ПЛАЗМЕННЫЙ ЭКСПАНДЕР Советский патент 1994 года по МПК H05H1/00 

Описание патента на изобретение SU1676433A1

Изобретение относится к ускорительной технике, а именно к устройствам, в которых формируется плазма для получения электронных или ионных пучков.

Наиболее эффективно изобретение может быть использовано в устройствах, формирующих потоки заряженных частиц, предназначающихся для дальнейшего ускорения в линейных ускорителях.

Известен экспандер для расширения плазмы, проникающей из ионного источника в вакуум. Экспандер выполнен в виде полости в анодном фланце, имеющей входное и выходное отверстия. Для улучшения однородности плазмы стенки полости выполнены из керамики.

Недостатком данного экспандера является то, что быстрые плазменные электроны заряжают керамические стенки полости неравномерно, что приводит к нестабильности плазмы. Кроме того, в процессе работы имеет место напыление металлизированной пленки на керамическую стенку, обусловленное распылением материала входной диафрагмы, в результате чего изоляционные свойства.

Наиболее близким к предложенному экспандеру по технической сущности является плазменный экспандер форинжектора линейного ускорителя. Экспандер представляет собой цилиндрическую полость, в которую плазма поступает через входную диафрагму, разделяющую пространство генератора плазмы и пространство экспандера. На выходе полости в результате взаимодействия плазмы с электрическим полем экстрактора формируется граница плазмы, с которой в направлении экстрактора вытягивается и предварительно ускоряется пучок заряженных частиц. Стабилизация плазмы и улучшение однородности на развитой эмиссионной поверхности плазмы осуществляются установкой нескольких изолированных электродов в виде сеток.

Недостатком данного экспандера является то, что в нем не удается полностью устранить колебания и нестабильности в плазме. Кроме того, имеет место появление дополнительных нестабильностей за счет изменения потенциала электродов относительно полости, поскольку электроды изолированы от полости. Отмеченные недостатки препятствуют полному исключению нестабильностей в плазме и ухудшают однородность ее эмиссионной поверхности, что затрудняет согласование ее формы с пространством области экстракции.

Целью изобретения является улучшение однородности и стабильности ее эмиссионной поверхности.

Цель достигается тем, что в плазменном экспандере, содержащем камеру, диафрагму со стороны входа плазмы, расположенные перпендикулярно оси симметрии камеры изолированные электроды в виде сеток и экстрактор, каждый электрод соединен с корпусом камеры через сопротивление Ri, где i - порядковый номер электрода со стороны входа плазмы, соседние электроды соединены друг с другом через последовательно соединенные сопротивления ri и емкости Сi, причем значения Ri, ri и Сi связаны неравенством
C-1i < 104ri < 103 Ri . (1)
Кроме того, значения сопротивлений Ri могут быть выбраны убывающими от входа к выходу экспандера, например, в соответствии с зависимостью
Ri= (2) где RN - сопротивление в цепи ближнего к выходному отверстию электрода;
N - число электродов.

При этом уменьшение нестабильностей в плазме и улучшение однородности ее эмиссионной поверхности достигаются за счет следующих основных эффектов.

Введение сопротивлений Ri, замыкающих изолированный электрод с полостью экстрактора, способствует снижению флуктуаций потенциала плазмы, вызванных нестабильностью тока быстрых плазменных электронов, попадающих на электрод. Кроме того, эти сопротивления обусловливают эффективное выравнивание электронного тока, поступающего из плазмы на электроды, по отношению к случаю изолированных электродов.

Флуктуации тока плазмы замыкаются через цепочку, состоящую из последовательно включенных низкоомного сопротивления ri и конденсатора Ci, подключенную к каждой паре смежных электродов. Емкости обеспечивают электрическую развязку по постоянному току между электродами, обеспечивающими продольное статическое распределение потенциала в плазме. Колебания тока плазмы приводят к появлению токов в цепочке, которые затухают на сопротивлении ri, что препятствует развитию колебаний в плазме и приводит к улучшению стабильности.

Ступенчатое изменение величин сопротивлений в соответствии с зависимостью (2) приводит к перераспределению тока быстрых плазменных электронов, попадающих на электроды, причем уменьшение величин сопротивлений Ri от входа к выходу экспандера приводит к увеличению доли тока на выходные электроды, что способствует образованию однородной стабильной эмиссионной плазменной поверхности.

