Изобретение относится к оборудованию для светолучевой обработки и может найти применение для пайки световым лучом различных изделий электротехнической промышленности.
Известно устройство для пайки, содержащее отражатель, нагревательный элемент, расположенный в фокусе отражателя, и механизм для регулирования светового потока (1).
Наиболее близким к данному изобретению является известное устройство для светолучевой обработки, содержащее отражатель, состоящий из двух основных элементов с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида, и дуговой источник света, установленный в одном из фокусов отражателя (2).
Недостатком этого устройства является недостаточный угол охвата одного из элементов отражателя и сравнительно большая доля участия отражателя в формировании светового пучка, что вызывает нерациональное использование излучения источника света и повышенные потери света в оптической системе.
Целью изобретения является повышение КПД оптической системы устройства.
Для этого устройство для светолучевой обработки, содержащее отражатель, состоящий из двух основных элементов с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида, и дуговой источник света, установленный в одном из фокусов отражателя, снабжено дополнительным элементом, смонтированным между двумя основными с отражающей поверхностью в виде части сферы, большим своим диаметром сопряженной с элементом, установленным со стороны размещения дугового источника света, при этом эта поверхность сопряжения расположена ниже дугового источника света.
На чертеже представлена схема устройства.
Устройство для светолучевой обработки содержит отражатель 1, состоящий из двух основных элементов 2 и 3 с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида и дополнительного элемента 4 с отражающей поверхностью в виде части сферы. Этот дополнительный элемент 4 сопряжен большим своим диаметром с элементом 3, в фокусе f1 которого установлен дуговой источник света 5. Поверхность сопряжения элемента 4 с элементом 3 расположена ниже дугового источника 5. Это обеспечивает увеличение угла охвата элемента 3 отражателя 1 2Φ свыше 180o (Φ > 90°) и уменьшает осевой размер и соответственно долю участия сферического элемента 4 отражателя, что приводит к увеличению КПД.
Устройство работает следующим образом.
При включении дугового источника света 5 световой поток частично попадает на основной элемент 2, фокусируется последним в рабочем фокусе. Часть светового потока, попавшая на элемент 3, фокусируется последним в рабочем фокусе. Часть светового потока, попавшая на сферический элемент 4, переотражается через фокус f1 на элемент 3 и фокусируется в рабочем фокусе f2. Отражатель выполнен из алюминиевого сплава с полированной отражающей поверхностью. Расположение фокуса f1 между вершиной элемента 3 и плоскостью сопряжения со сферическим элементом 4 отражателя 1 дозволяет увеличить угол охвата элементов 3 свыше 180o, уменьшает осевой размер сферы и долю ее участия в формировании светового потока, что увеличивает КПД устройства.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЕТОЛУЧЕВОЙ ПАЙКИ ИЗДЕЛИЙ | 1995 |
|
RU2088388C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЕТОЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИ | 1993 |
|
RU2047875C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЕТОЛУЧЕВОЙ ПАЙКИ И СВАРКИ МЕТАЛЛОВ И НЕМЕТАЛЛОВ | 1996 |
|
RU2127176C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПАЙКИ СВЕТОВЫМ ЛУЧОМ | 1994 |
|
RU2047434C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПАЙКИ И СВАРКИ СВЕТОВЫМ ЛУЧОМ | 1995 |
|
RU2092289C1 |
Устройство для светолучевой пайки и сварки | 1988 |
|
SU1685646A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЕТОЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИ | 1993 |
|
RU2047876C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВАРКИ СВЕТОВЫМ ЛУЧОМ | 1999 |
|
RU2176947C2 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПАЙКИ СВЕТОВЫМ ЛУЧОМ | 1995 |
|
RU2092288C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПАЙКИ СВЕТОВЫМ ЛУЧОМ | 1994 |
|
RU2047432C1 |
Использование: изобретение относится к оборудованию для светолучевой обработки и может быть применено при пайке. Сущность изобретения: устройство содержит отражатель, в излучающем фокусе которого установлен дуговой источник света. Отражатель состоит из основных элементов, соединенных посредством сферического элемента, меньшим своим диаметром сопряженного с одним из основных элементов, большим основанием - с другим элементом. Фокус отражателя, в котором помещен дуговой источник света, расположен между вершиной элемента, в котором установлен источник света, и плоскостью его сопряжения со сферическим элементом отражателя. Устройство обеспечивает охват светового потока отражателем свыше 180<198>, уменьшается доля участия сферы в формировании светового пучка, обеспечивается охват светового потока отражателем в целом до 300<198>, что увеличивает КПД. 1 ил.
Устройство для светолучевой обработки, содержащее отражатель, состоящий из двух основных элементов с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида, и дуговой источник света, установленный в одном из фокусов отражателя, отличающееся тем, что дно снабжено дополнительным элементом, смонтированным между двумя основными, с отражающей поверхностью в виде части сферы, большим своим диаметром сопряженной с элементом, установленным со стороны размещения дугового источника света, при этом эта поверхность сопряжения расположена ниже дугового источника света.
Устройство для пайки | 1985 |
|
SU1250412A1 |
Устройство для пайки световым лучом | 1987 |
|
SU1459832A1 |
Авторы
Даты
1996-06-27—Публикация
1992-06-15—Подача