ЛАЗЕРНЫЙ ЛИТОГРАФИЧЕСКИЙ ИСТОЧНИК СВЕТА С ДОСТАВКОЙ ПУЧКА Российский патент 2008 года по МПК H01S3/02 H01S3/09 H01S3/97 

Настоящая заявка является продолжением заявки на патент США №10/141216, поданной 7 мая 2002, которая упоминается здесь для сведения. Изобретение относится к литографическим источникам света для изготовления интегральных схем, в частности, к источникам света на основе газоразрядных лазеров для литографии, используемой в производстве интегральных схем.

Описание известного уровня техники

Газоразрядные лазеры

Газоразрядные лазеры хорошо известны и появились вскоре после изобретения лазеров в 1960-х годах. Высоковольтный разряд между двумя электродами возбуждает лазерный газ, создавая газообразную активную среду. Резонатор, в котором находится активная среда, обеспечивает вынужденное усиление света, который затем выводится из резонатора в виде лазерного пучка. Многие из таких газоразрядных лазеров работают в импульсном режиме.

Эксимерные лазеры

Эксимерные лазеры представляют собой особый вид газоразрядных лазеров и известны с середины 1970-х. Эксимерный лазер, предназначенный для литографии интегральных схем, описан в патенте США №5023884, выданном 11 июня 1991 г., на изобретение "Компактный эксимерный лазер". Этот патент принадлежит работодателю автора настоящего изобретения и упоминается здесь для сведения. Эксимерный лазер, описанный в патенте '884, является импульсным лазером с высокой частотой следования.

Эксимерные лазеры, используемые в литографии интегральных схем, обычно работают на технологической линии круглосуточно, производя тысячи ценных интегральных схем в час, поэтому время их простоя может стоить очень дорого. По этой причине большинство компонентов организованы в виде модулей, которые можно заменить за несколько минут. Ширина полосы выходного пучка эксимерных лазеров, используемых в литографии, должна быть уменьшена до доли пикометра. Это "сужение линии" обычно осуществляется в модуле сужения линии (известном как "блок сужения линии" или МСЛ для KrF и ArF лазеров), который образует заднюю сторону резонатора лазера. (Для выбора узкой спектральной полосы в F₂ лазере используется блок выбора линии, БВЛ). МСЛ состоит из мелких оптических элементов, включающих в себя призмы, зеркала и дифракционную решетку. В газоразрядных лазерах описанного в патенте '884 типа используется импульсная система питания для генерации электрических разрядов между двумя удлиненными электродами. В таких известных системах источник постоянного тока заряжает батарею конденсаторов, так называемый "зарядный конденсатор" или "С₀", до заданного регулируемого напряжения, так называемого "зарядного напряжения", для каждого импульса. В известных устройствах величина этого зарядного напряжения может находиться в пределах около 500-1000 вольт. После зарядки С₀ до заданного напряжения замыкается полупроводниковый переключатель, и это позволяет электрической энергии, запасенной в С₀, очень быстро осциллировать через последовательность цепей магнитной компрессии и трансформатор напряжения для выработки высоковольтного электрического потенциала порядка около 16000 вольт (или выше) на электродах, которые создают разряды продолжительностью около 20-50 нс.

Основные достижения в области источников света для литографии

В течение периода 1989-2001 г.г. эксимерные лазеры, подобные лазеру, описанному в патенте '884, стали основным источником света для литографии интегральных схем. В настоящее время более 1000 таких лазеров используется на самых современных предприятиях по производству интегральных схем. Почти все эти лазеры имеют основные конструктивные особенности, описанные в патенте '884. Они включают в себя следующее:

(1) одна импульсная система питания, обеспечивающая электрические импульсы на электродах с частотой около 100-2500 импульсов в секунду,

(2) один резонатор, состоящий из выходного ответвителя типа частично отражающего зеркала и блока сужения линии, состоящего из призменного расширителя пучка, зеркала настройки и дифракционной решетки,

(3) одна разрядная камера, содержащая лазерный газ (криптон, фтор и неон для KrF, или аргон, фтор и неон для ArF), два удлиненных электрода и тангенциальный вентилятор для обеспечения достаточно быстрой циркуляции лазерного газа между двумя электродами, чтобы очистить область разряда между импульсами, и

(4) монитор пучка для контролирования энергии импульса, длины волны и ширины полосы выходных импульсов системой управления с обратной связью, предназначенной для регулирования энергии импульса, дозы энергии и длины волны каждого последовательного импульса.

