как аммиак в основном действует только на электрохимическое выделение кобальта, Таким образом, предлагаемые как кислгте, так и и елочные электролиты с оксякислотами являются не npHroflHbiNfn для получения толстых слоев из сплава кобальт-вольфрам. Наиболее близким к изобретению является известный способ электролитического нанесения покрытий сплавом кобальт-вольфрам из слабокислых электролитов nocTOHHHbi vi током 4. Процесс ведут при рН - 4,5-5,5, плотности тока 0,6-1 А/дм и температуре 30-40° С в электролите, содержащем кобальт сернокисльп, калий вольфрамовокислый, магний сернокислый и борную кислоту. Однако данный способ предназначен для оса дения магнитных пленок (толщиниг-нокрытия KecKOJibKO микрон) и направлен па улучзисние магнитных свойств. Полученные покрытия содержат 11-19% вольфрама, 74-84% кобальта, 0,3-1,4% магния и до 12% немета.пличкских. примесей, s связи с чем невозможно sic динно му способу полуштъ покрытия повышенной то ищны. Предлагаемый способ отличается от изяестГОГО тем, что, с целью ПОВЬНИеПИ:. /;О-1МЛ: ГЛ покрытия и выхода по току за счет (if ноо осстаиовления июстивалснтнсго : ма до металли11еского состояния, oiwu; дут при ifJCOTHOCTH nocTOfuiHoro тока п.л- 2 А/дм с наложением импульсного тока iTirox -KocTbtD 6-20 А/дм, частотой cjnwcHJnrHR; ямСостав электролита, MOJJI,/,U
Кобальт хлористый Вольфрамат натрия Лимонная кистготв орная кислота
Режим электролиза рН электролит Температура, (. Плотность постоякгюго
А/дм
Плотность ИМПУЛЬСНОГО тока,
А/дмПродолжителЬ Т;.;-1Ь импу;гьсов,
сек
Пауза, сек
Продолжите;:ьпость пр цесса, час
Эксперимечтяльные данные Толщина покрьзтия, икм Вь(ход по току, % Содержа1- йе VV в сплаве. % Содержание примесей, %)
1,2
L1 ттульсоя о,-- сек и паузами между ними 0,2-6 сек. Процесс осаждения сплава рекомендуют проводить в электролите состава, моль/л: Кобальт хлористый0,2-0,4 Натрий вольфрамовокислый0,04-0,12 кислота0,3-0,6 Борная кислота0,3-0,45 при рЫ 4,5-6 и температуре 20-70°С. Сущность способа состоит в следующем. Сначала определяют условия, при которых происходит только соосаждение с кобальтом частичт-ю восстановленного вольфрама. Такие условия соответствуют силе фонового тока. На этот ток накладывают определенной продолжите1 ьиости и силы импульсный ток. Во время такого импульса создаются условия для восстановления частично восстановлотного вольфрамата до мстал.лического вольфрама. Такие услови.ч остаются определенное время и после имгг/льса. Слюдуюидий импульс опять создает восстановительные для вольфрама условия. Изменяя продолжительность импульса и паузы, можно установить влияние более медленного восстановления вольфрама -из низких валентностей до металлического состояния. Гальванические покрытия в таких условиях формируются без Tpewmi, с более высоким выходом по току по сравнению со средним арифметическим значениСГ-.1 этих величин, устанозленных при силе тока импульсов я при силе тока между ними (см. . табз., примеры -4),
