f
(21)4658970/12
(22)06.03.89
(46) 07.03.91. Бюл. N° 9
(71)Омский политехнический институт
(72)Д.Х. Ганиев, Б.Ф. Грибановскин, С.А. Щеглов и О.М.Ченцова
(53)681.321.428(088.8)
(56)Авторское свидетельство ССТР № 496531, кл. С 03 F 5/00. 1975.
(54)СНОСОК ИЧГОТОВЛГИИЯ ЛИГПОВОГО РАСТРА
(57)Изобретение относится к способу изготовления линзового растра и позволяет расширить технологические возможности способа за счет изменения формы линзовых элементов, расширить диапазон изменения фокусных расстояний линзовых растрои. Формируют лин- зово-растровую поверхность. На сформированную поверхность наносят оптически прозрачную полимерную композицию, которую затем отверждают. Наносят слои композиции с коэффициентом преломления, отличным от коэсЬфициен- та преломления лин JOBO-растровой поверхности. 1 з.п.ы-лы, 1 табл.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ изготовления линзового растра | 1989 |
|
SU1720058A1 |
ЛИНЗОВЫЙ РАСТР В ВИДЕ ТРИПЛЕКСА ДЛЯ СОЗДАНИЯ АВТОСТЕРЕОСКОПИЧЕСКОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2014 |
|
RU2574617C1 |
Способ изготовления диафрагмированных линзовых растров | 1988 |
|
SU1599835A1 |
КОНТАКТНО-КАПЕЛЬНЫЙ ВЫСОКИЙ СПОСОБ ПЕЧАТИ МИКРОЛИНЗ НА ПЛОСКОМ НОСИТЕЛЕ ИНФОРМАЦИИ И ЗАЩИТНЫЙ ЭЛЕМЕНТ НА ПЛОСКОМ НОСИТЕЛЕ ИНФОРМАЦИИ | 2014 |
|
RU2596949C2 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОЛИНЗ | 2009 |
|
RU2553417C2 |
ЗАЩИТНАЯ СИСТЕМА | 2009 |
|
RU2547700C2 |
РАСТРОВО-МУАРОВАЯ ОПТИЧЕСКАЯ СИСТЕМА | 2014 |
|
RU2596948C2 |
Линзовый растр | 1973 |
|
SU496531A1 |
Способ изготовления периодических диафрагмированных линзовых растров | 1988 |
|
SU1564580A1 |
ЗАЩИТНЫЙ ЭЛЕМЕНТ ДЛЯ ИДЕНТИФИКАЦИОННОГО ДОКУМЕНТА, ИДЕНТИФИКАЦИОННЫЙ ДОКУМЕНТ И СПОСОБ ЕГО ПЕРСОНАЛИЗАЦИИ | 2015 |
|
RU2599000C1 |
Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано, в частности, в полиграфической промышленности.
Цель изобретения - расширение технологических возможностей способа за счет изменения Аормы линзовых элементов, расширение диапазона изменения Аокусных расстоянии линзовых растров.
Нанесение слоя жидкой оптически -- прозрачной полимерной композиции на предварительно сЛормироианнчто линзово- растровую поверхность, содержащую неактивные зоны, позволяет полностью устранить последние за счет образования в каждой неактивной зоне отрицательных микролинз.
Кроме того, изменяя положение растра (вверх или вниз нанесенным тонким слоем) при отверждении /кидко- го слоя оптически прозрачной композиции, управляют изменением кривизны линэоных элементов, а следовательно, фокусным расстоянием и апертурой.
Фокусное расстояние и апертуру растров изменяют в достаточно широких пределах за счет подбора пар материалов с различными коэффициентами преломления, из которых изготавливают линзовые злегченты и наносимый слой композиции.
Пример 1. Линзово-растровую поверхность получают следующим образом. На стеклянную, предварительно очищенную, пластинку наносят с помощью трафаретной печатной формы, представляющей собой линейчатый растр, эпоксидную композицию на базе эпоксидной смолы ЭД-20 и лолиэтиленполиами- на. Отверждают композицию в течение 30 мин при 100°С
оэ со со со vj
4
Характеристики сформированной лин- зово-растровой поверхности даны в
таблице.
Па линзово-растровую поверхность
наносят на центрифуге горизонтального
типа жидкую оптически прозрачную
композицию следующего состава, мас.%:
Эпоксидная смола ЭД-20 100
Отвердитель ПЭПА10
Ацетон100
20
25
30
Ацетон добавляют в композицию для онижения ее вязкости до пределов, озволяющих наносить равномерные слои омпозиции толщиной не более 0,1 шага 5 астра. Для достижения необходимой олщины слоя нанесение проводят неодократно. Скорость вращения центрифуи 1500 об/мин., время вращения -3 мин, за это время ацетон практиески полностью испаряется.
Отверждение нанесенной композиции существляют в сушильном шкафу при 100°С в течение 1 ч, причем для получения линзовых элементов с большей по отношению к линзово-растровой поверхности кривизной пластинки устанавливают в сушильном шкафу вниз нанесенным слоем (а), а для получения растров с меньшей кривизной линзовых элементов пластинки устанавливают в сушильный шкаф вверх нанесенным слоем (б), Нанесение слоев композиции толщиной более 0,1 шага растра нецелесообразно, так как при отверждении вниз нанесенным слоем избыток композиции стекает с линзовых элементов, а при отверждении вверх нанесен- : ным слоем вследствие преобладания силы тяжести над силами поверхност- до ного натяжения композиция скапливается в углублениях растра, смазывая линзовую структуру.
Пример 2. Гексагональную линзово-растровую поверхность из 45 пластмассы МС с коэффициентом преломления 1,53 получают штампованием металлической матрицей, характеристики которой приведены в таблице.
На поверхность наносят на центри- гп фуге, жидкую оптически прозрачную композицию следующего состава, мас.%: Полиметилметакрилат 100 Метилметакрилат100
Перекись бензоила1
пр рт ст лу та от но ни е к г л
35
0
20
25
30
5
: до Режимы нанесения те же, что и в примере 1. Отверждение осуществляют ртутной лампой в течение 15 мин. Расстояние от образца до источника излучения 50 мм. Лампу устанавливают таким образом, что растр во время отверждения находится в горизонтальном положении. Коэффициент преломления отвержденной композиции составляет 1,41. В таблице приведены оптические характеристики растра, полученного при отверждении композиции в положении вверх нанесенным слоем.
Пример 3. Используют ту же линзово-растровую поверхность, что и в примере 2. На линзово-растровую поверхность наносят на центрифуге оптически прозрачную композицию следующего состава, мас.%:
Полистирол100
Стирол100
Перекись бензоила1
Режимы нанесения те же, что и в примере 1. Отверждают нанесенный слой в термостате при 809С в течение 15 мин. Коэффициент преломления отвержденной композиции 1,60, Оптические характеристики растра приведены в таблице. Данные приведены для растра, полученного при отверждении композиции в положении вверх нанесенным слоем.
: до 45
гп
5
Формула изобретения
Исходный линейчатый растр, изготовленный печатным
способом0,3
Пример 1а - Пример 16 - Гексагональный точечный растр
из пластмассы МС 0.4 Пример 2-
Пример 3-
30
Отсутствует Отсутствует
0,03
10
Отсутствует Отсутствует
0,04
Авторы
Даты
1991-03-07—Публикация
1989-03-06—Подача