ОПТИЧЕСКИЙ КЛИН Советский патент 1966 года по МПК G02B5/02 

Оптические клинья, получаемые, например, напылением поглощающего материала на стекло, выполняются либо с линейно меняющейся плотностью, либо в виде ступенчатых ослабителей. Эти клинья ослабляют световые потоки по заданному закону с целью сравнения их величин с величинами исследуемых потоков. Однако прозрачность клиньев, рассчитанных на линейно либо ступенчато меняющуюся плотность, не является линейной функцией.

Предложенный оптический клин выполнен в виде двух стеклянных пластин, между которыми напылен слой поглощающего материала. Толщина напыляемого слоя выбирается так, что его прозрачность в одном направлении (вдоль оси X) меняется линейно от «О в центре До почти «1 на краях, а в направлении перпендикулярном (вдоль оси У) - постоянна.

Это позволяет использовать клин для определения точки приложения равнодействующей сил светового давления лучей, отраженных в данном направлении от исследуемого тела.

Клин / ставится перед двумя соприкасающимися ромбическими призмами 2, за. которыми стоят объективы 3, собирающие лучи на фотоэлементы 4, связанные с гальванометром 5, а изображение исследуемого предмета, сфотографированного в заданном направлении, проектируется на поверхность клина.

Световые потоки, падающие на каждый из фотоэлементов, будут равны:

о /1,2 к (xlo(x}dx,

± X

где /о - количество света в изображении какого-либо участка позитива на клине, X - текущая координата, к - коэффициент пропорциональности. При равенстве световых потоков, падающих на фотоэлементы, выполняется соотнощение:

00о

С х/о (х} rfx - Г ж/о (х) dx.

о- х;

перемещен11. изображения по поверхности клина до уравнивания световых потоков, отмечаемого гальванометром.

Предмет изобретения

Оптический клин, вьаюлненный, наиример, в виде двух стеклянных пластин, между которыми нанылен слой поглощающего материала, отличающийся тем, что, с целью использования его для определения точки приложения равнодействующей сил светового давления лучей, отраженных от исследуемого тела в дащюм направлении, толщина напыляемого слии выбирается TaKoii, чтобы прозрап;юсть клина менялась линейно в обе стороны от «О в центре до почти «1 па краях.

о

ZL Фиг

Риг.г