УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ГАЗА ОТ ПРИМЕСЕЙ Российский патент 1998 года по МПК B01D47/00 B01D47/06 

Изобретение относится к мокрой очистке газов от примесей и может быть использовано в любой отрасли промышленности, где требуется очистка газовых потоков, в частности в химической и пищевой отраслях промышленности.

Известна установка для очистки воздуха от механических примесей, включающая центробежный пылеуловитель и подводящий воздуховод, выполненный в виде трубы Вентури.

Недостатками этой установки являются повышенные энергозатраты на обеспечение давления и постоянного расхода очищающей жидкости, а также проблема уменьшения количества сточных вод.

Технической задачей изобретения является экономия энергозатрат и обеспечение малого расхода очищающей жидкости.

Поставленная задача достигается тем, что установка содержит корпус, выполненный в виде цилиндра и соосного с ним усеченного конуса, патрубок для подвода запыленного газа, инжектора и патрубок для отвода очищенного газа. Новым является то, что в боковой части корпуса дополнительно установлены патрубок для регулирования уровня жидкости и всасывающий патрубок для ее подачи в инжектор, а в нижней части корпуса установлена задвижка, патрубок для отвода очищаемого газа выполнен в виде полого цилиндра с нижней конической частью, при этом он снабжен каплеуловителем и расположен в верхней части соосно корпусу, подводящий воздуховод и инжектор также расположены в верхней части корпуса, причем инжектор представляет собой полую трубу, состоящую из цилиндрической части, диффузора и конфузора, к которой подведены патрубок для подачи жидкости и патрубок для подвода запыленного газа, кроме того, отношение выходного диаметра инжектора к диаметру выходного патрубка для отвода очищенного газового потока равно 0,5 - 0,7, а отношение расстояния от уровня очищающей жидкости до выходного патрубка очищенного газового потока к его диаметру равно 0,3 - 0,5.

Установка содержит корпус 1, патрубок для подвода запыленного газа 2 и отвода очищенного газа 3, в котором находится каплеуловитель 4. На корпусе тангенциально установлен инжектор 5 и всасывающий патрубок для подачи жидкости и инжектор 6, а также патрубок 7 для регулировки уровня жидкости. В нижней части корпуса 1 дополнительно установлена задвижка 8.

Установка работает следующим образом.

Загрязненный газовый поток под давлением подается в патрубок 2 для подвода запыленного газа и, проходя через газожидкостный инжектор 5, создает в районе входа патрубка 6 пониженное давление, под действием которого очищающая жидкость из корпуса 1 всасывается по патрубку 6 и смешивается с газовым потоком. Затем благодаря тангенциальному расположению инжектора, выходя из полости инжектора, поток, закручиваясь по спирали, опускается вниз.

Во внутренней полости инжектора и цилиндрической части корпуса тонко распыленная очищающая жидкость перемешивается с газовым потоком. При этом в активном объеме аппарата создается высокоразвитая поверхность контакта фаз, происходит коагуляция частиц и придание им гидрофильных свойств, что способствует эффективной очистке газа.

Очищенный газ проходит через каплеуловитель 4 и удаляется через патрубок 3 для отвода очищенного газа.

Очищенная жидкость по стенкам корпуса 1 стекает в бункер корпуса.

В цилиндрической части корпуса создается избыточное давление, которое достигается благодаря разности выходного диаметра инжектора (D) и выходного патрубка для отвода очищенного газового потока (d).

При разработке установки следует учитывать отношение расстояния от уровня очищающей жидкости до выходного патрубка очищенного газового потока (H) к его диаметру.

Экспериментальные исследования на лабораторной модели показали, что наибольшая эффективность очистки наблюдалась при следующих соотношениях: d/D = 0,5 - 0,7 и H/d = 0,3 - 0,5.0

Использование : в мокрой очистке газов от примесей, может быть использовано в любой отрасли промышленности, где требуется очистка газовых потоков, в частности в химической и пищевой отрасли. Сущность изобретения: установка состоит из корпуса, выполненного в виде цилиндра и соосного с ним усеченного конуса, патрубка для подвода запыленного газа, инжектора и патрубка для отвода очищенного газа. В боковой части корпуса установлены патрубок для регулирования уровня жидкости и всасывающий патрубок для ее подачи в инжектор, а в нижней части корпуса установлена задвижка. Патрубок для отвода очищаемого газа выполнен в виде полого цилиндра с нижней конической частью, при этом он снабжен каплеуловителем и расположен в верхней части корпуса. Инжектор представляет собой полую трубу, состоящую из цилиндрической части, диффузора и конфузора, к которой подведен и патрубок для подачи жидкости и патрубок для подвода запыленного газа. Отношение выходного диаметра инжектора к диаметру выходного патрубка для отвода очищенного газа равно 0,5 - 0,7, а отношение расстояния от уровня очищающей жидкости до выходного патрубка для очищенного газа к его диаметру равно 0,3 - 0,5. 1 ил.

Установка для очистки газа от примесей, содержащая корпус, выполненный в виде цилиндра и соосного с ним усеченного конуса, патрубок для подвода запыленного газа, инжектор и патрубок для отвода очищенного газа, отличающийся тем, что в боковой части корпуса установлены патрубок для регулирования уровня жидкости и всасывающий патрубок для ее подачи в инжектор, а в нижней конусной части корпуса установлена задвижка, патрубок для отвода очищенного газа выполнен в виде полого цилиндра с нижней конической частью, при этом он снабжен каплеуловителем и расположен в верхней части соосно корпусу, патрубок для подвода запыленного газа и инжектор расположены в верхней части корпуса, причем инжектор представляет собой полую трубу, состоящую из цилиндрической части, диффузора и конфузора, к цилиндрической части подведен патрубок для подачи жидкости и патрубок для подвода запыленного газа, при этом отношение выходного диаметра инжектора к диаметру патрубка для отвода очищенного газа равно 0,5 - 0,7, а отношение расстояния от уровня очищающей жидкости до патрубка для отвода очищенного газа к его диаметру равно 0,3 - 0,5.