В течение 1989-2001 г.г. выходная мощность этих лазеров постепенно повышалась, и требования к качеству пучка для обеспечения стабильности энергии пучка, стабильности длины волны и ширины полосы становились все более жесткими. Рабочие параметры популярной модели литографического лазера, широко используемой в производстве интегральных схем, таковы: энергия импульса 8 мДж, частота 2500 импульсов в секунду (при средней мощности пучка до около 20 Вт), ширина полосы, рассчитанная по полной ширине кривой распределения на полувысоте (ПШПВ), около 0,5 пм и стабильность энергии импульса +/- 0,35%.

Инжекционная затравка

Известным методом уменьшения ширины полосы газоразрядных лазерных систем (включая эксимерные лазерные системы) является инжекция узкополосного "затравочного" пучка в активную среду. В некоторых из этих систем лазер, генерирующий затравочный пучок, так называемый "задающий генератор", предназначен для генерации пучка с очень узкой шириной полосы в первой активной среде, и этот пучок используется в качестве затравочного пучка во второй активной среде. Если вторая активная среда действует как усилитель мощности, то такую систему называют системой "задающий генератор-усилитель мощности" (ЗГУМ). Если вторая активная среда сама имеет резонатор (в котором происходят лазерные колебания), то систему называют системой "генератор на инжекционной затравке" (ГИЗ) или системой "задающий генератор-генератор мощности" (ЗГГМ), в этом случае затравочный лазер называют задающим генератором, а расположенную после него систему называют генератором мощности. Лазерные системы, состоящие из двух отдельных систем, обычно отличаются более высокой ценой и большими габаритами, их сложнее построить и эксплуатировать, чем сопоставимые однокамерные лазерные системы. Поэтому коммерческое применение таких двухкамерных лазерных систем было ограничено до настоящего времени.

Отделение литографической установки от источника света

При производстве интегральных схем литографическая установка обычно располагается отдельно от лазерного источника света для литографии. Расстояние между ними обычно составляет от 2 до 20 метров. Иногда лазер и литографическая установка располагаются в разных помещениях. Обычно лазер располагают в помещении этажом ниже, чем литографическая установка. Лазер излучает пучок ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 248 нм для KrF лазеров, 193 нм для ArF лазеров и 157 нм для F₂ лазеров. Ультрафиолетовое излучение, особенно на более коротких длинах волны лазеров ArF и F₂, поглощается кислородом, поэтому обычно путь прохождения лазерного пучка между лазером и литографией ограждают и прокачивают это ограждение газом, таким как азот, который гораздо меньше ослабляет пучок, чем воздух. В ограждение также помещают множество оптических элементов, включая зеркала и линзы для направления лазерного пучка в требуемое входное окно для ввода пучка в литографическую установку и обеспечения любой необходимой модификации пучка, например, изменения профиля поперечного сечения. Оборудование для доставки пучка в литографическую установку называется блоком доставки пучка или БДП. В прошлом БДП обычно изготавливали и поставляли отдельно от лазерного источника света.

Существует потребность в улучшении конструкции импульсного газоразрядного лазера для работы с частотой следования порядка около 4000 импульсов в секунду или выше, которая бы позволяла получить лазерный свет во входном окне литографической установки с параметрами качества пучка, такими как длина волны, ширина полосы, энергия импульса и профиль поперечного сечения, необходимыми для литографической установки.

Краткое изложение сущности изобретения

Предложен модульный газоразрядный лазерный источник света ультрафиолетового диапазона с высокой частотой следования для установки на поточной линии. Система содержит закрытый прокачиваемый путь прохождения пучка для доставки лазерного пучка в заданное место, такое как входное окно установки на поточной линии. В предпочтительных вариантах установкой на поточной линии является литографическая установка, при этом предусмотрены две отдельные разрядные камеры, одна из которых является частью задающего генератора, создающего очень узкополосный затравочный пучок, который усиливается во второй разрядной камере. Эта система ЗГУМ способна вырабатывать импульсы с энергией приблизительно вдвое выше, чем сопоставимая однокамерная лазерная система, и значительно повышать качество пучка. Расширитель импульса увеличивает длину импульса более чем в два раза, что приводит к уменьшению мощности импульса (мДж/нс) по сравнению с известными лазерными системами. Этот предпочтительный вариант позволяет обеспечивать приблизительно постоянное освещение плоскости пластины в литографической системе в течение всего ее срока службы, несмотря на существенную деградацию оптических элементов.

