 159 с.].
Известен способ измерения ПТХ ППИ с p-n-переходами по кривой остывания (см. Давидов П. Д. Анализ и расчет тепловых режимов полупроводниковых приборов. М.: Энергия. - 1967. - стр. 33), состоящий в том, что исследуемый ППИ разогревают электрической мощностью известного уровня до установившегося теплового режима, затем разогревающую мощность отключают, и в заданные моменты времени измеряют изменение температуры p-n-перехода по изменению температурочувствительного параметра (ТЧП), в качестве которого чаще всего используют прямое падение напряжения на p-n-переходе ППИ при малом прямом токе. Искомые тепловые параметры в этом способе определяются, фактически, графическим способом по углу наклона ПТХ, построенной в полулогарифмическом масштабе, на участках быстрого и медленного роста.
Недостатками этого способа является большое время измерения, определяемое предварительным разогревом ППИ до установившегося теплового режима и последующим охлаждением до температуры окружающей среды, а также большая погрешность измерения, обусловленная несимметричностью кривых охлаждения и нагрева ППИ из-за различия формы тепловых потоков при охлаждении и нагреве ППИ: нагрев ППП осуществляется источниками тепла на поверхности кристалла, а отвод тепла - со всех нагретых поверхностей конструкции ППИ.
Производители электронной компонентной базы (International Rectifier, Infineon, Fairchild, STMicroelectronics и др.) для измерения тепловых параметров ППИ используют способ по стандарту MIL-STD-750-3 [Test Methods For Semiconductor Devices. MIL-STD-750-3. Department of Defense.], основанный на преобразовании ПТХ. В этом способе контролируемое ППИ разогревают последовательностью импульсов греющей электрической мощности заданного уровня P0 с изменяющейся по логарифмическому закону длительностью. После каждого импульса длительностью ti по изменению ТЧП определяют приращение температуры перехода Δθni(ti) и вычисляют ПТХ H(ti) как отношение приращения температуры перехода к греющей мощности P0. Параметры тепловой эквивалентной схемы ППИ в этом способе определяют по минимумам и максимумам первой производной ПТХ, полученной путем численного дифференцирования.
Известен способ определения параметров тепловой эквивалентной схемы КМОП цифровых интегральных схем (ЦИС) по ПТХ [Сергеев В.А., Тетенькин Я.Г. Оценка адекватности тепловой модели КМОП цифровых интегральных схем по переходным тепловым характеристикам // Изв. вузов. Электроника. - 2017. -№4. - С. 350-360.]. В этом способе ЦИС непрерывно разогревается электрической мощностью путем соединения логических элементов ЦИС по схеме кольцевого генератора (КГ), в заданные моменты времени ti после включения КГ измеряют мощность P(ti), потребляемую ЦИС, и приращение температуры Δθni(ti) активной области ЦИС по изменению частоты КГ, используемой в качестве ТЧП. По измеренным значениям Δθni(ti) и P(ti) вычисляют значения ПТХ в заданные моменты времени ti. Параметры тепловой эквивалентной схемы определяют по значениям ПТХ, соответствующим нулям ее второй производной, полученной численным дифференцированием. Для определения тепловых параметров с достаточной точностью необходимо иметь не менее 8-10 значений ПТХ в каждой декаде временной шкалы, при этом значения времени ti задаются с логарифмическим шагом.
Недостатком всех описанных выше способов является большое время измерения, определяемое большим числом отсчетов температуры в процессе разогрева контролируемого ППИ, а также большая погрешность определения тепловых параметров, обусловленная погрешностью численного дифференцирования.
Техническая задача состоит в уменьшение времени и снижении погрешности определения параметров двухзвенной тепловой эквивалентной схемы полупроводниковых изделий.
Технический результат достигается тем, что в способе определения теплового сопротивления переход-корпус полупроводникового изделия, тепловой постоянной времени переход-корпус полупроводникового изделия, теплового сопротивления корпус-среда полупроводникового изделия и тепловой постоянной времени корпус-среда полупроводникового изделия, в котором полупроводниковое изделие разогревают постоянной электрической греющей мощностью заданного уровня P0, в заданные моменты времени ti в процессе разогрева измеряют приращения температуры Δθni(ti) активной области полупроводникового изделия, причем приращения температуры измеряют в моменты времени t1≈τТп-к/2, t2=2t1, t3=3t1, t4≈τТк-с и t5=2t4, а значения теплового сопротивления переход-корпус полупроводникового изделия, тепловой постоянной времени переход-корпус полупроводникового изделия, теплового сопротивления корпус-среда полупроводникового изделия и тепловой постоянной времени корпус-среда полупроводникового изделия находят по формулам:
где , - тепловое сопротивление и тепловая постоянная времени переход-корпус полупроводникового изделия, а - тепловое сопротивление и тепловая постоянная времени корпус-среда полупроводникового изделия.
