Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к биполярным латеральным магнитотранзисторам используемым в качестве датчиков магнитного поля.
Известны биполярные магнитотранзи- сторы содержащие эмиттер, базу и коллектор с соответствующими контактами
Недостатком такого транзистора явля- е)Ся невысокое значение магниточувстви- тельностм, обусловленное размерами базовой области и расположением коллекторной области.
Наиболее близким к предлагаемому является биполярный ла1еральиый магнито- транзистор. содержащий полупроводниковую пластину первого типа ПрОГОЛИМОС И В приповерхностной области которой сфс.- мироеаны последовательно на очсстоянии друг от друга первая контактная базовая область периоготипа проводимости, игжек- торна область второго типа проводимо тп коллекторная область второго типа проводимости и вторая контактная базовач область первого типа проводимости.
Однако известный биполярный латеральный транзистор характеризуется низ кой магниточувстви гель н остью г о и коллекторных токах, превышающих 0 5 л л
Цель изобретения - повышение магни- точувствитетьности.
г
kl
Р
И 4
СП СО
Поставленная цель достигается тем, что в биполярном латеральном магнитотран- зисторе, содержащем полупроводниковую пластину первого типа проводимости, в приповерхностной области которой сформированы последовательно на расстоянии друг от друга первая контактная базовая область первого типа проводимости, инжекторная область второго типа проводимости, коллекторная область второго типа проводимости и вторая контактная базовая область первого типа проводимости, в приповерхностной области пластины дополнительно сформирована вторая инжекторная область второго типа проводимости, расположенная с противоположной стороны от первой контактной базовой области на расстоянии большем, чем расстояние между первой контактной базовой областью и первой инжекторной областью.
На чертеже приведен биполярный латеральный магниготранзистор, поперечный разрез, со схемой его внешнего соединения.
Биполярный латеральный магнитотран- зистор состоит из полупроводниковой пластины 1 первого типа проводимости, в приповерхностной области которой сформированы посл-,:дорэтельно расположенные на расстоянии один от другого первая контактная базовая область 2 первого типа проводимости, инжекторная область 3 второго типа проводимости, коллекторная область 4 второго типа проводимости и вторая контактная базовая область 5 первого типа проводимости. С другой стороны первой контактной базовой области 2 расположена дополнительная инжекторная область 6 второго типа проводимости. Инжекторные области 3 и 6 соединены между собой и подключены в прямом направлении по отношению к второй контактной базовой области 5 с источником питания Ui. Первая контактная базовая область 2 подключена к тому же источнику питания Ui и по отношению к второй контактной базовой области той же полярности. Коллекторный р-п-пере- ход, образованный областями 4 и 1, подключен в обратном направлении по отношению к второй контактной базовой области 5 и второму источнику постоянного напряжения U2, в его цепь подсоединено сопротивление нагрузки RK. Внешнее постоянное
или переменное магнитное поле В расположено перпендикулярно со стороны маг- нитотранзистора. Выходной сигнал снимается между коллекторной областью 4
и второй контактной базовой областью 5.
Устройство работает следующим образом.
Посредством напряжения питания Ui и регулируемых сопротивлений RI и R2 выбирают режим действия прибора, при котором обе инжекторные области 3 и 6 инжектируют одновременно неосновные носители в пластине 1, при этом инжекторная область 3 работает в режиме отрицательного сопротивления. Коллекторный ток магнитотран- зистора определяется током неосновных носителей, инжектированных в пластину 1 инжекторной областью 3. Магнитное поле В воздействует на инжектированные неосновные носители инжекторных областей 3 и 6, и в зависимости от направления коллекторный ток повышается или понижается.
Введение дополнительной инжекторной областипозволяет повысить
магниточувствительность и возможность
детектирования очень слабых магнитных
полей при одновременном повышении
коллекторного тока на два-три порядка, что
способствует повышению помехозащищеннести.
Формула изобретения Биполярный латеральный магнитотран- зистор, включающий полупроводниковую
пластину первого типа проводимости, в приповерхностной области которой сформированы последовательно на расстоянии одна от другой первая контактная базовая область первого типа проводимости, инжек;орная область второго типа проводимости, коллекторная область второго типа проводимости и вторая контактная базовая область первого типа проводимости, отличающийся тем, что, с целью повышения
магниточувствительности, в приповерхностной области пластины дополнительно сформирована вторая инжекторная область второго типа проводимости, расположенная с противоположной стороны от первой контактной базовой области на расстоянии
большем, чем расстояние между первой контактной базовой областью и первой инжекторной областью.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР, ЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ К МАГНИТНОМУ ПОЛЮ | 2003 |
|
RU2239916C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ МАГНИТНЫЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ | 2004 |
|
RU2284612C2 |
Интегральная биполярная структура | 1990 |
|
SU1746440A1 |
ОРТОГОНАЛЬНЫЙ МАГНИТОТРАНЗИСТОРНЫЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ | 2012 |
|
RU2515377C1 |
ТРЕХКОЛЛЕКТОРНЫЙ БИПОЛЯРНЫЙ МАГНИТОТРАНЗИСТОР | 2012 |
|
RU2498457C1 |
МАГНИТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ БИПОЛЯРНЫЙ ТРАНЗИСТОР | 1998 |
|
RU2127007C1 |
ПЛАНАРНЫЙ МАГНИТОТРАНЗИСТОРНЫЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ | 2010 |
|
RU2422943C1 |
ПЛАНАРНЫЙ БИПОЛЯРНЫЙ МАГНИТОТРАНЗИСТОР | 2010 |
|
RU2439748C1 |
МАГНИТОТРАНЗИСТОР | 1992 |
|
RU2008748C1 |
ТРЕХКОЛЛЕКТОРНЫЙ БИПОЛЯРНЫЙ МАГНИТОТРАНЗИСТОР С ОРТОГОНАЛЬНЫМИ ПОТОКАМИ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА | 2013 |
|
RU2550756C1 |
Изобретение относится к биполярному латеральному магниготранзистору, который используется в качестве датчика магнитного поля. Цель изобретения - повышение магниточувствительности. Биполярный латеральный магтпотранзистор включает полупроводниковую пластину первого типа проводимости, в приповерхностной области которой сформированы последовательно на расстоянии дру( от друга первая контактная базовая область первого типа проводимости, инжекторная область второго типа проводимости, коллекторная область второго типа проводимости и вторая контактная базовая область первого типа проводимости. В приповерхностной области пластины дополнительно сформирована вторая инжекторная область второго типа проводимости, расположенная с противоположной сюроны от первой контактной базовой области ча расстояни,. большем, чем оассюяние между первой контактной базо&ой областью и первой инжекторной областью, Введение дополг-:.- тельной инжекторной области погоняет управлять коллекторным токлм в зависимо сти от направления магнитного поля, что позволяет детектировать г..рнь слабые магнитные поля. 1 ил. С
Авторы
Даты
1991-12-30—Публикация
1984-07-05—Подача