СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ЖИДКОЙ МАССЫ НА ПОДЛОЖКУ Российский патент 1998 года по МПК G03C1/74 

Изобретение относится к фотографической промышленности, а именно к способам нанесения фотографических слоев на подложку, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу; причем решающим качеством нанесения является их равномерность. Изобретение может быть использовано и в других отраслях промышленности, где необходимо равномерное нанесение жидкой массы на подложку.

Известен способ нанесения светочувствительной эмульсии на гибкую подложку, заключающийся в том, что предварительно нанесенную на подложку эмульсию перехватывают при помощи нескольких расположенных на пути следования подложки валиков для частичного снятия эмульсии и нанесения ее вновь на подложку в целях более равномерного покрытия последней (патент N 12527, C 03 C 1/74, B 05 C 1/08, 1928).

Недостатками данного способа являются низкая производительность процесса, связанная с несовершенством устройства, его реализующего, и содержащего множество механических деталей. Неравномерность вращения валиков, необходимость окунания их в процессе нанесения эмульсии приводят к изменению вязкости и других характеристик эмульсии, что отрицательно сказывается на равномерности наносимого слоя.

Наиболее близким к изобретению является способ нанесения светочувствительных слоев на гибкую подложку, заключающийся в протягивании с постоянной скоростью гибкой подложки, опирающейся на цилиндрический поливной валик, через кювету (ванну), в которой находится расплавленная эмульсия (Основы технологии светочувствительных материалов. Под ред. В.И.Шеберстоваю. М., Химия, 1977, с.271, 272).

Недостатками указанного способа являются их несовершенство и низкая производительность. Это связано с тем, что кюветный способ подвержен сильному влиянию помех. Колебания вязкости, поверхностного натяжения и уровня жидкости в кювете, а также скорости движения подложки приведут к изменению толщины наносимого слоя. Толщина слоя жидкости на подложке увеличивается с ростом вязкости и скорости движения подложки, потому что жидкость увлекается подложкой за счет сил вязкости. Применяя обогрев кюветы, ограничительные линейки и приспособления для перемешивания жидкости в кювете или уменьшая объем кюветы, удается снизить влияние температуры на вязкость жидкой эмульсии. Но вязкость меняется по мере ее выстаивания. Это приведет к тому, что при кюветном поливе толщина наносимого слоя будет меняться с течением времени. Управление поливом затрудняется и приводит к необходимости полива контрольных образцов, после чего корректируют степень разбавления или скорости полива.

Технической задачей изобретения является улучшение качества (равномерности) наносимого слоя и повышение производительности процесса.

Технический результат достигается тем, что в способе нанесения жидкой массы на подложку, заключающемся в том, что подложку протягивают через ванну с жидкой массой, в ванну помещают металл с низкой температурой плавления и с плотностью, превышающей плотность материала подложки, нагревают его до температуры плавления и создают на поверхности жидкого металла бегущие затухающие поверхностные волны, во впадины которых подают жидкую массу, контактирующую с подложкой, а удержание подложки на поверхности ванны осуществляют с помощью опорной плоскости, прижатой к подложке гребнями поверхностных волн жидкого металла.

Технический результат достигается также тем, что в качестве металла с низкой температурой плавления используют сплав Вуда.

Способ реализуется с помощью устройства, изображенного на чертеже.

Устройство содержит ванну 1, в которой находится металл 2 с низкой температурой плавления, например сплав Вуда, нагреватель-регулятор 3 температуры, генератор 4 тока переменной частоты и фазы для создания бегущего магнитного поля, индуктор-возбудитель 5 бегущих поверхностных затухающих волн, жестко закрепленную опорную плоскость 6, устройство 7 подачи фотоэмульсии 8 во впадины образованных волн, подающее устройство 9, приемное устройство 10, направляющие валки 11, гибкую подложку 12.

Нанесение жидкой массы, например светочувствительной фотоэмульсии, на подложку по предложенному способу осуществляется следующим образом.

