Способ обработки монокристаллов ниобата лития Советский патент 1978 года по МПК G03H1/18 

Описание патента на изобретение SU568309A1

154) СПОСОБ ОБРАБОТКИ МОНОКРИСТАЛЛОВ НИОБАТА

. ЛИТИЯ 356 ным (л/48 ч) отжигом при высокой температуре (1000 С), нецопустимым в случае создания на поверхности кристалла или в его объеме каких-либо структур испол зование инертной атмосферы} ограничейной толщиной фазовой голограммы, поскольку толщина диффузного слоя 50ipo мкм. Уменьшение толщины гологра л мы ведёт к пропорциональному уменьшению информативной емкости ISYj ухудшению угловой и спектральной селективности объемной фазовой голограммы. Способ не позволяет создать реверсивную среду за данной формы внутри кристалла, обладающую сймметр ганой записывающе-сткраюшей характеристикой, Цель изобретения - создание реверсив ной среды заданной формы внутри кристал ла, обладающей симметричной записываю ще-стира-юшими харшгтерпстиками, Эт-о достигается облучением монокрис таллов электронным пучком с дозой 10 ° Ю е/см , и энергией электронов не более 1-2 Мэв на 1 мм толщины и не ме нее О,5 Мэв в обычной атмосфере при комнатной гемперагуре. Способ осуществляется следующим обр аом. Из монокристаллов нцЬбата лития вырё зают пластинки параллельно оптической оси С кристалла. Пластинки полируют по оптическому классу чмстотьи .Получениьг образцы кристаллов далее обрабатывают предлагаемым способом. Получают реверсив1 ю среоз заданной формв18 обладающую симметричными записываюше-стирающими характеристиками. На фиг, 1 изображены записьшаюшестирающие карактеристикй чистого монокристалла LI NtsOg , используемог-о в качестве реве хзивной до обработки впвЕ гронным пучком. Моно1фисталл liNbOj представляет собой пластинку А-среза, обе поверхности которой оптически/ отполированы. Записывающего-стиракицие характеристики исследовались следующим образом; излучение аргонового лазера, работающего на одной поперечной моде, расшеплялось на объектмььй, и опорный лучи одинаковой интенсивности, которые скрещивались в кристалле Li НЪОд под углом 15 , OnTH-i ческая ос-в кристалла LiNbOg лезкала в плоскости распространения записывающих лучей и была перпендикулярна, нх бисектору. Дифракционная эффективность фазовой голограммы, возникающей в кристал- 0 ле, измерялась с использованием излучения Не -Мелазера (633 нм). Кривая 1 изображает запись голограммы излучением аргонового лазера (длина волны 488 нм, плотность мощности 1 Вт/см ). Кривая 2 изображает процесс стирания голограммы излучением того же лазера Кривые. 3 и 4, 5 и 6, 7 и 8, 9 и 10 изображают соответственно второй, третий, четвертый и пятый циклы записьстирание голограммы в одном и том же месте кристалла, Как видно из фиг. 1, записывающестирающая характеристика не обладает симметрией. Воспроизводимости характеристики отсутствует. На фиг. 2 показана реверсивная харак-теристика шести последовательных циклов запись (5 сек) - стирание (5 сек) в одном и том же месте кристалла; для исходного чистого кристалла - кривая 11 и обработанного пучком быстрых электронов-кривая 12. Как видно по кривой 11, чистый кристалл If NbOj не обладает реверсией; стирашае оказывается неполным, и .последующая запись накладывается на пре- дыдущую, утот эффект накопления приводит к искажению всех последующих голограмм. Кривая 12 свидетельствует о хороией реверсивной -характеристике и симмет ричных записывающе-стирающих характеристиках кристалла LiNbOj, обработанного предлагаемым способом; доза 5 1О е/см, энергия электронов 3,8Мэв, то -пцина образца 3 мм. В результате исследования реверсивной характеристики для Зи циклов в разгных местах кристалла получена хорошая повторяемость, Предлагаемый способ обработки кристалла ниобата лития позволяет обрабатывать кристалл при комнатной температу-ч ре и в атмосфере воздуха; использовать кристаллы, имеющие на поверхности или в объеме готовые структуры, например металлическую пленку толщиной 10 100 мкм на повер; ности (это не препятствует объемной обработке кристалла эяектрош ым пучком)} создавать внутри кристалла реверсивную среду для голографической записи о оптическим стиранием, имеющую любую заданную форму и обладающую симметричными записываклцестирающими характеристиками.

Похожие патенты SU568309A1

название год авторы номер документа
Способ определения энергетического положения уровней дефектных и примесных центров в полупроводниковых и диэлектрических материалах 1985
  • Горбань Иван Степанович
  • Одулов Сергей Георгиевич
  • Олейник Ольга Ивановна
  • Соскин Марат Самуилович
SU1330676A1
Ргистрирующий материал для записи голограмм 1975
  • Баркан И.Б.
  • Пестряков Е.В.
SU540512A1
Способ голографической записи 1976
  • Баркан Иосиф Борисович
  • Маренников Сергей Иванович
  • Энтин Матвей Вульфович
SU661489A1
Фотохромный электрооптический материал 1989
  • Панченко Татьяна Васильевна
  • Осецкий Юрий Георгиевич
SU1673654A1
Способ восстановления фазовых голограмм в фоторефрактивных кристаллах 1988
  • Кострицкий Сергей Михайлович
SU1587460A1
Способ записи голографической решетки 1974
  • Марков Владимир Борисович
  • Одулов Сергей Георгиевич
  • Соскин Марат Самуилович
SU526208A1
Способ изготовления периодических структур на сегнетоэлектрических кристаллах 1989
  • Кострицкий Сергей Михайлович
  • Колесников Олег Михайлович
  • Маньянов Раис Шайхулович
SU1782323A3
Селектор излучения 1975
  • Соскин Марат Самуилович
  • Тараненко Виктор Борисович
SU597037A1
УСТРОЙСТВО ПРЕОБРАЗОВАНИЯ ВИДЕОТЕЛЕВИЗИОННЫХ ИЗОБРАЖЕНИЙ В ГОЛОГРАФИЧЕСКИЕ 1996
  • Богомолов Валерий Павлович
  • Долгих Олег Иванович
  • Колобродов Георгий Николаевич
  • Сафронов Виктор Валентинович
RU2106672C1
РЕГИСТРИРУЮЩАЯ СРЕДА ДЛЯ ЗАПИСИ ГОЛОГРАММ 2009
  • Лантух Юрий Дмитриевич
  • Кецле Гарри Альбертович
  • Пашкевич Сергей Николаевич
  • Летута Сергей Николаевич
  • Алиджанов Эскендер Куртаметович
RU2410739C2

Иллюстрации к изобретению SU 568 309 A1

Реферат патента 1978 года Способ обработки монокристаллов ниобата лития

Формула изобретения SU 568 309 A1

SU 568 309 A1

Авторы

Баркан И.Б.

Сафронов Л.Н.

Даты

1978-11-15Публикация

1976-02-25Подача