Основание электроустановки Советский патент 1992 года по МПК H01R4/66 

Изобретение относится к электроэнергетике и может быть использовано для устройства основания под электроустановку.

Известно основание электроустановки, содержащее заземляющий элемент, размещенный в естественном грунте 1.

Недостатком известного основания электроустановки является то, что на него можно устанавливать электроустановку только в случае качественного естественного грунта.

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому является основание электроустановки, содержащее объем качественного насыпного грунтового материала, предназначенный для расположения на естественном грунте, и заземляющий элемент

2.

Недостатком известной конструкции основания является его высокое сопротивление растеканию тока и недостаточное выравнивание потенциалов на его поверхности. При промерзании грунтового материала снижается его электропроводность, что снижает качество заземления.

Цель изобретения - повышение эффективности работы основания путем уменьшения его сопротивления растеканию тока и улучшения выравнивания потенциалов на его поверхности.

Указанная цель достигается тем, что в основании электроустановки, содержащем объем насыпного материала, предназначенный для расположения на естественном грунте, и заземляющий элемент, нижний слой объема насыпного материала выполнен из электропроводного пористого материала, в нем расположен заземляющий элемент, образующий с нижним слоем объема насыпного материала заземлитель, при этом нижняя поверхность нижнего слоя объ-Ч

СЛ

со сл го

ема насыпного материала расположена ниже границы промерзания основания.

Нижний слой насыпного материала выполнен из металлургического шлака, основание электроустановки снабжено дополнительно введенными дренажными трубами, выполненными из проводящего материала, расположенными в нижнем слое объемного насыпного материала и соединенны с заземляющим элементом, а фундамент электроустановки выполнен в виде пМты из электропроводного бетона.

На фиг. 1 изображено основание группы электроустановок, разрез; на фиг.2 - разрез А-А на фиг.1; на фиг.З - основание группы электроустановок в случае выполнения фундаментов установок в виде плит из электропроводного бетона.

Основание группы электроустановок, расположенных на фундаментах 1, содержит объем насыпного материала в виде верхнего песчано-гравийного слоя 2 и нижнего слоя 3, выполненного из электропроводного пористого насыпного материала, в котором расположен заземляющий элемент в виде металлической сетки 4. Слой 3 расположен на естественном грунте 5, а его нижняя поверхность 6 расположена ниже границы 7 промерзания основания.

Электропроводный слой 3 выполнен из металлургического шлака и совместно с сеткой 4 и заземляющими проводниками 8 образует заземлитель элекроустановок.

Основание снабжено дополнительно введенными дренажными трубами 9, которые выполнены из проводящего материала, расположены в нижнем слое 3 объема насыпного материала, заключены в фильтры 10 их крупнозернистого металлургического шлака и соединены с сеткой 4/

Фундаменты 1 под электроустановки могут быть выполнены в виде плит 11 (фиг.З) из электропроводного бетона, соединенных между собой проводниками 12.

Основание электроустановки работает следующим образом.

Ток I с электроустановки сначала по проводнику 8 стекает на металлическую сетку 4 и дренажные трубы 9, а затем в электропроводный слой 3, после чего через всю нижнюю поверхность 6 слоя 3 ток I стекает в естественный грунт 5.

СлойЗ имеет электропроводность, многократно превышающую электропроводность окружающего грунта, поэтому он практически равномерно насыщается электрическим током и имеет практически одинаковый потенциал. Одйовременно пористый материал слоя 3 защищает естественный грунт 5 от сезонного промерзания, дренажная труба 9 предотвращает насыщение водой слоев 2 И 3, а следовательно, предотвращается и образование в них льда.

Поэтому материал слоя 3 и естественный грунт 5 в течение года имеют постоянную электропроводность.

При выполнении фундамента в виде плиты 11 из электропроводного бетона ток

I стекает с электроустановки сначала в бетон плиты 11, а затем через ее наружную поверхность в электропроводный слой 3 и

далее в грунт 5. При этом устройство металлической сетки не требуется.

С меньшей эффективностью в качестве электропроводного материала слоя 3 могут быть использованы топливный шлак, некондиционные угли и графиты, керамзит с металлизированной напылением поверхностыо и другие.

При устройстве основания под электроустановки на грунтах с высоким удельным сопротивлением, например, на вечномерз- лых или скальных грунтах, площадь нижней

поверхности 6 электропроводного слоя 3 определяется расчетом, исходя из величины допустимого сопротивления растеканию тока на поверхности б.

Формула изобретения

1. Основание электроустановки, содержащее объем насыпного материала, предназначенный для расположения на естественном грунте, и заземляющий элемент, отличающееся тем, что, с целью

повышения эффективности в работе основания путем уменьшения его сопротивления растеканию тока и улучшения выравнивания потенциалов на его поверхности, нижний слой объема насыпного материала

выполнен из электропроводного пористого материала, в нем расположен заземляющий элемент, образующий с нижним слоем объема насыпного материала заземлитель, при этом нижняя поверхность нижнего слоя обьема насыпного материала расположена ниже границы промерзания основания.

2. Основание по п. 1, о тли ч а ющееся тем, что нижний слой объема насыпного материала выполнен из металлургического шлака.

3. Основание по п.1, от л ича ющееся тем, что оно снабжено дренажными трубами, выполненными из проводящего материала, расположенными в нижнем слое объема насыпного материала и соединенными с заземляющим элементом.

4, Основание по п.1,отличающееся тем, что его фундамент выполнен в виде плиты из электропроводного бетона.

J5

If9

б 6

Риг.1

Сущность изобретения: основание электроустановки содержит располагаемый на естественном грунте объем насыпного материала, нижний слой которого выполнен из электропроводного пористого материала, и заземляющий элемент, расположенный в нижнем слое. Нижняя поверхность нижнего слоя объема насыпного материала расположена ниже промерзания основания. 3 з.п.фт лы, 3 ил. сл с

г

V: . A : . o; V- iV;; ; V- f ;.«.f

, . , . t ° . .««,

. .°-л ./......-;. f ...: -.g..

v//y//S/. ////fST// ////

5 10

A-A

Фиг.2