Нагревателем-регулятором 3 в ванне 1 создается температура, при которой находящийся в ванне металл 2 с низкой температурой плавления, например сплав Вуда, приходит в жидкое состояние. Генератором 4 и индуктором-возбудителем 5 создается вдоль ванны и линии движения носителя (гибкой подложки 12) "бегущее" магнитное поле. В принципе поверхностные волны можно создавать различными способами. Направление движения магнитного поля и направление перемещения бумаги противоположны. Вихревые токи, образующиеся в слое электропроводного жидкого металла 2, под действием "бегущего" магнитного поля при взаимодействии с этим полем образуют на поверхности жидкого металла бегущие поверхностные волны. Перемещающаяся бумажная основа, гибкая подложка 12, лежит на гребнях волн вследствие существенной разницы плотностей бумаги и металла, а также за счет электромагнитных сил, действующих на металл со стороны индуктора-возбудителя 5 и прижимающих подложку 12 к опорной плоскости 6 гребнями волн жидкого металла.

Амплитуда волн, а следовательно, усилие прижатия бумаги к опорной плоскости 6 регулируется силой тока в индукторе-возбудителе 5, а длина образующихся волн - частотой задающего генератора 4.

Фотоэмульсия 8 (жидкая масса) через устройство 7 для подачи эмульсии в ванну подается во впадины образующихся волн, перемещается ими и послойно наносится на бумагу в местах контакта заполненных впадин и бумаги. По мере расходования эмульсии во впадинах и затухания амплитуды волн эмульсия наносится на гибкую подложку полностью.

Покрытая эмульсией гибкая подложка 12 сушится и сматывается в рулон в приемном устройстве 10.

По сравнению с прототипом предложенный способ обеспечит следующие преимущества.

За счет многократного смачивания подложки фотоэмульсией во впадинах бегущих затухающих поверхностных волн в металле исчезают пробелы, не залитые фотоэмульсией места. Толщина наносимого слоя будет более равномерной, так как нанесенный на подложку слой фотоэмульсии, прижатый опорной плоскостью к гребням волн, будет "обкатываться" и излишки фотоэмульсии будут убираться. Все это приведет к равномерности наносимого слоя, устранению дефектов, имеющих место в прототипе, и улучшит качество бумаги.

Повышение производительности процесса связано с тем, что фотоэмульсия перемещается принудительно поверхностными волнами, в то время как в прототипе это происходит за счет собственного веса и вязкости фотоэмульсии.

Использование: в фотографической промышленности для нанесения, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу и в других отраслях промышленности, где необходимо равномерное нанесение жидкой массы на подложку, обеспечивая при этом улучшение качества наносимого слоя и повышая производительность процесса. Сущность изобретения заключается в том, что в способе нанесения жидкой массы на подложку, заключающемся в протягивании подложки через ванну с жидкой массой, в ванну помещают металл с низкой температурой плавления, например сплав Вуда, нагревают его до температуры плавления и создают на поверхности жидкого металла бегущие затухающие поверхностные волны, во впадины которых подают жидкую массу, контактирующую с подложкой, а удержание подложки на поверхности ванны осуществляют с помощью прижатия подложки к опорной плоскости гребнями поверхностных волн жидкого металла. Жидкая масса, фотоэмульсия, заполняет впадины образующихся волн, перемещается ими и послойно наносится на подложку, бумагу, в местах контакта заполненных впадин и бумаги. По мере затухания амплитуды волны и расходования эмульсии во впадинах эмульсия наносится на подложку полностью. Перемещение фотоэмульсии поверхностными волнами и многократное смачивание подложки фотоэмульсией приведет к повышению производительности процесса и равномерности наносимого слоя. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

1. Способ нанесения жидкой массы на подложку, заключающийся в том, что подложку протягивают через ванну с жидкой массой, отличающийся тем, что в ванну помещают металл с низкой температурой плавления и плотностью, превышающей плотность материала подложки, нагревают его до температуры плавления и создают на поверхности жидкого металла бегущие затухающие поверхностные волны, во впадины которых подают жидкую массу, контактирующую с подложкой, а удержание подложки на поверхности жидкой массы осуществляют с помощью опорной плоскости, прижатой к подложке гребнями поверхностных волн жидкого металла. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве металла с низкой температурой плавления используют сплав Вуда.