Оптическая система Советский патент 1977 года по МПК G02B27/18 

1

Изобретение относится к проекциоилым системам, в частности, для проекции изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину при производстве микроэлектрониых схем.

Известны проекционные систе мы, в которых осуществляется одновремеппый перенос изображений всех элементов фотошаблона на полупроводни;ковую пластину с высоким разрешением по всему полю зрения системы 1. Однако вследствие недостаточной глубины резкости таких систем возможность исиользовалия их для проекции изображеиий обьектоз на поверхность со значительными отступлениями от плоскости, например поверхность полупроводвиковой пластины, ограничена.

Для уменьшения влияния неплоскостности фоточувствптельной поверхиост} полупроводни-ковой пластины используют системы с автоматической фокусировкой 2, В этих системах при одновременном переменхе 1и.и фотошаблона и полупроводниковой пластины соблюдение постоянства масштаба в процессе зкспонирования обеспечивается за счет выполнения системы из двух одинаковых объективов, что, в свою очередь, приводит к уве-. личению расстояния между предметом и изображением, для уменьшения которого требуется изло.м оптической оси.

Системой, в которой учтены указанные

выше треоования, является проекционная система 3, 4, 5 с увеличением «+1, содержащая два одинаковых объектива с вогнутым зеркалом в каждом из них, размещенную между ними полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым и за вторым объективами плоские отражатели, наклоненные к их оптическим осям на 45. Однако эта система имеет поле зрения малых размеров из-за чего снижается производительность процесса изготовления микросхем. В предлагаемой системе для увеличении ноля изображения каждый из объективов выполнен не менее, чем из двух компонентов,

крайние из которых жестко скреплены соответственно с вогнутым зеркалом и с плоским отражателем, а расстояние между оптическими осями объективов равно удвоенному расстоянию от центра диафрагмы до оптической

оси одного из них.

Описываемая система, показанная на чертеже, служит для проекции изображения части фотошаблона 1 :на параллельную ему полупроводниковую пластину 2 в однократном

масштабе без оборачивания. Система содержит два одинаковых объектива, каждый из которых составлен из двух компонентов 3 н 4 (первый объектив) и 5 и 6 (второй объектив), при этом с компонентами 3 н 5 соответственно жестко связаны отражатели 7 и 8, наклоненные на 45° к оптическим осям объективов, а е компонентами 4 и 6 - вогнутые зеркала 9 и 10. Изображение части фотошаблона 1 отражателем 7, первым объективом из элементов 3, 4, 9 формируется в плоскости полевой диафрагмы 11, совпадающей с плоскостью предмета второго объектива из элементов 5. б, 10, оптическая ось 12 которого смеисена от целтра диафрагмы 11 на половину расстояния этой оси до оптической оси 13 первого объектива. Благодаря компенсации аберраций объективов за счет параллельиого сменкния их оитических осей в оииса.циой .схеме увеличено поле изображения. Формула изобретен и я Оптическая система с увеличением «плюс единица, иапри1мер, для проекции изображения фотошаблона на параллельную ему полупроводннковую пластину, содержащая два одинаковых объектива с вогнутым зеркалом в каждом из них, размещеииую между ними полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым и за вторым объективами нлоские отражатели, иаклоненнь е к их оптическим осям на 45°, отличающаяся тем, что, с целью увеличения ноля изображения, каждый из объективов выполнен не менее, чем из дв)х комионентов, крайние из которых жестко скреплены соответственно с погнутым зеркалом и е плоским отражателем, а расстояние между оптическими осями объективов равно удвоенному расстоянию от центра диафрагмы до оптической оси одного из них. Источники информации, принятые во внимание при экспертиле 1.Авторское свидетельство № 310585, G 02В 17/08, 1970. 2.Авторское свидетельство 254815, G 02В 11/34, 1969. 3.Авторское свидетельство № 354389, G 02В 21/02, 1972. 4.Авторское свидетельство № 439778, G 02В 17/08, 1974. 5.«Solid Stale Technology, June 1974, 50-53 (прототип). р