Способ генерации плазменных струй Советский патент 1980 года по МПК H05H1/00 

Изобретение относится к области генерации плазменных струй и может быть использовано в мощных плазменных ускорителях, инжекторах и физических исследованиях. Известен электродинамический метод ускорения плазмы, в пространстве между двумя коаксиальными цилиндрами или профилированными соосными электродами.Разряд между ними производится в момент, когда в рабочую полость быстродействующим клапаном впускается газ при давлении-«от 10 до 10 бар. Плотность и скорость образующихся одногодвух сгустков зависят от параметров тока, начальных параметров газа и фазировки процессов. Даже при высокой добротности контура разрядной цепи этим способом не удается получить струи протяженностью более 2 м с плотностью более 10 см , что не отвечает современным требованиям.

Цель изобретения - увеличение плотности и протяженности плазменных струй. Поставленная цель достигается регулированием параметров тока и давления газа, а также благодаря высокой добротности контура

разрядной цепи при существенно увеличенном давлении газа от 1 и более бар.

Сущность способа заключается в следующем. Между двумя коаксиальными профилированными электродами с помощью специального контура разрядной цепи, имеющего вместе с накопителем

высокую добротность, создается осциллирующий разряд с большой плотностью тока. Разряд создается при большом давлении . в рабочем пространст«зе (1 бар и более). Параметры разрядной цепи и тока,профиль камеры, количество и давление впускаемого газа подбирается таким образом, что в каждом полупериоде пробой, ионизация и захват газа происходят в новых

областях камеры с последующим формированием и ускорением плазмоидов. Движение токовых фронтов при этом происходит с различными скоростями, что приводит к их взаимодействию

с образованием ударных волн и новых плазмоидов за срезом коаксиала. Перемещение повторных разрядов вглубь камеры приводит к вовлечению в процесс ускорения новых порций

-:-,t:. .: .,:,

.,,.„,;/,„4

3274675

идов, цепочка которых составляеткамеры, регулирования параметров

плазменную струю. Высокая лобротностьтока, давления и количества впускаеконтура обеспечивает более полноемого в камеру газа, а также высокоиспользование рабочего газа высокогодобротной разрядной цепи контура,

давления, и следовательно - обра-включая накопитель, отличаюзование струи с увеличенной длинойщ и и с я тем, что, с целью увелии массой. чения плотности и протяженности плазIменной струи, осциллирующий разряд

Формула изобретенияся в камере с высоким давлением газа,

Способ генерации плазменных струйО начале каждого цикла пробой, ионизапутем использования взаимодействияция и захват газа происходят в новых

тока разряда с собственным магнит-областях камеры с последующим форным nojIeM при комбинированном приме-мированием и ускорением составляющих

нении коаксиальной профилированнойструю плазмоидов.

с высокой плотностью тока производитпорядка i бар и вьлие, так что в