3U6
510-9бо с в течение 10-15 мин, охлаждают 20-25 мин, причем сушку, вжига- ние и охлаядение осуществляют в магнитном поле 1-А кЭ.
Толщина наносимого за один проход ракеля слоя составляет 8-100 мкм. Если требуется получить пленки больших толщин, первоначальный слой сушат в магнитном поле, а затем нано- сят новый слой поверх первого, который сушат в постоянном магнитном поле того же направления и т.д. В процессе сушки органическое связующее выгорает.. После нанесения последне- го слоя пленку сушат, . и ох- лал1дак1Т по приведенной схеме.
Консистенция предлагаемого материала (его вязкость и растекаемость) подобраны таким образом, чтобы обес- печить воспроизводимость заданной конфигурации пленки и в то же время не вызьшать частой очистки трафарета
Напряженность постоянного магнитного поля Нр, в котором производят 25
35
сушку, вжигание и охлаждение пленок, составляет 2-4 кЭ. При 2 кЭ не происходит полной ориентации магнитных моментов кристаллов в вязком стекле вдоль приложенного магт нитного поля. При кЭ эта ориентация оказьшается практически сто- процентной. Наиболее оптимальной является Нр 2,5-3,5 кЭ. Использоваг
ние магнитного поля напряженностью более 4 кЭ является экономически нецелесообразно.
Испытания электродинамических характеристик проводились на измерителе КСВН и ослабления Р2-69 при помощи измерительной камеры, которая представляет собой отрезок прямоугольного металлического волновода сечением 3,,8 мм, верхняя стенка которого свободно перемещается отно- сительно канала волновода в направлении, перпендикулярном оси канала волновода. Гиромагнитная ппенка наносится на поликоровый вкладыш 0,,6 «30 мм, который приклеивается к верхней крьшпсе волновода перпендикулярно к ней. Крьшпса устанавливается на волновод и при помощи микрометрического винта располагается так, чтобы гиромагнитный резона тор (пленка ) оказался точно в области с круговой поляризацией СВЧ-маг- нитного поля в волноводе. Точность
установки контролировалась по индикатору КСВН и ослабления Я2Р-67 (мак- симуму обратных потерь резонатора. Размер пленки О,, мм, погрешность измерений ±0,05 дБ.
Результаты испытаний-представлены в таблице.
Как из таблицы следует, поставленная цель достигается лишь при вполне определенных значениях параметров техпроцесса изготовления гексаЛеррито.в ой пленки.
Форм у л а изобретений
1. Способ изготовления гексафер- ритовой текстурированной пленки, включанщий нанесение пленки из композиционного материала на диэлектрическое основание и сушку в постоянном магнитном поле, отличающийся тем, что, с целью повышения технологической стабильности параметров пленки, ее электродинами
.ческих характеристик, адгезии пленки с диэлектрическим основанием, ее механических свойств и устойчивости пленки к органическим растворителям композиционный материал, содержащий мелкодисперсный порошок поликристап- лического гексаферрита и связующее, , наносят методом трафаретной печати на диэлектрическое основание, сушат при 150-200 С, вжигают в течение 10-15 мин при 520-900 С и охлаждают, причем сушку, вжигание и охлаждение проводят в постоянном магнитном поле напряженностью не менее 2 кЭ,
2. Композиционный материал для изготовления гексаферритовой текстурированной пленки, содержащий мелко- Дисперсньй порошок поликристаллического гексаферрита и связующее, о т- личающийся тем, что, с целью повьш1ения технологической стабильности параметров пленки, ее электродинамических характеристик, адгезии пленки с основанием, ее механической прочности и устойчивости пленки к органическим растворителям в качестве связующего используют смесь стеклосвязующего и органического связукщего при- следующем соот- .
ношении компонентов, Гексаферрит Стеклосвязующее Органическое связующее .
мас.%:
30-80 5-50
Остальное
и «
ve ч 00 о о CO о «ч m - in 1Л . uS
00
1Л m 00 Ю
00 г со во Г4 со - N см
со to г ON о го г f4 еч ч см м -. о
irt IT Р1 1Л 1Л (Л 1Л о о о о о о р
о о ch о h h d
о о о о сГ сГ о
о%со со a
to Ю Л -. ;( С5 О S О О
О О О О О О О
О О О О Ш СО О Г СП СП - -- с«4
1Л Ш 4Г( П Л In 1Л
ч ем м с м г ч
iiiAAi.i
«) N fM гч «м см ем
ш ш ш 1Г| 1Л in 1Л
О с о о о о О
О О О vO vO С D г г- | г tx f г..