Краткое описание чертежей

Фиг.1 изображает компоновку литографической лазерной системы с блоком доставки пучка,

Фиг.2, 2А и 2В изображают компоненты расширителя импульса,

Фиг.3А, 3В, 3С, 3D, 3Е, 3F и 3G изображают элементы ретрансляционной оптики для лазерной системы на фиг.1,

Фиг.4А, 4В и 4С изображают конфигурации доставки пучка,

Фиг.5 изображает график отношения энергии импульса к зарядному напряжению,

Фиг.6 изображает способ поворота пучка на 90 градусов с помощью призмы,

Фиг.7 изображает лазерный источник света с доставкой пучка к сканеру,

Фиг.8А-8Е изображают легко уплотняемые сильфонные уплотнения,

Фиг.9 демонстрирует элемент предпочтительного расширителя импульса.

Описание предпочтительных вариантов осуществления изобретения

Первый предпочтительный вариант настоящего изобретения изображен на фиг.1. В этом варианте ультрафиолетовый лазерный пучок с длиной волны 193 нм подается во входное окно шаговой литографической установки 2, например, установки, выпускаемой компаниями Canon и Nikon с оборудованием из Японии, и ASML с оборудованием из Нидерландов. В данном случае основные элементы лазерной системы 4 установлены под полом, на котором установлен сканер. Однако эта лазерная система содержит блок 6 доставки пучка, обеспечивающий закрытый путь прохождения пучка для доставки лазерного пучка к входному окну сканера.

Данная конкретная лазерная система содержит задающий генератор и усилитель мощности 10 и относится к типу лазерной системы, известному как система ЗГУМ. Данная компоновка ЗГУМ является существенным усовершенствованием источников света для производства интегральных схем по сравнению с известными методами использования одного лазерного генератора для обеспечения лазерного света. Как задающий генератор, так и усилитель мощности содержат разрядную камеру, подобную разрядной камере известных однокамерных лазерных систем для литографии. Эти камеры содержат два удлиненных электрода, лазерный газ, тангенциальный вентилятор для циркуляции газа между электродами и водоохлаждаемыми ребристыми теплообменниками. Задающий генератор генерирует первый лазерный пучок 14А, который усиливается двумя проходами через усилитель мощности для получения лазерного пучка 14В. Задающий генератор 8 содержит резонатор, образованный выходным ответвителем (ВО) 8А и блоком сужения линии 8В, которые были описаны в общих чертах в разделе "Описание известного уровня техники" и подробно описаны в упоминаемых выше патентах. Активная среда для задающего генератора 8 создается между двумя электродами длиной 50 см, заключенными внутри разрядной камеры 8С задающего генератора. Усилитель мощности 10 в принципе представляет собой разрядную камеру, которая в данном предпочтительном варианте реализации практически аналогична разрядной камере 8С задающего генератора, так как разрядная камера 8С задающего генератора обеспечивает активную среду между двумя удлиненными электродами, но не имеет резонатора. Такая компоновка ЗГУМ позволяет выполнить задающий генератор с возможностью получения максимальных параметров качества пучка, а именно: стабильную длину волны, очень узкую ширину полосы, и в то же время усилитель мощности можно выполнить с возможностью получения максимальной выходной мощности. Например, современный источник света, выпускаемый компанией Cymer, Inc., работодателем авторов изобретения, представляет собой систему ArF лазера с параметрами 5 мДж на импульс, 4 кГц. Система, изображенная на фиг.1, представляет собой систему ArF лазера с параметрами 10 мДж на импульс (или выше при необходимости), 4 кГц, которая вырабатывает по меньшей мере вдвое большую среднюю мощность ультрафиолетового излучения с существенно улучшенным качеством пучка. По этой причине система ЗГУМ представляет собой источник лазерного света гораздо более высокого качества и более высокой мощности.

