Способ регулирования вязкости компаунда и устройство для его осуществления Советский патент 1989 года по МПК C09D5/25 G05D24/00 

1

Изобретение относится к способам и устройствам управления вязкостью многокомпонентных полимерных композиций без растворителей типа компаундов, предназначенных преимущественно для пропитки обмоток злектрических машин малой мощности. : Цель изобретения - повьщ1ение стабильности вязкости компаунда в процессе хранения, скорости высыхания и снижение водопо глощения покрытий.

На фиг. 1 представлена схема тех- нологического процесса управления вязкостью многокомпонентной полимерной композиции; на фиг. 2 - устройство для осуществления предлагаемого способа, общий вид; на фиг. 3 - электрическая схема ступенчатого управле- ;ния работой вибронасоса.

Способ управления вязкостью многокомпонентной полимерной композиции осуществляется -следуюпщм образом.

Ч

ю

Из дозатора 1 (фиг. 1Jнеобходимое |количество коьшонентов загружают в . емкость 2, где они в течение задан- ;ного времени при комнатной температу ре перемешиваются мешалкой 3 до полного растворения компонентов и получения однородной композиции, вязкост которой измеряется узлом 4. После определения вязкости композиции сигнал от узла 4 через узел 5 ввода информации подают на узел 6 управления работой вибронасоса 7, посредством которого приготовленную в емкости 2 ком- 1ПОЗИ1ЧИЮ пропускают по лакопроводу 8 kepe3 камеру 9 магнитной обработки, источник постоянного магнитного поля которой воздействует на кo moзицию соответствующей дозой энергии. Гото- 1вая к употреблению композиция пода- |ется к потребителю (на пропитку-суш- |ку) .

; Интенсивность (доза) энергии воз- |действия магнитного поля на переме- |щаю1дуюся по лакопроводу композицию определяется величиной энергии маг- |Нитного поля, отнесённой к объему пр |текающего за единицу времени лака. i В табл. 1 показаны дозы энергии :магнитного поля в зависимости от на- ;чальной ВЯЗКОСТИ готовой композихщи ;и времени выдержки в магнитном поле, В табл. 1 также приведены необхо- :Димые скорости перетекания готовой композиции по лакопроводу в зависи- :мости ОТ ее начальной вязкости при |диаметре лакопровода D 0,02 м. ; Пример1.В емкость с ме- i шалкой загружают необходимое количество компаунда KI1-34 и пасты пере- киси бензоила для приготовления компаунда KII-34 и перемепшвают до полного растворения компонентов и получения однородной массы. По готовности композиции измеряется условная вязкость, которая равна, например, 50 с. В соответствии с эмпирически установленной зависимостью для стабилизации вязкости необходимая доза воздействия магнитного поля должна

составлять 96,3 Дж/--. Для того,

мин

чтобы лак получил указанную дозу энергии воздействующего магнитного поля, устанавливается скорость перетекания лака через камеру магнитной обработки, равная 0,087 м/мин. При этом производительность перекачивающего устройства равна 0,27/10 м /ми

Таким образом обработанный (стабилизированный) в ма.гнитном поле лак подется к потребителю (на пропитку-сушку) .

Результаты изменения- , вязкости во времени для лака КП-34, обработанног магнитным полем различной интенсивности и не подверженного магнитной обработке, даны в табл. 2,

Пример 2. В емкость с мешалкой загружают необходимое количест- во компаунда КП-34 и пасты перекиси бензоила для приготовления компаунда КП-34 и перемешивают до полного растворения компонентов и получения однородной массыс По готовности композиции изыеряет ся условная вязкость которая равна, например, 80 с. В соответствии с эмпирически установленной зависимостью для стабилизации вякости необходимая доза энергии воз,-, действия магнитного поля должна составлять 154,7 Дж/. Дпя того, чтоб

мин

лак получил указанную дозу энергии воздействующего магнитного поля, устанавливается скорость перетекания лака через камеру магнитной обработки, равная 0,054 м/мин. При этом производительность перекачивающего устройства равна 0,17/10 м /мин. Таким образом обработанный (стабилизированный) в магнитном поле лак подается к потребителю (на пропитку-сушку).