in Ю irt Ш UMft М .М М «М Г4
. Aiii I «М М N Г4
ii
см «ч
о о о о
00 со со 00
in ш Л о о о о - « Г4 М N С4
м О О О О
со со со « 1в 0 40
о о о о о о г г tv со « «п
Ю in ш п 1Л ш
V V V V V V
о о о о о о
«о - о сч ч см м м см сч
Ю .- СП t Ю in
0о о-о о о
со 00 f-- о Оч О CT О О он
о о о о о о
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ГИРОМАГНИТНЫЙ КРОССУМНОЖИТЕЛЬ СВЧ | 1995 |
|
RU2099854C1 |
Резонансный вентиль | 1985 |
|
SU1363340A1 |
ТОЛСТОПЛЕНОЧНЫЙ РЕЗИСТИВНЫЙ ЭЛЕМЕНТ | 1992 |
|
RU2054720C1 |
Способ изготовления изделий из магнитных материалов | 1980 |
|
SU959170A1 |
ФЕРРИТОВЫЙ МАТЕРИАЛ | 2016 |
|
RU2637269C1 |
СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ КЕРАМИКИ С ПОМОЩЬЮ МЕТАЛЛИЗИРОВАННОЙ ЛЕНТЫ | 2018 |
|
RU2711239C2 |
КОМПОЗИЦИОННЫЙ РАДИОПОГЛОЩАЮЩИЙ МАТЕРИАЛ | 2008 |
|
RU2380867C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОНСТРУКТИВНОГО ЭЛЕМЕНТА ИНДИКАТОРА | 2004 |
|
RU2279731C2 |
ЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ НАГРЕВАТЕЛЬ С ПРОВОЛОЧНЫМ ВЫВОДОМ | 2000 |
|
RU2215379C2 |
ДВУХСТУПЕНЧАТЫЙ СВЕРХПРОВОДНИКОВЫЙ ТОКООГРАНИЧИТЕЛЬ-ВЫКЛЮЧАТЕЛЬ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2008 |
|
RU2373600C1 |
Изобретение относится к технологии изготовления гиромагнитных элементов и может быть использовано I Изобретение относится к технологии изготовления гиромагнитных элементов и может быть использовано для создания гексаферритовых текстури- рованных пленок для резонансных вентилей и других устройств миллиметрового диапазона. Цель изобретения - повышение технологической стабильности параметров пленки, ее электродинамических характеристик, адгезии пленки с диэлектрическим основанием, ее механидля создания гексаферритовых тексту- рированных пленок для резонансных вентилей и других устройств миллиметрового диапазона. Цель изобретения - повышение технологической стабильности параметров пленки, ее электродинамических характеристик, адгезии пленки с основанием, ее механической прочности и устойчивости пленки к органическим растворителям. Композиционный материал, включающий, мас.%: функциональный материал 30-80; стеклосвязующее 5-50, органическое связукщее - остальное, наносят методом трафаретной печати на диэлектрическое основание, сушат при 150-200°С, вжигают в течение 10-15 мин при 520-900°С и охлаждают, причем сушку, вжигание и охлаждение проводят в постоянном магнитном поле напряженностью не менее 2 кЭ, силовые линии которого параллельны плоскости пленки. 2 с.п. ф-лы, 1 табл. ческой прочности и устойчивости к органическим растворителям. Пример. Композиционный материал, включающий в себя мелкодисперсный (0,3-10 мкм, лучше 1-3 мкм) порошок гексаферрита марки 04С4А1, - стеклосвязующее Ри 34 ПАЦ.024.006 ТУ : с температурой размягчения 450°С и органическое связующее - 4%-ный раствор этилцеллкшозы в терпинеоле, наносят методом трафаретной печати на диэлектрическое основание, сутаат при 140-210 С 20-25 штн, вжигают при $ (О 4 о: ч8 О1
g
4f S S 8 8 S S т л
о о (Ч СП -« in kO
л сл rt ел to «n m
r« «
«л 1Л
о о о о
М «ч 1Л
m о м «п
ш
g|
к 0)
о. i4 со Kt
1Л«Л. IOmirilAW trilAtAini/ AlOIA rt rtlOIOir OmiAtnin ninm ri
(Jrslc4 e Jг Jc cN.cч(Nc со с с oooececcjcococooococcccocc
r rs|c eMr ic4r i 4 sc rvies rjr CNie4fs rjC4c io4r r fN4csjrvirsirjp j
г(мгмсмО1Л1 мсчем1Ч«мсч| ммс е еч л Л1Л11Л1П1л лог ю Л1Л
с: О с
(.
. ...
ооооссососсрссссссосс
. C CvCsc C C -
1Л П Л1Л1ПиЛЮ«а Л1Л Г 1Г)1Г11А1Л ЛЩ1Л1Л1Л1Г(|Г| Л1Л1П1Л1Л1Л1Л r4t4t4eM 4Mt4(Mr4 rj fM 4«4CMC4( MM CV| N «Ч evj (Ч CM
i i A cL A , i i i Ai iiAid iiAii i i i
«N ГЧ (-4 M S «Ч e4r««4t4eMtNNr JC4 MCvItMMf4M NtvlC4CNMMMeN
OQOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOO inoojcoeoeoaoeocoeoooeoaeoo eo o eoeooooooococoaoaooooo oo eo
- - отслепвл
Исследование элементов диэлектрических структур для приемо-переда- гадих устройств | |||
Отчет МАИ № ГР 78076809,М., 1982, с | |||
Экономайзер | 0 |
|
SU94A1 |
Поллак Б.П | |||
и др | |||
Поликрйсталли- ческие гексаферритовые пленки как гиромагнитные резонаторы для невзаимных устройств: Труды V Между- народной конференции по гиромагнитной электронике и электродинамике, Вильнюс, | |||
Способ получения фтористых солей | 1914 |
|
SU1980A1 |
Авторы
Даты
1989-03-23—Публикация
1987-03-02—Подача