Устройство для моделирования потенциальных полей Советский патент 1975 года по МПК G06G7/48 

Описание патента на изобретение SU469978A2

Изобретение относится к области моделирования потенциальных полей и может быть применено в вычислительной технике при построении автоматических систем, предназначенных для математического моделирования различных процессов, в то,м числе нестационарных.

ilo основному авт. свид. известно устройство для моделирования потенциальных полей, содержащее основной (моделирующий) фотонроводящий слой, соединенный с источником питания, дополнительный (коммутирующий) фотопроводящий слой и прозрачный токопроводящнй слой, расположенные на прозрачной диэлектрической подложке.. Форма моделируемой области задается при помощи теневой маски, расположенной против моделирующего фотопроводящего слоя.

Однако точность моделирования такого устройства недостаточно высока. На границе моделирующего и коммутирующего слоев, которые выполнены из разного фотопроводящего материала, имеется гетеропереход, что обуславливает нелинейность вольт-амперной характеристики устройства. Это приводит к нарущению пропорциональности между значением моделируемой функции и потенциалом прозрачного токопроводящего слоя в различных точках моделирующего устройства и, следовательно, к снижению точности моделирования.

Целью изобретения является повышение точности моделирования.

Для этого предложенное устройство содержит дополнительный слой материала с высокой анизотропией электропроводимости, расположенный между основным и дополнительным фотоприводящими слоями, которые выполнены из одного и того же материала. Для повышения оптической разрядки входа и выхода анизотропный слой выполнен непрозрачным для падающего излучения.

В предлагаемом устройстве гетеропереход отсутствует, так как моделирующий и коммутирующий слои выполнены из фотопроводящего полупроводникового материала с одной и той. же шириной запрещенной зоны, разделены слое.м материала с анизотропной электропроводностью, причем контакт как моделирующего, так и коммутирующего слоев со

слоем материала с анизотропной электропроводностью является омическим. Зтим достигается линейность вольт-амперной характеристики моделирующего устройства, что обуславливает высокую точность моделирования.

На чертеже показано предложенное устройство.

Устройство состоит из основного и дополнительного фотопроводящпх слоев 1, 2 и прозрачного токопроводящего слоя 3, расположенных на прозрачной диэлектрической подложке 4. Между основными слоями 1 и 2 расположен непрозрачный слой 5 с высокой анизотропией электропроводности, имеющий высокую проводимость по Z - направляющей и низкую - по , У- направляющим.

В качестве хматериала для изготовления слоя 5 может быть применена эпоксидная смола с внедренными в нее частицами ферромагнитного материала, полимеризовавшаяся в магнитном поле. Материалом для изготовления моделирующего 1 и коммутирующего 2 слоев служит, например, селенид .кадмия. Слой 1 снабжен ннзкоомными электродами 6 для подключения источника впещнего напряжения 7. Над слоем 1 размещена съемная теневая маска 8, форма которой задает форму исследуемой модели. Теневая маска 8 равномерно освещена световым потоком. Подвижный источник света, формирующий точечный световой зонд 9, расположен со стороны нрозрачной подложки 4.

Устройство работает следующим образом.

В темноте проводимость слоя 1 очень мала. Световой поток, пройдя через маску 8, освещает некоторую область 10 слоя 1, вызывая в нем явление внутреннего фотоэффекта. Проводимость освещенной области 10 слоя I резко возрастает, ,а проводимость теневой области 11 слоя 1 остается неизменной. Вследствие высокой кратности отношения световой проводимости слоя 1 к проводимости в темноте ток от источника 7 протекает в основном через освещенную область 10, создавая распределение потенциала, определяемое формой этой области. Моделирование неоднородных по проводи.мости областей проводится при помощи теневой маски 8, характеризующейся соответствующей неоднородностью коэффициента пропускания падающего светового потока. При этом необходимо согласовать оптическую плотность маски 8 с люкс-амперной характеристикой материала слоя 1. Точечный световой зонд 9 освещает через прозрачную диэлектрическую подложку 4 и прозрачный токопроводящий слой 3 локальную область дополнительного слоя 2. Непрозрачность анизотропного слоя 5 обеспечивает оптическую развязку слоев 1 и 2. Проводимость освещенного участка слоя 2 вследствие явления внутреннего фотоэффекта резко возрастает. Это создает условие для передачи потенциала

