Способ фотографического нанесения структуры экрана электронно-лучевой трубки Советский патент 1988 года по МПК H01J9/227 

Изобретение относится к области изготовления электронно-лучевых трубок, а именно к способу фотографического нанесения структуры экрана электронно-лучевой трубки с использованием дискретно-элементного оптического фильтра, и, в частности, может быть использовано при изготовлении многолучевых цветныз: кинескопов. Структура экрана может представлять собой светопоглощающую матрицу или люминофорные элементы смотрового экрана.

Целью изобретения является умень- шение времени экспонирования и упрощение способа за счет обеспечения возможности стационарного выполнения светопропускаюгцего фильтра коррекции интенсивности.

На фиг. 1 схематично изображена экспозиционная камера, которая может использоваться при реализации способа, разрез; на фиг. 2 - горизонтальная проекция фрагмента нового полу- тонового дискретно-элементного фильтра коррекции интенсивности при сравнительно большом шаге в направлениях осей X и у; на фиг. 3 - то же, при сравнительно малом шаге; на фиг. 4горизонтальная проекция графика желаемого пропускания света для нового фильтра коррекции интенсивности; на фиг. 5 - горизонтальная проекция фрагмента светочувствительного слоя, используемого для изготовления негативного шаблона желаемого фильтра после контактного экспонирования от двух различных ф этошаблонов; на фиг. 6 - горизонтальная проекция фрагмента фильтра коррекции интенсивности, выполненного по фрагменту негативного шаблона, представленному на фиг. 5.

Реализовать способ можно при помо щи экспозиционной камеры (фиг. О, содержащей источник I света, проекци ругащий световой поток 2 в направлени светочувствительного слоя 3, нанесенного на внутреннюю поверхность лицевой панели 4 электронно-лучевой труб ки. Световой поток 2 проходит через светопропускающий фильтр 5 коррекции интенсивности, размещенный на прозрачной стеклянной опоре 6, через корректирующую линзу 7, представляющую оптический рефрактор, и через фотографический щаблон 8 (апертурная маска, установленная на панели 4).

IQ

15 20

25 30с до

.с

50

55

На фиг. 2 представлен фрагмент дискретно-элементного фильтра 9 коррекции интенсивности, который можно использовать в предлагаемом способе. Фильтр 9 содержит практически квадратные непрозрачные элементы 10 на прозрачном основании 1. Квадратные элементы 10 практически равномерно разнесены друг от друга вдоль параллельных центровых линий 12 и 13, находящихся на расстоянии около 0,38мм в направлениях х и у. Размер элементов 10 меняется примерно от 0,038 до 0,34 мм. На фиг. 2 шаг показан одинаковым в направлениях х и у, однако он может быть различным. При использовании фильтра 9 с дискретными элементами 10 минимальной ширины а (в направлении х) и длины b (в направлении у) около 0,038 мм локальная область обладает пропусканием примерно 99%.

На фиг. 3 показан фрагмент еще одного дискретно-элементного фильтра 14 коррекции интенсивности, который можно использовать в предлагаемом способе. Фильтр 14 содержит практически квадратные непрозрачные элементы 15 на прозрачном основании 16. Элементы 15 размещаются на центровых линиях 17, смещенных друг от друга примерно на 0,13 мм, и на параллельных центровых линиях 18, разнесенных примерно на 0,13 мм. Размер элементов 15 меняется примерно от 0,038 до 0,10 мм. При использовании фильтра 14 с дискретными элементами 15 минимальной ширины а и длины b локальные области обладают пропусканием около 90%. Благодаря этому фильтр 14 коррекции интенсивности можно применять при фотографическом экспонировании без движения относительно изготовляемой структуры экрана.

Этот момент важен при изготовлении точечных структур, например экранов с гексагональным набором люминофорных элементов. Однако время экспозиции здесь не укорачивается.

На фиг. 4 представлен график 19 желаемого светопропускания рабочего фильтра. Контурные линии 20 обозначают точки одинакового светопропускания в процентах. Изменение светопропускания является плавным и непрерывным. ПрО(1)или пропускания вдоль разнесенных параллельных линий 21 с известным шагом в направлении х подаются

в оптическую гравировальную машину, в результате вырабатывается линейный растр. Это значит, что ширина каждой линии меняется в соответствии с желаемым пропусканием, причем наибольшее пропускание обеспечивается в самом узком участке линии. Профили пропускания вдоль параллельных разнесенных линий 22 с известным шагом в направлении у также подаются в оптическую гравировальную машину и вьфабатывает- ся второй линейный растр. Оптическая гравировальная машина экспонирует линия за линией светочувствительный слой, чего слой проявляется ДД1Я получения непрозрачных линий на прозрачной подложке.

