СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОДЛОЖКИ СУРЬМЯИО-ЩЕЛОЧНОГО ФОТОКАТОДА Советский патент 1971 года по МПК H01J31/50 

Изобретение относится « электровакуумной технике, а именно к способам изготовления фотоэлектронных приборов.

При изготовлении фотоэлектронного прибора, например ЭОП, ФЭУ, передающей трубки, с входом, выполненным из стекло1волоконного диска, служащего подложкой полупрозрачного сурьмяно-щелочного фотокатода и содержащего компоненты (например, окись свинца), взаимодействующие с парами щелочных металлов, необходимо наносить на подлолжу защитный слой, устраняющий это взаимодействие.

Известен способ изготовления подложки, заключающийся в нанесении на подложку пленки двуокиси кремния методами термического или катодного распыления. Однако методы распыления технологически сложны, особенно при защите подложек большого размера и сложной формы, и не дают возможности получить сплощную стекловидную пленку, что приводит к частичному взаимодействию щелочных металло-в с материалом подложки и к снижению чувствительности фотокатода.

Предлагаемый способ изготовления подложки полупрозрачного сурьмяно-щелочного фотокатода с нанесением защитного слоя отличается тем, что на поверхность подложки после ее промывки и сущ-ки известным способом (обливом, пульверизацией, кисточкой,

перлами и т. д.) наносят один или нескольких тонких слоев растворимого силиката щелочного металла с обязательной сущкой и прогревом каждого слоя. Это позволяет повысить

надежность защиты. Сплошная пленка образуется па подложке только в случае очень малой толщины Нанесенного жидкого слоя (меньще 1 мк). В случае сушки и прокалки более толстого жидкого Слоя образуется порнстая пленка, проницаемая для паров щелочных металлов.

Защитная пленка является гигроскопичной, однако для предохранения ее от влаги воздуха достаточны обычные меры предосторожности. Небольщое колпчество влаги, поглощенной из воздуха, удаляется прогревом, например, в вакууме при температуре 380-450°С в процессе обезгаживапия собранного электрова куумпого прибора. В вакууме пленка

остается стабильной.

Образующаяся стекловидная прозрачная пленка, состоящая из нескольких слоев, не взаимодействует с парами щелочных металлов и надежно защищает материал подложки от

взаимодействия с ними. Термическая стойкость пленки определяется ее составом. Например для пленки состава К20 4SiO2 температура плавления равна 765°С. Полная толщина пленки составляет от десятых долей микрона 3 ции и модуля сиотиката, вязкости раствора и кратности нанесения слоев. Кроме того, силикатная пленка, нанесенная одним или несколькими слоями на стекловолоконный диск, в ко- тором имеются мнкрорасслоения, надежно 5 герметизирует его. Фотоэлектронный прибор, герметичный прибор с высокоэффективным фотокатодом может быть изготовлен, например, при однократНом обливе стекловолокоиного диска, в кото-Ю ром содержится окись свинца, 20%-ным водным раствором силиката ;калия состава К2О 4SiO2 с последующей сушкой на возду4хе в течение Около 51гы« три температуре 80°С и прокалкой на воздухе илИ Б вакууме при температуре не ниже 300°С. Предмет изобретения Способ изготовления подложки сурьмянощелочного фотокатода, включающий нанесенные на внутреннюю поверхность -подложки защитного слоя, отличающийся тем, что, с целью новыщения надежности защиты, защитный слой наносят из водного раствора силиката щелочного металла.