Устройство для контроля отклонений от прямолинейности Советский патент 1991 года по МПК G01B11/24 

Фаз. 1

соединенной входной и выходной гранями с трехгранной прямоугольной призмой 4 и установленной с возможностью перемещения микрометрическим винтом 5о В корпусе 1 установлен источник света - лазер 6t ось луча совмещена с оптической осью устройства, по ходу луча последовательно установлена система 8 коллимирующей оптики, жидкостный компенсатор 9 углов наклона, дифракционная пластина 100 Марка выполнена из зеркал,установленных под углом 90 друг к другу с возможностью перемещения микровинтом вдоль направляющей о Устройство и марку взаимно ориентируют и зануливают отсчет Через делительный кубик 7, лазерный луч попадает на входные грани пентаприз- мы 3, затем - на экран наблюдательного микроскопа 2, где формируется согласованная интерференционная картина в виде прямых светлых и темных полосе, При смещении марки на величину h падающий луч лазера отражается в обратном направлении со смещением 2 Ь0 Отраженный луч, попадая на пентаприз- мы 3, 4, разворачивается в направлении экрана наблюдательного микроскопа 2, каждая часть луча отклоняется

от оптической оси на величину 2 h,

а взаимное отклонение частей луча равно 4 h0 2 ил0

Изобретение относится к измерительной технике Цель изобретения - повышение точности контроля Устройство содержит корпус 1, оптический блок регистрации, выполненный из последовательно установленных на одной оптической оси наблюдательного микроскопа 2 и пентаприэмы 3, жестко

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к устройствам для контроля непрямолинейности, неплоскостности оптическим методом, и предназначено для контроля поверхностей крупногабаритных объектов, а также для установки ряда объектов относительно референтной плоскости в станкостроении, судостроении, энер- гомашиностроении и других отраслях промышленности.

Цель изобретения - повышение точности контроля за счет умножения измеряемой величины

На фиг01 изображена принципиальная схема устройства для контроля отклонения от прямолинейности; на фиго2 марка0

Устройство содержит корпус 1, в котором установлен оптический блок регистрации, выполненный из последо- вателыю установленных на одной оптической оси наблюдательного микроскопа 2 и пентапризмы 3, совмещенной вход- ной и выходной гранями с трехгранной прямоугольной призмой 4 и установленной с возможностью перемещения при помощи микрометрического винта 50 В корпусе 1 установлен также источник света - лазер 6, луч которого введен, например, при помощи светоделительного кубика 7 в оптический блок регистрации, причем ось луча совмещена с оптической осью устройства По ходу луча последовательно установлена система 8 коллимирующей оптики, жидкостный компенсатор 9 углов наклона и дифракционная пластина 100 Устройст5

5 о

0 Q

во также содержит марку, выполненную из двух зеркал 11 и 12, установленных под углом 90° друг к другу, которые могут при помощи микровинта 13 перемещаться вдоль направляющей 14„

Устройство работает следующим образом

На начальную точку конструкции устанавливают устройство для контроля отклонений от прямолинейности, плоскостности, приводят его в рабочее положение0 На конечной точке конструкции устанавливают марку, приводят ее в рабочее положение Затем марку и устройство взаимно ориентируют и зануливают отсчет0 Этому соответствует то, что лазер 6 излучает узкона- правленный световой пучок, который согласовывается системой 8 коллимирующей оптики, приводится в строго отвесное положение жидкостным компенсатором 9 углов наклона и формируется дифракционной пластиной 10 Через светоделительный кубик 7 сформированный лазерный луч попадает на входные грани строго по оптической оси пентапризмы 3 и трехгранной прямоугольной призмы 4, пройдя которые, луч (единой поперечной структурой) попадает на зеркала 11 и 12 марки в зону их сопряженияf затем, отразившись, по тому же пути возвращается на свето- делительный кубик 7. пройдя который, попадает на экран наблюдательного микроскопа 2, где формирует интерференционную картину в виде прямых светлых и темных полос, причем картина согласованао При смещении марки

на величину h падающий луч лазера b отражается в обратном направлении со смещением 2 h« Отраженный луч, попадая на пентапризму 3 и прямоугольную призму 4, разворачивается в направлении экрана наблюдательного микроскопа 2, при этом каждая часть луча отклоняется от оптической оси на величину 2 h, а взаимное отклонение частей луча равно 4 h0 В плоскости экрана наблюдательного микроскопа 2 формируется рассогласованное изображение интерференционной картиньи, . части интерференционной картины (верхняя, нижняя) расходятся одна относительно другой на величину 4 ho Используя микрометрический винт наблюдательного микроскопа 2, измеряют величину рассогласования, поделив ее на четыре, получают величину смещения марки

Компоновка марки и устройства в процессе работы может быть и другой„ В этом случае на начальную и конечную точки устанавливают марку и устройство ориентируют, зануливают от- - счет их, а затем марку последовательно переносят по исследуемым точкам и

определяют отклонение от прямолинейности исследуемых точек по высоте0

Формула изобретения

Устройство для контроля отклонений от прямолинейности, содержащее марку, источник света и оптический блок регистрации, выполненный в виде последовательно установленных на одной оптической оси наблюдательного микроскопа и пентапризмы, отличающееся тем, что, с целью повышения точности контроля, оно снабжено прямоугольной призмой, жестко связанной с входной и выходной гранями пентапрнэмы и установленной с возможностью перемещения вдоль опти0 ческой оси, и дифракционной пластиной, расположенной по ходу излучения источника света, марка выполнена в виде двух зеркал, жестко установленных под углом 90° друг к другу с воз5 можностью перемещения вдоль Оптической оси, а источник света расположен в оптическом блоке регистрации

. на оптической оси и выполнен в виде лазера.,

5

Фиг. 2.