Устройство для получения низкотемпературной плазмы Советский патент 1975 года по МПК H05H1/00 

1

Изобретение предназначено для создания однородной низкотемпературной плазмы в потоке газа в частотном режиме в особеьи-юст : для ипицннровання плазм-химических реакций, оно может быть применено также в газоразрядиых лазерах.

Известно устройство для получения низкотемпературной плазмы, выполненное в внде нроточной газовой камеры, содержащей расиоложениые па торцевых плоскостях отверстия для входа п выхода газа, основные и вспомогательные электроды.

В этом устройстве основные электроды представляют собой две гладкие металлические болванка с закругленными но профилю Роговского краями п расположены так, что основной разряд горит поперек потока газа. Вспомогательные электроды расположены на iitKOTopoM расстоянии от основных с одной или с обеих сторон от них и подключены через конденсаторы к основным.

Однако при использовании известного устройства невозможно нри определенной скорости потока увеличить частоту повторения импульсов выше некоторого предела. Этот предел обусловлен двумя причинами.

Первая - это нагрев газа ударными волнами. В момент импульсного разряда в разрядной области возникают ударные волны, распространяющиеся вверх и вниз по поюку, на2

гревая, в частности, ту порцию газа, которая выносится потоком в межэлектродную область к моменту следующего разряда. 11роксходящее накопление тепла от импульса к импульсу приводит к иагреву газа в разрядно11 области до температур, ири которых генерация лазера неэффективна, либо прекращается. Нагрев газа приводит также к образованию дуги вследствие тепловой неустойчивости низкотемпературной плазмы.

Вторая причина - налнчке градиента температуры газа, направленного по потоку газа перед разрядо.м. Неоднородность температурного распределения по сечению разряда приводит к неустойчивому состоянню разряда с преимущественным дугообразованием на краях злектродов, у которых температура газа выше. Необходи:1Ю длительное время продувать разрядную область иотоком газа, чтобы градиент температуры газа стал настолько мал, что не оказывал бы влияния на однородность пробоя разрядного промежутка. Это ограничивает частоту следования импульсов.

Целью предполагаемого изобретения является увеличение частоты повторения разряда.

Это достигается тем, что в предлагаемом устройстве осповные электроды вьшолиены в виде решеток, закрывающих отверстие для Б.хода и выхода газа, причем решетка элект