Отмеченные эффекты наиболее полно проявляются, если величины Ri, riи Ci связаны неравенством (1). При выполнении левой части этого неравенства емкостное сопротивление демпфера плазменных колебаний в области частот свыше 100 кГц способствует замыканию их через r-C-цепочку, поскольку при выполнении правой части неравенства замыкание их через сопротивление на корпус полости затруднительно.

Ступенчатое повышение величины сопротивления Ri от входа к выходу экспандера, описываемое гиперболической функцией, соответствует наиболее благоприятному перераспределению тока плазменных электронов на электроды и способствует повышению однородности эмиссионной плазменной поверхности.

Таким образом, в предложенном экспандере включение высокоомных сопротивления Ri и цепочек, состоящих из последовательно включенных низкоомного сопротивления ri и емкости Сi, приводит к выравниванию потенциала плазмы, перераспределению тока плазменных быстрых электронов на электроды, демпфированию плазменных колебаний. Это приводит к уменьшению нестабильности в плазме и улучшению однородности ее эмиссионной поверхности. Предлагаемый экспандер удовлетворяет критерию "существенные отличия", так как не обнаружено аналогов со сходными признаками.

На чертеже показан экспандер. Он содержит корпус 1, входную диафрагму 2 и выходное отверстие 3. Внутри полости соосно корпусу размещены электроды в виде сетки 4, которые прикреплены к корпусу с помощью изолятора 5. Экстрактор 6 расположен вблизи выходного отверстия 3 экспандера. Каждый электрод соединен с корпусом экспандера через сопротивление 7. Каждые два смежных электрода соединяются друг с другом через цепочку, состоящую из последовательно включенных сопротивления 8 и емкости 9. Вытягивающий электрод (экстрактор) заземлен. Экспандер находится под потенциалом, соответствующим требуемой энергии пучка.

Экспандер работает следующим образом.

Внутрь полости корпуса 1 экспандера через отверстие во входной диафрагме 2 проникает плазма из генератора плазмы (на чертеже не показан). За счет наличия продольных скоростей частиц плазмa дрейфует в направлении к выходному отверстию 3 экспандера, где попадает в область действия сильного электрического поля, приложенного между экстрактором 6 и корпусом 1. В области выходного отверстия формируется эмиссионная граница плазмы, через которую заряженные частицы поступают в канал ускорения. Электроды, установленные в экспандере, выравнивают потенциал плазмы в поперечном направлении. Быстрые плазменные электроны попадают на электроды, которые приобретают отрицательный относительно плазмы потенциал. Введение высокоомных сопротивлений Ri способствует снижению флуктуаций потенциала плазмы, обусловленных нестабильностью тока быстрых плазменных электронов, попадающих на электроды. Токи, обусловленные колебаниями плазмы, замыкаются между электродами через цепочку последовательно включенных низкоомного сопротивления ri и емкости Сi, эквивалентное сопротивление которой
Zi= много меньше Ri. Потери (Джоулевы) на сопротивлении ri обеспечивают демпфирование и подавление колебаний плазмы. При этом более эффективное формирование однородной плазменной эмиссионной поверхности в области выходного отверстия экспандера реализуется путем перераспределения тока через электроды за счет того, что величины сопротивлений Ri уменьшаются от входа к выходу экспандера в соответствии с соотношением (2).

При таком соотношении сопротивлений Ri большая часть тока быстрых плазменных электронов замыкается через электроды, расположенные в выходной области экспандера, что способствует формированию из расширяющейся в результате дрейфа к выходному отверстию плазмы однородной эмиссионной поверхности, свободной от флуктуаций и нестабильностей.

Из проведенного анализа физических процессов в предложенном плазменном экспандере следует, что в формируемой в нем плазме снижен уровень нестабильностей и улучшена однородность эмиссионной плазменной поверхности.

Для экспериментальной проверки предложенного экспандера был рассмотрен макет, имеющий экспандер диаметром 40 мм и глубину 60 мм, в котором были установлены восемь электродов в виде сеток. Величины сопротивлений емкостей были выбраны в соответствии с выражениями (1) и (2) и составляли: ri = 10 Ом, Сi = 10 мкФ, Ri =∞, 7 кОм; 3,5 кОм; 2,3 кОм; 1,8 кОм; 1,4 кОм; 1,15 кОм; 1 кОм.

В предложенном экспандере по сравнению с прототипом фазовая плотность пучка увеличена на 20%, что является следствием уменьшения нестабильностей в плазме и улучшения однородности ее эмиссионной поверхности.