Сущность изобретения состоит в следующем. В приближении двухзвенной тепловой эквивалентной схемы ППИ изменение температуры активной области (перехода) ППИ после подачи на него в момент времени t=0 импульса греющей мощности будет описываться следующим выражением:
где - тепловая постоянная времени переход-корпус ППИ, - температура перехода ППИ, θ0 - температура окружающей среды, - тепловая постоянная времени корпус-среда ППИ.
Для заданных моментов времени t1≈τп-к/2, t2=2t1, t3=3t1, t4≈τк-с, t5=2t4 с учетом того, что для большинства конструкций современных ППИ выполняется условие τп-к<<τк-с, можно записать
В выражениях (4)-(8) для упрощения громоздких формул введены обозначения и .
Умножая обе части выражения (4) на 2 и 3, и, вычитая из полученных выражений выражения (5) и (6), соответственно, получим два уравнения для нахождения значений параметра a и теплового сопротивления
После деления (10) на (9) нетрудно получить выражение для a:
откуда легко вычисляется значение
при этом значение легко находится, например, из (9):
Если первое слагаемое в правой части выражений (7) и (8) перенести в левую часть, и разделить преобразованное выражение (8) на преобразованное выражение (7), то получим следующее выражение для параметра b:
Уточненное значение τк-с определяем по формуле
а значение соответственно, можно легко выразить из (5)
Технический результат - сокращение времени измерения - достигается за счет того, что в предлагаемом способе необходимо провести всего 5 измерений приращения температуры ППИ в процессе разогрева, при этом не требуется достижения стационарного теплового режима ППИ. А снижение погрешности определения параметров достигается тем, что значения искомых тепловых параметров находятся по результатам измерения из простых арифметических формул.
Заметим, что в предлагаемом способе не требуется выполнения точных равенств t1≈τТп-к/2 и t4≈τТк-с, достаточно примерного равенства. При этом значения тепловых постоянных времени для конкретного типа ППИ можно примерно оценить из предварительных измерений или из паспортных данных ППИ, представляемых предприятием-производителем. Разумеется, способ не применим к ППИ, для которых условие τп-к<<τк-с не выполняется.
Изобретение относится к технике измерения тепловых характеристик полупроводниковых изделий (ППИ) в виде полупроводниковых приборов (ППП) и интегральных схем (ИС) и может быть использовано для контроля тепловых параметров ППИ как на этапах их разработки и производства, так и на входном контроле предприятий-потребителей ППИ. Заявлен способ определения параметров двухзвенной тепловой эквивалентной схемы полупроводникового изделия, в котором полупроводниковое изделие разогревают постоянной электрической греющей мощностью заданного уровня P0. В заданные моменты времени ti в процессе разогрева измеряют приращения температуры Δθni(ti) активной области полупроводникового изделия. С целью уменьшения времени и снижения погрешности определения искомых параметров приращения температуры измеряют в моменты времени t1≈τТп-к/2, t2=2t1, t3=3t1, t4≈τТк-с и t5=2t4, а значения параметров двухзвенной тепловой эквивалентной схемы находят по формулам
где
, , – тепловое сопротивление, тепловая постоянная времени и теплоемкость переход-корпус, а , , – тепловое сопротивление, тепловая постоянная времени и теплоемкость корпус-среда полупроводникового изделия, соответственно. Технический результат - уменьшение времени и снижение погрешности определения параметров двухзвенной тепловой эквивалентной схемы полупроводниковых изделий. 2 ил.
Способ определения теплового сопротивления переход-корпус полупроводникового изделия, тепловой постоянной времени переход-корпус полупроводникового изделия, теплового сопротивления корпус-среда полупроводникового изделия и тепловой постоянной времени корпус-среда полупроводникового изделия, в котором полупроводниковое изделие разогревают постоянной электрической греющей мощностью заданного уровня P0, в заданные моменты времени ti в процессе разогрева измеряют приращения температуры Δθni(ti) активной области полупроводникового изделия, причем приращения температуры измеряют в моменты времени t1≈τТп-к/2, t2=2t1, t3=3t1, t4≈τТк-с и t5=2t4, а значения теплового сопротивления переход-корпус полупроводникового изделия, тепловой постоянной времени переход-корпус полупроводникового изделия, теплового сопротивления корпус-среда полупроводникового изделия и тепловой постоянной времени корпус-среда полупроводникового изделия находят по формулам:
где
- тепловое сопротивление и тепловая постоянная времени переход-корпус полупроводникового изделия, а - тепловое сопротивление и тепловая постоянная времени корпус-среда полупроводникового изделия.
Авторы
Даты
2023-05-29—Публикация
2022-04-18—Подача