Пример 3. В смеситель загружают необходимое количество компаунда КП-34 и пасты перекиси бензоила для приготовления компаунда КП-34 и. перемещивают до полного растворе-, ния компонентов и получения однородной массы. По готовности композиции измеряется условная вязкость, которая,- например, равна 110 с. В соответствии с эмпирически установленной зависимостью для стабилизации вязкое- ти необходимая доза энергии воздействия магнитного поля должна составлять 182,9 Дж/. Дпя того, чтобы

мин

лак получил указанную дозу энергии воздействующего магнитного поля, устанавливается скорость перетекания лака через камеру магнитной обработки, равная 0,046 м/мин. При этом производительность перекачивающего устройства равна 0,14х10 . Таким образом обработанный (стабилизированиый) в магнитном поле лак подается к потребителю (на пропитку- сушку) .

В табл. 3 приведены результаты изменения удельного электрического сопротивления и водопоглощения, а также времени отверлздения для пропиточного компаунда КП-34 в результате магнитной обработки.

Предлагаеьаш способ осуществляется с помощью устройства, Ьодержа- щего емкость 2, узел 4 измерения величины вязкости, узел 5 ввода информации, узел 6 управления работой вибронасоса 7 для перекачивания композиции из емкости 2 .по лакопрово- ДУ 8 с одновременной обработкой соответствующей дозой энергии магнитного поля для -стабилизации вязкости и камеру 9 магнитной обработки с источником постоянного магнитного поля В емкости 2 расположены мешалка 3 и вибронасос 7, Камера 9 магнитной обработки выполнена в виде источника постоянного магнитного поля, включающего прямоугольного сечения электромагнит 10 и катушку 11, связанную с источником 12 питания.

Узел 6 управления работой вибронасоса 7 представляет собой электрическую схему ступенчатого управления, в которой токонесущая обмот ка 13 (фиг. 3) вибронасоса 7 подключена через тиристор 14 к вторичной обмот- ке 15 питающего трансформатора. Управление тиристором 14 осуществляется запирающим диодом 16 и релаксаци- oHHbiM генератором Импульсов, выполненным на динисторе 17 и содержащим ограничивающие диоды 18 и 19, конденсатор 20, регулировочный 21 и шунтирующий 22 резисторы, причем катод динистора 17 подключен через ограничительный диод 19 к управляющему электроду тиристора 14, включ енного в цепь переменного тока, а анод динистора 17 - к общей точке соединения подвижного контакта регулировочного резистора 21 и конденсатора 20.

1

Устройство работает следуиищм образом.

Необходимые компоненты в заданном количестве из дозатора 1 подаются в емкость 2, где мешалкой 3 они перемешиваются до полного растворения и получения однородной композиции, причем перемешивание производится в те

б

чение необходимого времени при комнатной температуре. По окончании процесса перемешивания узлом 4 измерения вязкости определяется величина вязкости и композиции, передаваемая на узел 6 управления работой вибронасоса 7. При получении заданной величины вязкости вибронасосом 7 композиция перекачивается с заданной скоростью по лакопроводу 8, проходит через камеру 9 магнитной обработки, получает необходимую дозу энергии магнитного поля и подается к потребителю (на пропитку-сушку).

Режим работы вибронасоса 7 регулируется следующим образом. Обмотку 13 возбуждения вибронасоса 7 включа- 2Q ют в сеть переменного тока, при этом цепь управления в первый полупериод, когда потенциал на катоде тиристора положительный, получает питание от вторичной обмотки 15 трансформатора, 25 конденсатор 20 начинает заряжаться через ограничительный диод 18, регулировочный резистор 21 и запиранщий диод 16. Одновременно ток проходит и в шунтирующем резисторе 22. В это 0 время в обмотке 13 возбуждения вибронасоса 7 проходит ток от ранее накопленной энергии, который убывает ив этом полупериоде становится равным нулю. Одновременно с этим к тиристо- 2 РУ 14 прикладывается обратное напряжение и он закрывается, а конденсатор 20 продолжает заряжаться до напряжения, необходимого для открывания динистора 17., который в данном 0 полупериоде не открывается, так как к нему приложено обратное напряжение через ограничивающий диод 18, причем разрядка .конденсатора 20 на шунтирующее сопротивление происходит огра- 5 ничивающим диодом 18. Время, необходимое для зарядки конденсатора 20, длится 0,01 си равно времени полупериода переменного напряжения. К началу второго полупериода напряжение Q питания, когда потенциал на катоде тиристора 14 отрицательный, динистор 17 открьшается за счет того, что на него подается положительное напряжение, необходимое для его открывания, 5 и происходит разряд конденсатора 20 по -.цепи положительный полюс конденсатора 20, динистор 17, ограничивающий диод 19, р-п-переход тиристора 14, шунтирующий резистор 22 и отрица