Похожие патенты SU1676433A1

название год авторы номер документа
ПЛАЗМЕННЫЙ ЭКСПАНДЕР ИЗМЕНЯЕМОГО ОБЪЁМА 2017
  • Андрианов Станислав Леонидович
  • Кулевой Тимур Вячеславович
  • Куйбида Ростислав Петрович
RU2643525C1
ШИРОКОАПЕРТУРНЫЙ ПЛАЗМЕННЫЙ ЭМИТТЕР 1996
  • Семенов А.П.
  • Нархинов В.П.
RU2096857C1
Источник ионов 1985
  • Чайковский Э.Ф.
  • Пузиков В.М.
  • Семенов А.В.
  • Трубаев Г.К.
SU1356874A1
ГЕНЕРАТОР ОБЪЕМНОЙ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ 2000
  • Семенов А.П.
  • Шаданов А.В.
  • Шулунов В.Р.
RU2175469C1
Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме 2023
  • Бакеев Илья Юрьевич
  • Зенин Алексей Александрович
  • Климов Александр Сергеевич
RU2816693C1
Источник ионов дуоплазмотронного типа 1988
  • Пузиков Вячеслав Михайлович
  • Семенов Александр Владимирович
  • Зосим Дмитрий Иванович
SU1774391A1
ПЛАЗМЕННЫЙ ЭМИТТЕР ЭЛЕКТРОНОВ 2011
  • Мартенс Владимир Яковлевич
  • Шевченко Евгений Федорович
RU2454046C1
ПЛАЗМЕННЫЙ ЭМИТТЕР ИОНОВ 1998
  • Гаврилов Н.В.
  • Емлин Д.Р.
  • Никулин С.П.
RU2150156C1
ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ХОЛОДНЫМ КАТОДОМ 2005
  • Гаврилов Николай Васильевич
  • Каменецких Александр Сергеевич
RU2299489C1
Плазменный эмиттер импульсного форвакуумного источника электронов на основе дугового разряда 2020
  • Казаков Андрей Викторович
  • Медовник Александр Владимирович
  • Окс Ефим Михайлович
  • Панченко Николай Алексеевич
RU2759425C1

Иллюстрации к изобретению SU 1 676 433 A1

Реферат патента 1994 года ПЛАЗМЕННЫЙ ЭКСПАНДЕР

Изобретение относится к ускорительной технике, а именно к устройствам, в которых формируется плазма для получения электронных ионных пучков. Целью изобретения является улучшение однородности и стабильности эмиссионной поверхности экспандера. Плазменный экспандер содержит камеру, диафрагму со стороны входа плазмы, по меньшей мере два изолированных электрода в виде сеток, расположенных перпендикулярно оси симметрии камеры. Каждый электрод соединен с корпусом камеры через сопротивление Ri, где i - порядковый номер электрода со стороны входа плазмы, а соседни электроды соединены друг с другом через последовательно соединенные сопротивления ri и емкости Ci, причем значения величин Ri, ri и Ci связаны неравенством C-i

1<104·ri<103Ri. Значения сопротивлений Ri выбраны в соответствии с зависимостью , где N - число электродов. 1 з.п.ф-лы, 1 ил.

Формула изобретения SU 1 676 433 A1

1. ПЛАЗМЕННЫЙ ЭКСПАНДЕР, содержащий камеру, диафрагму, размещенную со стороны входа плазмы, и по крайней мере, два изолированных электрода в виде сеток, расположенных перпендикулярно оси симметрии камеры, отличающийся тем, что, с целью улучшения однородности и стабильности эмиссионной поверхности экспандера, каждый электрод соединен с корпусом камеры через сопротивления Ri, где i - порядковый номер электрода со стороны диафрагмы, при этом каждый электрод соединен с близлежащими электродами через последовательно подключенные сопротивления γ и емкости Ci, причем значения величин Ri , γ1 и Ci выбраны из условия
Ci < 104˙γ < 103 Ri .
2. Экспандер по п.1, отличающийся тем, что, с целью улучшения однородности его эмиссионной поверхности, значения сопротивлений Ri выбраны в соответствии с зависимостью Ri= где N - порядковый номер электрода, наиболее удаленного от диафрагмы.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1994 года SU1676433A1

Нижегородцев В.В
Облицовка комнатных печей 1918
  • Грум-Гржимайло В.Е.
SU100A1
Кипятильник для воды 1921
  • Богач Б.И.
SU5A1
М.: Наука, 1977, т.1, с.368-369.

SU 1 676 433 A1

Авторы

Леонов В.Н.

Лобанов Н.Р.

Даты

1994-07-15Публикация

1989-07-06Подача