УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБЛУЧЕНИЯ ЖИДКОСТИ УСКОРЕННЫМИ ЭЛЕКТРОНАМИ Советский патент 1994 года по МПК H05H7/00 H01J37/00 

Изобретение является дополнительным к изобретению по авт.св. N 1156530 и может быть использовано в различных отраслях народного хозяйства при облучении жидких сред ускоренными электронами, в частности при радиационно-химической очистке сточных вод (СВ).

Целью изобретения является повышение производительности и надежности.

На фиг.1 показано предлагаемое устройство, общий вид; на фиг.2 - то же, разрез А-А на фиг.1.

Устройство содержит источник электронов 1, конусный раструб 2, фольгу 3 выпускного окна, радиационно-химический аппарат (РХА) 4 с входным коллектором 5 и установленными на нем тарельчатыми кольцами 6-9, попарно образующими сопловые насадки. В коллекторе 5 выполнен ряд вертикальных отверстий для подачи газа от входного, отверстия в две раздаточные полости - верхнюю и нижнюю. Кроме того, устройство содержит сменный отражатель струи 10.

Устройство работает следующим образом.

Пучок электронов, генерируемый источником 1, через выпускное окно раструба 2, защищенное фольгой 3, поступает в рабочий объем аппарата 4. Одновременно через входной коллектор 5 в аппарат подается облучаемая жидкость, которая по радиальным отверстиям коллектора 5 поступает в полость между кольцами 6 и 7 и через сопловое отверстие, образованное коническими рабочими кромками колец 6 и 7, вытекает непрерывной круговой струей, перпендикулярной пучку электронов, в зону облучения. В этой кольцевой зоне происходит процесс радиационно-химической очистки. Кроме этого через сопловые отверстия, образованные попарно тарельчатыми кольцами 6-8, а также кольцом 8 и фланцем коллектора 5, в зону облучения подается тремя воронкообразными струями газ, регулирующий состав газовой среды в зоне облучения, стабилизирующий форму струи облучаемой жидкости, охлаждающий фольгу и оберегающий ее от брызг жидкости.

Для регулирования толщины струи жидкости и газа тарельчатые кольца 6, 7, 8 и 9, а также отражатель струи 10 могут перемещаться вдоль оси РХА.

Таким образом, предлагаемое устройство для облучения жидкости позволяет повысить производительность процесса очистки СВ за счет повышения радиационно-химического выхода разложения загрязнений в присутствии воздуха, кислорода или другого газа - окислителя или восстановителя, а также за счет стабилизации формы непрерывной свободной круговой струи; повысить технико-эксплуатационные показатели устройства за счет предотвращения коррозии и разрыва фольги выпускного окна облучателя.

Изобретение может быть использовано в различных отраслях народного хозяйства, в частности при радиационно - химической очистке сточных вод, и является дополнительным к авт. св. N 1156530. Цель изобретения - повышение производительности и надежности устройства. Пучок электронов через выпускное окно раструба 2, защищенное фольгой 3, поступает в рабочий объем радиационно - химического аппарата 4. Через коллектор 5 подается облучаемая жидкость, которая поступает в полость между тарельчатыми кольцами (К) 6 и 7 и через сопловое отверстие, образованное коническими рабочими кромками К 6 и 7, вытекает непрерывной круговой струей, перпендикулярной пучку электронов, в зону облучения. Кроме того, через сопловые отверстия, образованные попарно К 6, 8 и 7, 9, а также кольцом 8 и фланцем коллектора 5 в зону облучения подается газ, стабилизирующий форму струи облучаемой жидкости. Наличие сопловых насадок, образованных К 6, 7, 8 и 9, а также оснащение устройства отражателем струи 10 для регулирования толщины струи жидкости и газа, установленного также как и К 6, 7, 8 и 9 с возможностью вертикального перемещения, повышает радиационно - химический выход разложения загрязнений в присутствии воздуха, кислорода и стабилизирует форму непрерывной свободной круговой струи. Кроме того, предотвращается коррозия и разрыв фольги 3 выпускного окна облучения. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБЛУЧЕНИЯ ЖИДКОСТИ УСКОРЕННЫМИ ЭЛЕКТРОНАМИ по авт. св. N 1156530, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности и надежности, радиационно-химический аппарат снабжен одной или несколькими сопловыми насадками для кольцевой подачи газа в зону облучения, расположенными над или по обе стороны от насадки, подающей жидкость, и выполненными с возможностью обдува как фольги выпускного окна, так и струи жидкости. 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что радиационно-химический аппарат снабжен отражателем струи жидкости, расположенным снаружи зоны облучения, при этом между стенкой РХА и отражателем образована кольцевая щель, сообщающая полость радиационно-химического аппарата над струей жидкости с остальным объемом.