Расширитель импульса

Сканирующие установки для производства интегральных схем содержат большие линзы, которые сложно изготовить и стоимость которых составляет миллионы долларов. Эти очень дорогие оптические элементы подвержены деградации в результате воздействия на них миллиардов импульсов ультрафиолетового диапазона и высокой интенсивности. Как известно, оптическое разрушение возрастает с увеличением интенсивности (т.е. мощности света (энергия/время) на см², или мДж/нс/см²) лазерных импульсов. Типичная продолжительность импульса лазерного пучка, генерируемого этими лазерами, составляет около 20 нс, так что пучок 5 мДж будет иметь интенсивность мощности импульса около 0,25 мДж/нс. Увеличение энергии импульса до 10 мДж без изменения продолжительности импульса приведет в удвоению мощности импульсов до около 0,5 мДж/нс, что может значительно сократить полезный срок службы этих дорогостоящих оптических элементов. Авторы настоящего изобретения решили эту проблему путем увеличения продолжительности импульса от около 20 нс до более, чем 50 нс, тем самым уменьшив скорость разрушения формирующей оптики сканера. Такое расширение импульса достигается с помощью блока 12 расширения импульса, показанного на фиг.2. На фиг.2 представлены в увеличенном масштабе пути прохождения пучков через расширитель 12 импульсов. Расщепитель 16 пучка отражает около 60 процентов выходного пучка 14 В усилителя мощности в путь задержки, образованный четырьмя фокусирующими зеркалами 20А, 20В, 20С и 20D. 40 процентов передаваемой части каждого импульса пучка 14В превращается в первый максимум 13А соответствующего растянутого импульса 13, показанного на фиг.2В, пучка 14С. Растянутый пучок 14С направляется расщепителем 16 пучка к зеркалу 20А, которое фокусирует отраженную часть в точку 22. Затем пучок расширяется и отражается от зеркала 20 В, которое преобразует расширенный пучок в параллельный пучок и направляет его к зеркалу 20С, которое снова фокусирует пучок в точку 22. Этот пучок затем отражается зеркалом 20D, которое подобно зеркалу 20В превращает расширенный пучок в параллельный световой пучок и направляет его обратно к расщепителю 16 пучка, где 60 процентов первого отраженного света отражается, точно совпадая с первой переданной частью этого импульса в выходном пучке 14С, и образует большую часть максимума 13В импульса 13, показанного на фиг.2В. 40 процентов отраженного пучка проходит через расщепитель 14 пучка и следует точно по пути первого отраженного пучка, создавая дополнительные меньшие максимумы в растянутом импульсе 13. В результате получается растянутый импульс 14С, который растянут по продолжительности от около 20 нс до около 50 нс. Растянутый импульс 14С изображен на графике на фиг.2В как отношение интенсивность-время, и его и можно сравнить с формой выходного импульса 14В усилителя мощности, показанной аналогичным образом на фиг.2А.

Форма растянутого импульса в этом варианте имеет два больших равных пика 13А и 13В с уменьшающимися меньшими пиками, следующими по времени за первыми двумя пиками. Форму растянутого импульса можно изменить, используя другой расщепитель пучка. Авторы обнаружили, что расщепитель пучка, отражающий около 60 процентов, создает максимальное растяжение импульса, измеренное параметром, известным как "квадрат длительности импульса, интегрированный со временем" (КДВ). Использование этого параметра представляет собой метод определения эффективной длительности импульсов, имеющих нечетно сформированные кривые мощность-время. КДВ определяется как:

где I(t) - интенсивность как функция времени.

Для сохранения свойств профиля пучка и свойств расходимости зеркала, которые направляют пучок по пути задержки распространения, должны образовать систему ретрансляции изображения, которая также должна действовать как единый увеличительный фокальный телескоп. Это обусловлено характерной расходимостью пучка эксимерного лазера. При направлении пучка по пути задержки без воспроизведения, его размер отличается от размера исходного пучка, когда он воссоединяется на расщепителе пучка. Для придания расширителю импульсов функций воспроизводящей ретрансляции и афокального телескопа зеркала выполнены со специальным радиусом кривизны, который определяется длиной пути задержки. Расстояние между зеркалами 20А и 20D равно радиусу кривизны вогнутых поверхностей зеркал и 1/4 суммарного пути задержки.

Относительные интенсивности первых двух пиков в растянутом импульсе можно модифицировать с помощью подбора отражательной способности расщепителя пучка. Кроме того, конструкция расщепителя пучка, а значит и выходного КДВ расширителя импульса зависят от эффективности системы ретрансляции пучка, и поэтому выходной КДВ также зависит от величины отражательной способности зеркал воспроизводящей ретрансляции и количества потерь на расщепителе пучка. При 87% отражательной способности воспроизводящего ретрансляционного зеркала и 2% потерь на расщепителе пучка максимальное увеличение КДВ имеет место, когда отражательная способность расщепителя пучка составляет 63%.