ф(А , У), соответствующего положению точечного светового зонда 9 участка слоя 1, через участок анизотропного непрозрачного слоя Б и освещенную область слоя 2 на продрачный токопроводящий слой 3 и далее в цепь нагрузки. Распределение потенциала (f(X, У) на слое 1 определяется построчным сканированием точечного светового зонда 9. Наличие в предлагаемом устройстве непрозрачного анизотропного слоя позволяет выполнить основной и дополнительный слои из одного и того же фотопроводящего материала. В том случае, когда проводящие частицы анизотропного непрозрачного слоя 5 имеют омический контакт с материалом слоев 1 и 2, обеспечивается линейность вольт-амперной характеристики всего устройства и, следовательно, строгое соответствие выходного напряжения устройства результатам моделирования,

реализуемого световым потоком и теневой маской 8 на моделирующем основном слое 1. Обеспечить омический контакт проводящих частиц анизотропного непрозрачного слоя 5 с фотопроводящим материалом слоев 1 и 2 можно, покрыв их тонкой пленкой, например, металлического индия с помощью гальванонластики.

В предлагаемом устройстве отпадает необходимость в применении монохроматических

световых потоков. Это упрощает создание высоких интенсивностей световых потоков, что из-за снижения инерционности фотопроводимости позволяет повысить быстродействие предлагаемого устройства. Применение вместо теневой маски кинопроектора с кинопленкой, на которой отражены возможные изменения состояния моделируемой среды, позволяет исследовать нестационарные процессы аэрои гидродинамики и т. д.

Предмет изобретения

Устройство для моделирования потенциальных полей по авт. свид. 9 383067, отличающ е е с я тем, что, с целью повыщения точности моделирования, оно дополнительно содержит непрозрачный слой с высокой анизотропией электропроводности , расположенный между основным и дополнительным фотопроводящими слоями.

I I I I I И И

Похожие патенты SU469978A2

название год авторы номер документа
УСТРОЙСТВО для МОДЕЛИРОВАНИЯ ПОТЕНЦИАЛЬНЫХ 1973
  • С. В. Свечников А. К. Смовж Институт Полупроводмиков Украинской Сср
SU383067A1
Оптоэлектронный процессор для решения уравнений математической физики 1988
  • Лавренюк Александр Федорович
  • Смиренский Олег Викторович
SU1793449A1
Преобразователь положения светового луча в электрический сигнал 1983
  • Бушмин Анатолий Павлович
  • Хайрюзов Виктор Васильевич
SU1129631A1
ЭЛЕКТРОДНОЕ СРЕДСТВО С ФУНКЦИОНАЛЬНЫМ ЭЛЕМЕНТОМ ИЛИ БЕЗ НЕГО И ЭЛЕКТРОДНОЕ УСТРОЙСТВО, СФОРМИРОВАННОЕ ИЗ ЭЛЕКТРОДНОГО СРЕДСТВА С ФУНКЦИОНАЛЬНЫМИ ЭЛЕМЕНТАМИ 1998
  • Инганес Олле Вернер
  • Педе Данило
  • Гранстрем Магнус
  • Лейстад Гейрр И.
RU2216820C2
Фотоэлектрический преобразователь перемещений 1981
  • Титов Валерий Борисович
  • Ракчеев Дмитрий Петрович
SU998862A1
Фотоэлектрический преобразователь перемещений 1985
  • Кудрявцев Виктор Борисович
  • Титов Валерий Борисович
  • Зуев Николай Иванович
SU1325299A1
Устройство для решения задач математической физики 1976
  • Грищенко Вячеслав Леонидович
  • Пронин Виталий Петрович
  • Шувалов Александр Николаевич
SU587473A2
Оптоэлектронный функциональный преобразователь 1978
  • Смовж Анатолий Кузьмич
  • Горловский Вадим Борисович
SU769571A1
Оптоэлектронное вычислительное устройство для решения дифференциальных уравнений в частных производных 1991
  • Лавренюк Александр Федорович
SU1807505A1
Функциональный фоторезистор 1976
  • Щербак Владимир Иванович
SU819861A1

Иллюстрации к изобретению SU 469 978 A2

Реферат патента 1975 года Устройство для моделирования потенциальных полей

Формула изобретения SU 469 978 A2

SU 469 978 A2

Авторы

Свечников Сергей Васильевич

Смовж Анатолий Кузьмич

Богданович Виктор Борисович

Богуславский Роман Евелевич

Даты

1975-05-05Публикация

1973-06-19Подача