Микроскоп Советский патент 1986 года по МПК G02B21/00 G01T5/10 G02B3/02 G02B21/06 

11 Изобретение относится к экспериментальной физике элементарных частиц и может быть использовано в технике трековых детекторов при иссле-л довании свойств элементарных частиц. Цель изобретения - повышение эффективности наблюдения следов частиц, идущих параллельно оптической оси путем обеспечения возможности устранения перемещения слоя ядерной фотоэмульсии вдоль одного направления. На чертенке схематически изобралсен микроскоп, преимущественно для ядерной фотоэмульсии, Микроскоп содержит источник 1 кол лимированного пучка света, центральную шторку 2,, мезооптическую цилиндрическую линзу с направляющей в виде многоугольника, полуцилиндрическую иммерсионную ванну 4, объектив 5, окуляр 6, Позицией 7 обозначен слой ядерной фотоэмульсии. {{икроскоп, преимущественно для ядерной фотоимульсии, функционирует ел е дующим образом. Свет, идущий из источника 1 коллимированного пучка света, проходит через центральную шторку 2, которая задержг-1вает центральную часть пучка света и разбивает пучок света на две части. При проховдении через цилиндр ческую линзу 3 с направляющей в виде многоугольника плоские фронты света превраЕ1,аются в совокупность клиновидных волновьп: фронтов, которыедПре секаясь между собой, проходят через полуцилиндрическую иммерсионную ванну и образуют в месте расположения слоя ядерной фотоэмульсии сильно осBeatenHj o область в виде тонкого листа. Ширина этой области равна диамет pV поля зрения микроскопа, например 2-3 мм, высота равна толщине слоя ядерной фотоэмульсии, т,е, 0,2 мм, а толщина сильно освещенной области равна N/ft.u,.A (где Д длина волны света; о .л. - числовая апертура цилиндрической линзы 3), Например, при оС 0,2 толщина сильно освещенной области равна 2,5 мкм, Указанная сильно освещенная облас является областью сканирования слоя ядерной фотоэмульсии. Если след частицы, идущий параллельно оптической оси микроскопа, попадает в указанную область сканирования, то рассеянный свет идет в объектив 5 одновременно 1 от всех .участков такого следа частицы. Для этого достаточно, чтобы апер5 равняласьс /2 Д/h тура объектива (где h - толщина слоя ядерной фотоэмульсии) , Для / 0,5 мкм, h 200 мкм, Д 0,1. Б этик условиях разрешение объектива 5 ухудшается до 5 мкм, однако эффективная разрешающая способность микроскопа определяется толщиной сильно освещенной области и- составляет не меньше 2,5 мкм. В процессе сканирования слоя ядерной фотоэмульсии с целью поиска и оценки координат вертикально идущих следов частиц слой ядерной фотоэмульсии перемещают только вдоль одной координаты; такую операцию повторяют для других полосок, ширина которых равна диаметру поля зрения микроскопа. При этом просмотру подвергается не одна строка, а одновременно захватываются много строк.. Число строк в полосе сканирования равно числу элеТчентов разрешения, у1у1ещающихся в поле зрения микроскопа, В микроскопе, ; преимущественно для ядерной фотоэмульсии существенно повышена эффективность, наблюдения следов частиц, идущих параллельно оптической оси микроскопа. Это выражается в том, что вертикально идущий след частицы, попавший в освещаемую область, вспыхивает на всю свою длину, равную толп1,ине ядерной фотоэмульсии, при этом полностью устраняются операции сканирования по полю зрения вдоль одной координаты, а также по глубине ядерной фотоэмульсии. Одновременно достигается высокое отношение сигнала к шуму. Формула изобретения Микроскоп, преимущественно для ядерной фотоэмульсии, содержащий последовательно располо;кенные вдоль оптической оси микроскопа источник коллимированного пучка света,центральную шторку, симметрично расположенную относительно указанной оси, мезооптическу.ю линзу, плоская поверхность которой обращена к источнику, а также объектив, окуляр и столик для размещения слоя ядерной фотоэмульсии, установленные с возможностью их взаимного перемещения, отличающийся тем, что, с целью,повьш ення эффективности паблюде.ния следов частиц, идущих парал.тельно оптической оси путем / 3 12738614 обеспечения возможности устранения Ь hx/L , перемещения слоя ядерной фотоэмульсии вдоль одного направления, мезо- где h - толщина слоя ядерной фотооптическая линза выполнена цилиндри-эмульсии } L - расстояние от плоской ческой, ее направляющая имеет вид 5поверхности цилиндрической мезооптимногоугольника, при этом каждый от-ческой линзы до слоя ядерной фоторезок многоугольника касателен к ци- эмульсии, а также введена полуцилиндлиндрической поверхности линзы, арическая иммерсионная ванна, распоего высота Д на расстоянии X от пло- . ложейная в непосредственном конскости симметрии мезооптической цилин Qтакте со слоем ядерной фотоэдрической линзы выбрана из условия:мульсии.