Для юстирования расширителя импульса необходимо, чтобы два зеркала из четырех воспроизводящих ретрансляционных зеркал были регулируемыми. Каждое из двух регулируемых зеркал будет регулироваться по вершине/наклону, обеспечивая в сумме четыре степени свободы. Необходимо, чтобы два регулируемых зеркала были расположены на противоположных концах системы, из-за конфокальной конструкции системы. Для создания саморегулирующегося расширителя импульсов требуется автоматическая регулировка необходимых четырех степеней свободы и диагностическая система, которая могла бы обеспечивать информацию обратной связи для определения характеристик регулировки. Конструкция такой диагностической системы, которая могла бы квалифицировать характеристики регулировки, требует, чтобы система воспроизведения была способна воспроизводить выход расширителя импульсов как в ближнем, так и дальнем поле. Путем анализа наложения подимпульсов на исходный импульс в двух плоскостях (ближнее поле и дальнее поле) можно получить необходимую информацию для автоматической регулировки зеркал, чтобы получить выход, в котором каждый из подимпульсов распространяется по одной линии с исходным импульсом.

Ретрансляционная оптика

В этом предпочтительном варианте выходной пучок 14А задающего генератора 8 усиливается посредством двух проходов через усилитель 10 мощности для формирования выходного пучка 14 В. Оптические элементы, осуществляющие эту операцию, содержатся в трех модулях, которые автор назвал следующим образом: волновой технологический блок задающего генератора (ВТБ ЗГ) 24, волновой технологический блок усилителя мощности (ВТБ УМ) 26 и переключатель направления пучка (ПНП) 28. Все эти три модуля вместе с модулем 8В сужения линии и выходным ответвителем 8А установлены на одном вертикальном оптическом столе, независимо от разрядной камеры 8С и разрядной камеры усилителя 10 мощности. Вибрации камер, обусловленные акустическим ударом и вращением вентилятора, необходимо изолировать от оптических элементов.

Оптические элементы в модуле сужения линии задающего генератора и в выходном ответвителе в данном варианте практически такие же, как в известных литографических лазерных источниках света, упоминавшихся в описании известного уровня техники. Модуль сужения линии включает в себя трех- или четырехпризменный расширитель пучка, зеркало настройки с очень быстрым откликом и дифракционную решетку, скомпонованную в конфигурации Литтрова. Выходной ответвитель представляет собой частично отражающее зеркало, которое отражает 20 процентов выходного пучка для KrF систем и около 30 процентов для ArF систем и пропускает остальную часть. Выход задающего генератора 8 контролируется в модуле анализа центра линии (МАЛ) 7 и проходит в ВТБ ЗГ 24. ВТБ ЗГ содержит призму с полным внутренним отражением (ПВО) и регулировочные элементы для точного направления выходного пучка 14А в ВТБ УМ. Призмы ПВО, как призма, показанная на фиг.3А, могут поворачивать лазерный пучок на 90 градусов с эффективностью более 90 процентов, не требуя отражающих покрытий, которые обычно разрушаются под действием ультрафиолетового излучения высокой интенсивности. Альтернативно, вместо призмы ПВО можно использовать первое поверхностное зеркало с прочным высокоотражающим покрытием.

ВТБ УМ 26 содержит призму ПВО 26А, показанную на фиг.3С-F, и регулировочные элементы (не показаны) для направления лазерного пучка 14А, чтобы он осуществил первый проход через активную среду усилителя мощности. Альтернативно, как и выше, вместо призмы ПВО можно использовать первое поверхностное зеркало с высокоотражающим покрытием. Модуль 28 переключателя направления пучка содержит двуотражающую призму 26В переключения направления пучка, показанную на фиг.3В-D, которая подобно одноотражающей призме, показанной на фиг.3А, основана на полном внутреннем отражении и поэтому не требует оптических покрытий. Грань, на которой Р-поляризованный пучок входит в призму и выходит из нее, ориентирована под углом Брюстера для минимизирования отражения и повышения эффективности призмы почти до 100%.

После реверсирования в модуле 28 переключения направления пучка частично усиленный пучок 14А осуществляет другой проход через активную среду в усилителе 10 мощности и выходит через модуль 9 анализа спектра и ВТБ УМ 26 как выходной пучок 14В усилителя мощности. В этом варианте второй проход пучка 14А через усилитель 10 мощности происходит точно по линии с удлиненными электродами в разрядной камере усилителя мощности. Первый проход следует по пути под углом около 6 миллирадиан относительно пути второго прохода, и первый путь первого прохода пересекает центральную линию активной среды в точке на половине пути между двумя концами активной среды. На фиг.3С и 3D показы виды сбоку и сверху пути прохождения пучка 14А через усилитель мощности. Можно заметить, что конструкция и положение призмы 28А переключения направления пучка должны вмещать угол β и пространственный сдвиг d, показанные на фиг.3В. В этом варианте β=6 миллирадиан, а d=5 мм.

