Известны способы для определения концентрации носителей тока в тонких припо-верхностных слоях, осуществляемые зондовым методом и методом измерения пробивного напряжения контакта металл-полупроводник.
Предложенный способ определения концентрации носителей тока в приповерхностном слое полупроводниковых материалов отличается от известных тем, что для обеспечения возможности контроля концентрации носителей тока тонких слоев независимо от абсолютной толщины пленки, повышения точности и упрощения измерений образец помещают в электролит, через границу раздела электролит-полупроводник пропускают постоянный ток и определяют величину тока, при аштором величина фото-э.д.с., возбуждаемой при импульсном освещении границы раздела полупроводник- электролит, равна нулю.
Для предварительной обработки поверхности эпитаксиальных пленок германия и кремния -предложены травители и составы электролитов: для германия 15-18% HF и для кремния 5-180/0 HF.
Эпитаксиальные пленки предварительно обрабатывают: кремний в травителе, содержащем 1 г HF (42%)+4 г HNOs (65о/о), и германий в травителе, содержащем 15 г HaCHsCOOH-f 10 г UNO-, (65а/о)-+-5 г HF (42%).
Лаком ХСЛ наклеивают кольцо из фторопласта, в которое заливают каплю электролита и опускают в нее два платиновых электрода. Один из электродов служит для пропускания ностоянного тока, а другой - фиксирует фотопотенциал. Контакт с низкоомной подложкой осуществляется через электролит.
Граница раздела пленка-электролит освещается импульсами света от лампы-вопыщки
с применением фильтра, создающего поверхностное возбуждение. Измерение производят, подавляя фото-э.д.с. постояниым током, пропускаемым через границу раздела полупроводник - электролит. Наблюдение фотоиотенцна.ла и момент его исчезновения производят по переднему фронту импульса, возннкающего на экране осциллографа. Это исключает влияние ошибок вслелЧствие дембер-эффекта или эффекта на границе раздела электролит -
подложка.
Предмет изобретения
Способ определения концентрацни носителей тока в нриповерхностном слое полупроводниковых материалов с использованием светового импульсного возбуладения, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности контроля концентрации носителей тока тонких слоев (порядка микропа) незави3шеиия точности и упрощения измерений, испытуемый образец помещают в электролит, через границу раздела полуцроводник-электролит пропускают постоянный ток и опреде4ляют величищу тока, при котором величина фото-э.д.с., возбуждаемой нри импульсном освещении границы раздела полупроводник- электролит, равна нулю.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРОФИЛЯ КОНЦЕНТРАЦИИ НОСИТЕЛЕЙ ТОКА В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУРАХ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ КОНТАКТА ПОЛУПРОВОДНИК - ЭЛЕКТРОЛИТ | 1993 |
|
RU2054748C1 |
ДИОД НА ГЕТЕРОПЕРЕХОДАХ МЕТАЛЛ-ПОЛУПРОВОДНИК-МЕТАЛЛ (МПМ) | 2013 |
|
RU2632256C2 |
Способ подготовки образца кремния для определения дефектности структуры | 1990 |
|
SU1800309A1 |
Способ измерения электрофизических параметров межфазной границы электролит-полупроводник | 1982 |
|
SU1069034A1 |
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРОФИЛЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ЛЕГИРУЮЩЕЙ ПРИМЕСИ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ | 2009 |
|
RU2393584C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ | 1990 |
|
SU1823715A1 |
ТРЕХМЕРНО-СТРУКТУРИРОВАННАЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ПОДЛОЖКА ДЛЯ АВТОЭМИССИОННОГО КАТОДА, СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ И АВТОЭМИССИОННЫЙ КАТОД | 2012 |
|
RU2524353C2 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РАЗВОДКИ | 1992 |
|
RU2054745C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЭЛЕКТРОННОГО ПОТОКА | 1973 |
|
SU399933A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ | 1992 |
|
RU2034372C1 |
Даты
1965-01-01—Публикация