Облучательная установка Советский патент 1986 года по МПК F21V7/04 

Изобретение относится к светотехнике, в частности к облучательным установкам.

Целью изобретения является повышение концентрации лучистой энергии.

На чертеже изображена облучательная установка.

Облучательная установка включает в себя протяженный источник Е длиной 2f, расположенный вдоль оптической оси концентрирующего отражателя 2 круглосимметрич- ной или цилиндрической формы. На расстоянии h от центра источника излучения 1 вдоль оптической оси прибора расположена зона облучения 3.

Для получения максимальной концентрации лучистой энергии в зоне облучения необходимо, чтобы каждый элемент поверхности отражателя создавал пучок излучения, центр которого совпадал бы с центром зоны облучения, что соответствует обеспечению прохождения биссектрисы отраженного пучка через центр зоны облучения.

Для определения уравнения, описывающего указанный профиль отражателя, можно воспользоваться известным дифференциальным уравнением профильной кривой осесимметричного отражателя, которое имеет вид

3 -tg6

где dy и dx-приращения профиля по соответствующим координатным осям;

б - угол между нормалью к элементу поверхности и осью отражателя.

Из чертежа видно, что о. ф-|- а

где ф и а - углы, характеризующие биссектрисы соответственно падающего и отраженного пучков. В свою очередь падающий луч (ф) можно выразить через углы фз и а4, ограничивающие падающий от источника пу. чок лучей

V3

J - 2

Выражая углы ф ;f4 и ее через координаты X, у текущей точки М, расстояние h между центрами источника и зоны облучения и длину источника 21, получаем искомое дифференциальное уравнение профиля отражателя с указанными свойствами.

-| ,25(arctg - + arctg- +

+ 2arctg-)

Указанное свойство отражателя (симметризация отраженных пучков лучей) можно распространить и на облучатель прожекторного типа. Известные прожекторы имеют параболические отражатели, создающие несимметричные отраженные пучки. Для этого профиль 2 облучателя строится таким образом, чтобы биссектристы отраженных пучков были направлены вдоль оптической оси облучателя. Уравнение такого профиля легко получить из приведенного при

h-00.

Полученные дифференциальные уравнения могут быть решены любыми известными методами при заданных параметрах облучательной установки: h - рассеяния от центра источника до центра зоны облучения, 21 - длины источника излучения; Хо; Uo - координаты любой точки отражателя, например, определяющей его габариты.