На фиг.3Е (вид сбоку) и 3F (вид сверху) показаны некоторые дополнительные существенные элементы формирующей оптики в модуле ВТБ усилителя мощности. Следует отметить, что на виде сбоку пучок "к" УМ показан над пучком "от" УМ. Это сделано для того, чтобы оба пучка можно было показать на чертеже вида сбоку. (В действительности оба пучка находятся на одинаковой высоте, так что пучок "от" будет перекрывать пучок "к", если показать оба пучка на правильной высоте). Как видно на фиг.3F, пучок "от" проходит близко к призме ПВО 26А через выходное отверстие 26С и расширяется в 4 раза в горизонтальном направлении двумя расширяющими пучок призмами 26D и выходит в модуль 22 расширения импульса (названного заявителями "ОПРИ" - сокращение для оптического расширителя импульса). Выходное отверстие 26С, а также другие отверстия в ретрансляционной оптике следует считать факультативными и их можно заменить временными метками совмещения.

Другие аспекты призм ПВО

Призмы ПВО в ВТБ ЗГ и ВТБ УМ являются предпочтительными по сравнению с зеркалами с покрытой диэлектриком первой поверхностью, потому что они не имеют оптических покрытий, имеющих тенденцию разрушаться при длительном воздействии УФ-излучением с высокой плотностью энергии. Один недостаток призм ПВО заключается в нежелательных отражениях Френеля, которые имеют место на входной и выходной гранях. При использовании материала фторида кальция с длиной волны 193 нм каждая грань отражает около 4% падающего пучка. Если падающий пучок перпендикулярен к этой поверхности, нежелательные отражения будут распространяться обратно по пути падающего пучка и снова входить в ЗГ. Это может нарушить стабильность работы ЗГ. Эту проблему можно решить посредством наклона входной и выходной граней призм ПВО приблизительно на 1 градус относительно падающего пучка. Этого можно достичь путем поворота призмы ПВО 45°-45°-90° на 1 градус, в этом случае угол отклонения первичного пучка изменится от 90° до 88° или 92° (в зависимости от направления поворота на 1 градус). Альтернативно, угол отклонения на 90° и наклон граней на 1(можно обеспечить с помощью призмы ПВО с углами 44°-44°-92° или 46°-46°-88°, или 44,33°-45,67°-90°.

Призма ПВО 26А в ВТБ УМ используется очень близко к краю каждой из трех оптических граней. Оптические грани этих призм должны быть тщательно отполированы в пределах 1 мм или меньше от критических краев.

Каждую призму ПВО в ВТБ ЗГ и ВТБ УМ можно регулировать с двумя степенями свободы (2 поворота, "вершина-наклон"). Призма ПВО в ВТБ ЗГ регулируется таким образом, что первичный отраженный пучок направляется в соответствующее место в ВТБ УМ. Призма ПВО в ВТБ УМ регулируется таким образом, что первичный отраженный пучок является отраженным пучком и направляется к соответствующему месту в переключателе направления пучка. Каждая призма ПВО закреплена в механическом держателе, который позволяет осуществлять регулировки вершины-наклона снаружи герметизированного модуля.

Максимальная погрешность отраженного волнового фронта определяется как 0,20 пик-впадина волны при 633 нм (т.е. 127 нм) на незатененном раскрыве (13 мм × 21 мм). Погрешность волнового фронта на гораздо меньшем пучке будет значительно меньше, хотя точная величина зависит от типа присутствующих аберраций. Если доминирующей погрешностью является простая кривизна (как обычно бывает в случае с полированными плоскостями), максимальная погрешность угла расхождения, введенная в пучок, составит около 0,02 мрад в вертикальном направлении (и гораздо меньше в горизонтальном направлении).

Деградация оптического покрытия в течение срока службы (особенно при 193 нм) представляет проблему, причем диэлектрические покрытия с высокой отражательной способностью более устойчивы к разрушению, чем покрытия с частично отражающим или антиотражающим покрытием. Способствует увеличению срока службы этого зеркала также тот факт, что энергия импульса на выходе ЗГ намного ниже, чем на выходе УМ. Так как это зеркало будет использоваться очень близко к краю, его покрытие может быть подвержено разрушению, больше чем обычно. У края могут иметь место шероховатость поверхности или неровность покрытия, которые вносят вклад в разрушение покрытия. Для избежания этих потенциальных проблем край зеркала предпочтительно тестируется. На фиг.3G проиллюстрированы аспекты расстояния. Для направления пучка в соответствующее место в модуле переключателя направления пучка поворотное зеркало будет регулироваться с двумя степенями свободы (2 поворота, "вершина-наклон"). Держатель зеркала должен иметь регулировки, доступные снаружи герметизированного модуля для регулировки зеркала с требуемой точностью.