14

тельный полюс конденсатора 20. Тиристор 14 открывается и к обмотке 13 возбуждения вибронасоса 7 прикладывается напряжение второго полупериода от вторичной обмотки 15 трансформатора, конденсатор 20 продолжает ра :ряжаться до тех пор пока напряжение jна нем не приложено с вторичной обмотки тиристора 14, ограничивающе- |еся запиракяцим диодом 16. В следующе полупериоде происходит заряд конден- |сатора 20 в последовательности пер- iBoro полупериода, указанного выше. Время приложения напряжения к токо- 1 ведущей обмотке от вторичной обмотки тиристора 14 остается постоянным и равным 0,01 с.

1 При необходимости работы виброна- jcoca, например, при частоте 25 Гц id500 кол/мин) необходимо пёреключе- нием подвижного контакта переменного резистора 21 увеличить его сопро- тивление, при этом зарядка конденса- тора 20 на 25 Гц происходит в после- |довательности, аналогичной последова |тельности зарядки на 50 Гц, но время необходимое для зарядки, равно 0,03 с а время приложения напряжения к обмотке вибронасоса остается 0,01 с и остается постоянным на всех ступенях регулирования частоты.

При работе вибронасоса на других механических частотах (на других скоростях) меняется только время, необ- :ходимое для зарядки конденсатора 20. Предлагаемым способом - регулировани

8fO

5

0

5

0

5

ем сопротивления переменного резистора 21 достигается ряд механических колебаний вибронасоса со следующими ступенями частот 10, 12, 5, 16, 7, 25 и 50 Гц.

Формула изобрете ния

1. Способ регулирования вязкости компаунда КП-34 на основе олигоэфир- акрилата, включающий перемешивание исходных компонентов и измерение вязкости компаунда, отличающий- с я тем, что, с целью повышения стабильности вязкости компаунда в процессе хранения, скорости высыхания и снижения водопог ющения покрытий на его основе, на компаунд воздействуют постоянным магнитным полем с дозой энергии 96,3-182,9 в течение 10-22 мин.

2. Устройство для регулирования вязкости компаунда на основе олиго- эфиракрилата, содержащее емкость с мешалкой и регистратор вязкости, о т- личающееся тем, что, с целью повышения стабильности вязкости компаунда в процессе хранения, емкость с мешалкой снабжена вибронасосом с узлом управления его работой, лакопроводом и камерой магнитной обработки с источником постоянного поля, причем емкость соединена с лакопроводом, проходящим через камеру магнитной обработки.

Изобретение относится к способу регулирования вязкости многокомпонентнего лакокрасочного материала, в частности компаунда, и устройству для его осуществления. Изобретение позволяет повысить стабштьность вязкости компаунда в процессе хранения, скорость высыхания покрытия и снизить его водопоглоЩение за счет того, что в способе регулирования вязкости компаунда на основе олигоэфиракрилата, включающем перемешивание исходных компонентов и измерение первоначальной вязкости компаунда, на компаунд воздействуют постоянньм магнитным полем с дозой энергии 93-182,9 Дж/--мин в течение 10-22 мин. Устройство для .регулирования вязкости компаунда содержит регистратор вязкости, емкость .с мешалкой и вйбронасосом, снабженньш узлом управления его работой. Емкость соединена с лакопроводом, проходящим через камеру магнитной обработки, с источником постоянного магнитного поля. 2 с.п.ф-лы, 3 ил. 3 табл. с S (Л

10 12 14 16 18 20 22

Таблица 1

11

1467072

Время отверждения, мин Удельное объемное электрическое сопротивление, Ом,см Удельное объемное электрическое сопр отивление после 24 ч пребывания в атмосфере с относительной влажностью 95±2% при температуре . Ом-см / Удельное поверхностное элек рическое сопротивление, DM Водопоглощение по ГОСТу (73%)

Фиг. 1

Продолжение табл.2

Таблица 3

1 10

н

5,3x10

Н

1,2«10 4, 0,23

/

4 - - 1 1---Ж г

. 2

:/5 ;/7

S/

в.

фив.З