Устройство для юстировки электронно-оптической системы Советский патент 1983 года по МПК H01J29/54 

Изобретение относится к электронной технике, в частйости к электрон . но-оптическим системам (ЭОС) электроннолучевых трубок с электростатической фокусировкой и усилением отклонения, которые подлежат юстировке

Известные электростат 1(эские отклоняющие системы, которые можно применить как устройства юстировки, образованы пластинами, вытянутыми вдоль оси системы fl. .

Однако такие системы сложны в изготовлении и сборке, а также значительно увеличивают длину ЭОС.

Наиболее близким техническим решением к предложенному является устройство для юстировки ЭОС, содержащее две юстируквдие диафрагмы с отверстиями, которые смодены относительно оси ЭОС и ориентированы под прямьм углом 2 3. Каждая из диафрагм имеет самостоятельный вывод, и регулировкой их потенциалов обеспечивается юстировка в двух перпендикулярных плоскостях.

Недостатком этого устройства явля ется то, что оно имеет малую чувствительность, дефокусирует луч и вносит такие искажения, как поворот пятна, причем с увеличением поданного напряжения юстировки дефокусировка и искаженин нарастают.

В известном устройстве отклонение в каждом направлении осуществляется несимметричным полам одной юстирующей диафрагмы, на которую подано положительное или отрицательное напряжение, при этсм отверстие диафрагмы, сквозь которое проходит электронный луч, воздействует на этот луч подобно круглому отверстию в обычной осесимметричной линзе-диафрагме, т.е. в данном случае производит дефокусировку луча. Иными словами, имеет место электронная линза, обладающая определенной оптическрйх силой, которая зависит от величины г приложенного юстирующего напряжения, в связи с чем и возникает дефокусировка электронного луча. С другой стороны, две рядом расположенные диафрагмы с взаимно пеютеццикулярными отверстиями поворачивают луч относительно первоначального положения благодаря взаимнсялу проникновению полей, что также нарушает фокусировку. Величина поворота определяется разностью потенциалов соседних диафрагм Таким образом, в процессе юстировки ЭОС необходимо постоянно корректировать фокусировку луча, что вызывает дополнительные трудности, так как ЭОС, в которых используются рассматриваемые устройства, состоят из трех, четырех и более несимметричных линз, и в некоторых случаях вообще не удается получить хорошо сфокусированный луч.

Целью изобретения является повымение чувствительности юстировки и ее упрощение при сохранении разрешающей способности.

Цель достигается тем, что в устройстве для юстировки ЭОС, содержащем две юстирующие диафрагмы с отверстиями, которые смодены относительно оси ЭОС и ориентированы под прямым , между юстирующими диафрагмами введены две дополнительные диафрагмы, отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юстит руюдих диафрагм и смещены по отношению к соседней юстирующей диафрагме в противоположные стороны, при зтом дополнительные диафрагмы электрически соединены между собой.

На чертеже показано предлагаемое устройство для юстировки.

Устройство юстировки соцержит две юстиругацие диафрагмы 1 и 2, отверстия которых имеют вытянутую форму и смещены относительно электронно-оптической оси 3. Между юстирующими диафрагмами 1 и 2 введены дополнительные диафрагмы 4 и 5, которые установлены так, что каждая из них, например дополнительная диафрагма 5, вместе с соседней юстирующей диафрагмой 1 образует пару, -причем отверстия диафрагм каждой пары одинаковы lio форме и смещены в противоположные стороны от электронно-оптической оси 3, образуя в центре щель. На юстирующие диафрагмы поданы напряжения юстировки U2 , а на дополнительные диафрагмы подано одинаковое напряжение Uj. В частнонслучае напряжение X/j может быть равно нулю.

Устройство для юстировки работае следующим образом.

Электронный луч проходит поочередно сквозь кажцую пару диафрагм, например диафрагмы 2, 5, и отклоняется в направлении, перпендикулярном направлению щели, благодаря поданному напряжению юстировки U на диафрагму 1 и образованию поперечной составляющей поля в пространстве между юстирующей 1 и дополнительной диафрагмами (на последнюю подано напряжение Uj) . Б другой плоскости луч отклоняется парой диафрагм 2 и 4, Таким образом, меняя величину и полярность напряжений U к 2 относительно Uj, осуществляют отклонение луча юстирующим устройством в любом требуемом направлении.

Введение дополнительных диафрагм позволяет увеличить напряженность поля в пространстве между соседними диафрагмами пары, при электростатическое поле внутри отверстий диафрагм 1 и 5 распределяется неравначерно. С увеличением расстояния от оси ЭОС напряженность поля в плоскости дополнительной диафрагмы 5 убывает, а затем меняет знак, что приводит к компенсации дефокусировки, вызванной отклоняющим юстирующей диафрагмы 1. Оптическая сила дефокусировки у данной конструкции устройства значительно меньше, чем у известной, а чувствительность благодаря созданию поперечной составляющей поля вале в 2,5 раза. 9672 5 10 164 Kpcwe того, внутренние дополнительные диафрагмы 4 и 5, на которые подано одинаковое напряжение, экранируют взаимное проникновение полей внешних юстирукщнх диафрагм 1 и 2, и,поворот луча и его искажения не наблющаются. В результате отсутствия дефокусировки и искажений исключается коррекция в процессе настройки ЭОС/ а юстировка в целом упрощается.

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЮСТИРОВКИ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ, ссздержащее две юстирующие диафрагмы tffO с отверстиями, которые смещены отно-. сительно оси электронно-оптической системы и ориентированы под прямым углом, отличающееся тем, что, с целью повышения чувствительности юстировки и ее упрссцения при сохранении разрешающей способности, ме5кду юстирукадими диафрагмами введены две дополнительные диафрагмы , отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юстирующих диафрагм и смещены по отношению к соседней юстирующей диафрагме в противололожные стороны, при этом дополнительные Диафрагмы электрически соединены меядду собой. (Л с