Альтернативой зеркалу 26А с диэлектрическим покрытием является использование призмы ПВО без покрытия. Такая конструкция исключает любые проблемы разрушения покрытия в течение всего срока службы.

Средства юстировки

При такой наклонной геометрии с двойным проходом пучки, отражающиеся от ВТБ ЗГ и переключателя направления пучка, точно позиционируются в ВТБ УМ. В УМ ВТБ предусмотрены средства юстировки, позволяющие точно юстировать зеркало ВТБ ЗГ и переключатель направления пучка. Эти средства следует координировать по краю призмы ПВО. Предпочтительно, средствами юстировки служат апертуры, одна на входе в ВТБ УМ (для юстировки призмы ВТБ ЗГ), а другая на выходе (для юстировки переключателя направления пучка). Апертуры могут быть постоянными или съемными. Система должна иметь возможность юстировки в поле действия с закрытым путем прохождения пучка. Предпочтительно, положение пучка относительно апертур можно сделать видимым с помощью какой-либо двухмерной детекторной матрицы (цифровая камера). Устройство анализа пучка, так называемое УАП (возможно со встроенной апертурой), можно вставить в модуль для наблюдения за юстировкой, как показано позицией 36 на фиг.3F.

Призмы для расширения пучка

После выхода из УМ пучок имеет более высокую плотность энергии, чем где-либо в системе (из-за маленького размера пучка и высокой энергии импульса). Для исключения попадания энергии такой высокой плотности на оптические покрытия в модуле ОПРИ, которое может вызвать разрушение покрытия, в ВТБ УМ были введены призмы для расширения пучка. При расширении горизонтальной ширины пучка в 4 раза плотность энергии уменьшается до 1/4 ее предыдущего уровня.

Расширение пучка достигается с помощью двух идентичных призм с углом 20° при вершине, как показано на фиг.3Н. Ориентация призм и пути прохождения пучка показаны на фиг.3G.

Эти призмы выполнены из фторида кальция марки ArF и не имеют покрытия. Использование угла падения 68,6° на каждой призме обеспечивает анаморфотное увеличение в 4,0 раза, а номинальный угол отклонения этой пары равен нулю. Общие потери на отражение Френеля от четырех поверхностей составляют около 12%.

Блок доставки пучка

В предпочтительном варианте реализации импульсный лазерный пучок, отвечающий установленным требованиям для сканера 2, подается к световому входному окну сканера. Модуль анализа пучка, показанный позицией 38 на фиг.1, обозначенный как МАП, предусмотрен на входном окне сканера для контролирования входящего пучка и выдачи сигналов обратной связи в систему управления лазера, чтобы гарантировать, что свет, поступающий в сканер, имеет требуемую интенсивность, длину волны, ширину полосы и соответствует всем требованиям к качеству, таким как стабильность дозы и длины волны. Длину волны, ширину полосы и энергию импульса контролирует метрологическое оборудование в модуле анализа пучка последовательно на каждом импульсе при частоте импульсов до 4000 Гц с помощью методов, описанных в заявке на патент США №10/012002, упоминаемой здесь для сведения.

Другие параметры пучка можно также контролировать с любой требуемой частотой, и поскольку эти другие параметры, такие как поляризация, профиль, размер и наведение пучка относительно стабильны, их можно нормально контролировать гораздо реже, чем такие параметры как длина волны, ширина полосы и энергия импульса.

Этот конкретный БДП содержит два зеркала 40А и 40В наведения пучка, оба или одно из которых можно регулировать для коррекции вершины и наклона с целью изменения наведения пучка. Наведение пучка можно контролировать в МАП, обеспечивающем управление с обратной связью посредством наведения одного или обоих наводящих зеркал. В предпочтительном варианте реализации предусмотрены пьезоэлектрические приводы, обеспечивающие реакцию наведения меньше, чем за 7 миллисекунд.