На фиг. 5 показан негативный фильтр-шаблон 23, изготовленный контактным экспонированием светочувствительного слоя через каждый из линейных шаблонов. Все это выполняется последовательно и затем светочувствительный слой проявляется. Согласно фиг. 5 экспонирование с шаблоном по линиям или полосам в направлении у обеспечивает экспозицию зон, заштрихованных справа сверху и слева внизу Экспонирование с шаблоном по линиям или полосам в направлении х обеспечивает экспозицию зон, заштрихованных сверху слева и справа внизу. В места пересечения полос направлений х и у находятся первые квадраты 24, где экспонирование не происходит. Диагонально между первыми квадратами 24 находятся вторые квадраты 25, полу- чаюпхие двойную экспозицию. При прояв лении первые квадраты 24 становятся прозрачными, а вся оставшаяся часть светочувствительного слоя - непрозрачной, и получается негатив шаблона фильтра. Затем путем фотографической контактной печати с негативного фильтр-шаблона 23 получают позитив шаблона фильтра 26, показанный на фиг. 6. Позитивный фильтр коррекции интенсивности содержит набор непрозрачных разнесенных дискретных элементов 27, размещенных вдоль параллельных линий на прозрачном основании 28.

Размеры а и b непрозрачных дискретных элементов в направлениях х и у соответственно связаны выражением

а (1 - Т) cVb,

е Т обс При

пропускат1ие в локальной ласти фильтра; шаг между рядами элементов в любом направлении. печати квадратных элементов

а Ь с

0

5

0

0

5

0

5

5

При использовании дискретно-элементного полутонового фильтра коррекции интенсивности согласно предлагаемому способу достигается большее пропускание, что ведет к уменьшению времени экспозиции. Благодаря этому можно сократить число экспозиционных камер на производстве. Наибольшее пропускание непрерывно-тоновых фильтров коррекции интенсивности равно примерно 70%. Причиной конструктивного ограничения является плохое сцепление тонких пленок в зонах большого пропускания. У линейно-растровых полутоновых фильтров оптическое пропускание в локальных областях 5 равно приблизительно (), где а - ширина линии, а с - шаг. Максимальное пропускание Т в локальных областях линейно-растрового фильтра ограничивается наименьшей контролируемой шириной прочерчиваемой линии. Обычно при а 0,038 мм и шаге с 0,38 мм для линейно-растрового полутонового фильтра наибольшее теоретическое пропускание равно 90%. Для дискретно-элементного полутонового фильтра с использованием квадратных элементов оптическое пропускание в локальных областях определяется выражением (1-а /сМ- Для указанных значений а и .с максимальное теоретическое пропускание в локальных областях равно примерно 99%. Теоретическое максимальное пропускание вполне достижимо на практике.

Кроме того, преимуществом использования дискретно-элементного полутонового фильтра коррекции интенсивности является его применимость при печати точечных экранов. Применять для точечных экранов линейный растр

линейно-растровых полутоновых фильтров нельзя, так как источник света в камере является небольшим прямоугольником, заметно проецирующим линейный растр фильтра на печатаемую структуру экрана. Дискретно-элементный полутоновый фильтр не оставляет следов растра на печатаемой структуре экрана даже при использовании в

сочетании со стационарно малым источником Света.

Формула изобретения Способ фотографического нанесения структуры экрана электронно-лучевой трубки, включающий облучение фоточувствительного слоя светом через светопропускающий фильтр коррекции интенсивности, содержаодай множество дискретных равноотстояпшх непрозрачных элементов, размер которых выбран

из условия создания эаданньтх изменений световой интенсивности, и через фотошаблон, отличающийся тем, что, с целью сокращения времени экспонирования и упрощения способа за счет обеспечения возможности стационарного выполнения светопропускаю- Шего фильтра коррекции интенсивности, непрозрачные элементы расположены в узлах прямоугольной решетки с шагом от 0,13 до 0,38 мм, а их минимальный размер составляет 0,038 мм.

13 7J

Изобретение относится к изготовлению электронно-лучевых трубок (ЭЛТ). Способ предусматривает использование дискретно-элементного оптического фильтра и может быть применен при изготовлении многолучевых цветных кинескопов. Структура экрана может представлять собой светопоглощающую матрицу или люминофорные элементы смотрового экрана. Цель изобретения -,. сокращение времени экспонирования и упрощение способа за счет обеспечения возможности стационарного выполнения светоисггускающего фильтра коррекции интенсивности. Способ реализуется при помощи экспозиционной камеры. Камера содержит источник 1 света, проецирующий световой поток 2 в направлении светочувствительного слоя 3, нанесенного на внутреннюю поверхность лицевой панели 4 ЭЛТ. Световой поток проходит через светопропускаю- щий фильтр 5 коррекции интенсивности, размещенный на прозрачной опоре 6 через корректирующл ю линзу 7, представляющую собой оптический рефрактор, и через фотографический щаблон 8 (апертурная маска, установленная на панели 4). Применение дискретно- элементного полутонового фильтра кор- рекции интенсивности сокращает время экспозиции, не оставляет следов растра на печатной структуре экрана даже при использовании в сочетании со стационарно малым источником света. 6 ил. о со Од со СП о 00 см

Фиг. 2

Фиг. 5

Фиг. 6