название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
МИКРОСТРУКТУРНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ ДЛЯ СЕЛЕКЦИИ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ И СПОСОБ ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2013 |
|
RU2548945C2 |
ЛИТОГРАФИЧЕСКАЯ МАСКА ДЛЯ LIGA-ТЕХНОЛОГИИ И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2007 |
|
RU2350995C2 |
Способ изготовления рентгенолитографического шаблона | 2019 |
|
RU2704673C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ДЛЯ LIGA-ТЕХНОЛОГИИ | 2007 |
|
RU2350996C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ LIGA-ШАБЛОНА | 2010 |
|
RU2431882C1 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ СТРУКТУР В МИКРОЭЛЕКТРОНИКЕ | 1999 |
|
RU2145156C1 |
СПОСОБ ПРОВЕДЕНИЯ ТРАФАРЕТНОЙ РЕНТГЕНОВСКОЙ ЛИТОГРАФИИ | 2007 |
|
RU2344453C1 |
Способ формирования рельефных изображений | 1984 |
|
SU1196796A1 |
Способ изготовления микрофлюидных биочипов | 2020 |
|
RU2773809C2 |
Электронорезист | 1978 |
|
SU701324A1 |
1. Способ получения рисунка на поверхности, включающий нанесение функционального рентгеночувствительного слоя на подложку, экспонирование рентгеновским излучением через рентгеношаблон, проявление скрытого позитивного и/или негативного изображения, отличающийся тем, что в качестве функционального рентгеночувствительного слоя наносят вакуумно-термическим методом слой фталоцианинов металлов.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения позитивного изображения проводят экспонирование слоя фталоцианинов металлов рентгеновским излучением дозой 3 - 5 кДж/см3.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что для получения негативного изображения проводят экспонирование слоя фталоцианинов металлов рентгеновским излучением дозой 30 - 40 кДж/см3.
Авторы
Даты
1997-04-20—Публикация
1994-08-17—Подача