(54) ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| Фототермопластический материал для записи информации | 1981 |
|
SU1108383A1 |
| Способ записи оптической информации на фототермопластическом носителе | 1983 |
|
SU1223194A1 |
| Фототермопластический материал | 1980 |
|
SU938242A1 |
| Способ записи и стирания информации на фототермопластическом носителе | 1989 |
|
SU1675839A1 |
| Способ записи рельефных голограмм | 1978 |
|
SU750420A1 |
| Способ определения цикличности рельефографического носителя информации | 1982 |
|
SU1061098A1 |
| Фототермопластический материал | 1991 |
|
SU1768044A3 |
| Носитель для записи информации электронным лучом | 1990 |
|
SU1780104A1 |
| Устройство для регистрации оптических голограмм на термопластических носителях | 1990 |
|
SU1807444A1 |
| СПОСОБ РЕГИСТРАЦИИ ДВУХЭКСПОЗИЦИОННОЙ ГОЛОГРАФИЧЕСКОЙ ИНТЕРФЕРОГРАММЫ | 1991 |
|
RU2024821C1 |
I
Изобретение касается фототермопластического материала, который может быть использован для оперативной регистрации и хранения информации, для записи сигналов радиолокационных станций, в системах памяти электронно-вычислительных машин, передачи изображений и другой информации со спутников и т. п.
Известен фототермопластический материал, состоящий из проводящей подложки и фототер.мопластического слоя, включающего органический фотопроводник - поли-М-винилкарбазол (ПЕК), полимерное термопластическое связующее - сополимер стирола с дивинилом и сенсибилизатор - 2,4,7-тринитрофлуоренон-9 (ТНФ) 1.
В последнее время все большее значение фототермопластические материалы приобретают для голографической записи информации. Для этого они должны иметь высокую чувствительность, дифракционную эффективность и обеспечивать многократность записи.
Основной недостаток известного материала - малая цикличность.
При действии коронного разряда из-за больщого количества выделяющегося озона происходит окисление термопластического связующего за счет имеющихся в нем дивинильных звеньев и образование свободных радикалов. Нагрев материала до 90-120°С, который необходим для проявления механического рельефа на фототермопластическом материале и стирании записи, приводит к тому, что по месту разрыва двойных связей в дивинильном звене происходят сщивки. Каждый цикл «запись-стирание постепенно приводит к тому, что увеличивается вязкость расплава термопластического материала и фототермопластическая композиция быстро теряет способность деформироваться. Через 20-25 циклов материал становится непригодным для записи.
Цель изобретения - получение фототермопластического материала с повышенной цикличностью и дифракционной эффективностью.
Эта цель достигается тем, что фототермопластический слой содержит дополнительно антиоксидант - 2,6-ди-трет-бутил-4-метил
