Способ изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания Советский патент 1985 года по МПК G02B5/22 

ел с 1 Изобретение относится к оптическому приборостроению,конкретно к технологии изготовления фильтров пропускания, которые могут быть применены в системах лазерной связи и локации. Известен способ формирования узких провалов в спектрах поглощения путем облучения монохроматическим светом твердого, поликристаллического раствора фотохромного вещества, охлажденногойо температуры жидкого гелия о ПроваЛв спектре поглощения возникает благодаря селективному высвечиванию из всей .неоднородно уширенной спектральной полосы примесных молеку л, частота чисто электронного перехода которых попадает в резонанс с лазерным излучением и в которых индуцируется фотохромная трансформация lj . У азанньй способ однако не может быть применен для изготовления узко полосных абсорбционных фильтров про пускания со сложным заданным профилем пропускания, так как спектры поглощения таких систем состоят из небольшого числа узких (менее О , 1 нм линий. Целью изобретения является обеспечение возможности изготовления фильтров с заданным сложным профилем Пропускания. Поставленная цель достигается тем, что в способе изготовления узк полосного абсорбционного фильтра пропускания, включающем формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным облучечием в охлажденном до темпера туры жидкого гелия растворе, раство ряют фотохрбмное вещество в раство02рителе, образующем стекло при охлаж- дении раствора до рабочей температуры фильтра. Для изготовления фильтра подбирают фотохромное вещество и растворитель, образующий стекло при охлажде™ НИИ, так, чтобы полоса чистоэлектронного поглощения примеси перекрьшала заданную полосу пропускания фильтра, Приготовленньй раствор помещают в плоскую кювету толпщной 1-10 мм, охлаждают до рабочей температуры фильтра 2-5 К и облучают лазером, плавно сканируя дпину волны лазера, или на дискретном множестве частот до формирования необходимого профиля пропускания. Пример изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания. Насьщенньй раствоп Н -тетра4-трет-бутилфталоцианина в смеси изобутиловьй спирт с эфиром в соотношении 2:5 по объему (концентрация примеси Ю моль/л) помещают в плоскую кювету толщиной 1-10 мм и охлаждают до 2-5 К. Облучение кюветы оксазиновым лазером на длинах волн 694,2 нм, 696,2 нм и 699 щ (плотность дозы 10 Лж«.) приводит к просветлению кюветы с раствором на этих частотах, т.е. образованию трехполосного абсорбционного фильтра пропускания. Спектральная ширина отдельных полос пропускания нм. Предлагаемьй способ позволяет изготовлять фильтры пропускания- со сложным заданным профилем пропускания, которые по спектральному разрешению превышают лучшие интерференционные фильтры и в отличие от последних позволяют работать в неколлимированных световых пучках.

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УЗКОПОЛОСНОГО АБСОРБЦИОННОГО ФИЛЬТРА ПРОПУСКАНИЯ, включанлций формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным облучением в охлажденном до температуры жидкого гелия растворе, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности изготовления фильтров с. заданным сложным профилем пропускания, фотохромное вещество растворяют в растворителе, образующем стекло при охлажде:НИИ раствора до ;рабочей температуры фильтра.