Фиксированный выход энергии

Обычно все оптические средства на пути прохождения пучка от активной среды до кремниевой пластины со временем деградируют в зависимости от интенсивности света в каждом импульсе и от количества импульсов. Однако благодаря основным достижениям за последние несколько лет эта деградация происходит медленно и обычно измеряется в миллиардах импульсов. Но все же такая деградация имеет значение, так как при круглосуточной работе с частотой 4000 Гц и с коэффициентом занятости 15 процентов литографическая система наберет миллиард импульсов приблизительно за три недели. По этой причине сохранение постоянного качества импульсов может представлять проблему. В прошлом, усилия по сохранению постоянного качества пучка в течение срока службы элементов литографической установки осложнялись тем фактом, что качество лазерного пучка для большинства управляющих функций лазера измерялось на выходе лазерной системы, сразу после выходного ответвителя. Настоящее изобретение позволяет в значительной степени уменьшить эту проблему за счет обеспечения прямого контроля с обратной связью каждого последующего импульса на входном окне сканера, а также за счет поставки блока доставки пучка как части лазерной системы. В данном предпочтительном варианте блок доставки пучка объединен с описанной выше системой ЗГУМ, которая генерирует импульсы с энергией приблизительно в два раза выше, чем современные источники света для литографии, при меньшей интенсивности энергии и существенном улучшении качества пучка. Поэтому при такой компоновке настоящее изобретение обеспечивает освещение, отвечающее требованиям оператора шаговой установки, а качество пучка и интенсивность не изменяются в течение службы литографической установки, несмотря на значительное ухудшение оптических элементов по длине пути прохождения пучка. Это достигается за счет целенаправленной эксплуатации лазерной системы таким образом, чтобы обеспечить требуемые номинальные характеристики на всех стадиях срока службы оборудования. Способы целенаправленного уменьшения энергии пучка включают в себя обычные способы уменьшения разрядного напряжения, а также уменьшения давления газа с содержанием фтора. Еще одной возможностью является ослабление пучка. Это означает, что на ранних стадиях срока службы оборудования, когда все составные части еще новые, лазер можно эксплуатировать таким образом, чтобы обеспечивать освещение с качеством и интенсивностью ниже оптимальных, но значения качества и интенсивности можно поддерживать постоянными (при желании) в течение всего срока службы литографической установки. Такой подход может существенно увеличить полезный срок службы не только очень дорогой лазерной системы, но также и гораздо более дорогостоящей шаговой установки. На фиг.5 представлен график изменения напряжения по отношению к выходной энергии импульса для опытного образца лазерной системы ЗГУМ, построенной и испытанной заявителями. Этот график показывает, что мощностью лазерной системы можно варьировать между 7 мДж и 30 мДж только путем зарядки зарядного напряжения. Например, если номинальный рабочий параметр составляет 15 мДж, то график на фиг.5 демонстрирует, что существует множество избыточных возможностей в лазере для компенсирования деградации оптики в течение длительного срока службы оборудования. Так как мощность ЗГУМ в этом варианте составляет 30 мДж на импульс в отличие от современных лазерных установок с мощностью 10 мДж, то использование описанного выше плана позволяет ожидать значительного увеличения срока службы.

БДП часть лазера

Другое преимущество обеспечения лазерного пучка на входном окне сканера заключается в том, что за блок доставки пучка теперь отвечает поставщик лазера не только в вопросах конструкции и изготовления, но также и активной превентивной эксплуатации, позволяющей минимизировать время простоя и увеличить работоспособность системы.

Различные конфигурации лазер-БДП-сканер

Другое преимущество состоит в том, что блок доставки пучка можно выполнить как часть лазерной системы, чтобы адаптировать его к положению лазера относительно литографической установки. На фиг.1 показана типичная конфигурация, однако большинство литографических установок имеют индивидуальную конфигурацию, и в будущем ожидается использование многих других конфигураций. Некоторые возможные конфигурации лазер-БДП-сканер показаны на фиг.4А, 4В, 4С и 4D.

Учет поляризации

В резонаторе задающего генератора оптические элементы, включающие в себя два окна и три призмы, ориентированы так, что поверхности направлены вертикально, образуя несколько углов падения, близких к углу Брюстера, с развертывающимся лазерным пучком. Следовательно, пучок 14А, выходящий из задающего генератора, сильно поляризован, при этом около 98 процентов электрического поля пучка идет в горизонтальном направлении, а около 2 процентов - в вертикальном.

При использовании покрытых диэлектриком зеркал под углом 45 градусов для поворота пучка важно учитывать эффекты поляризации, поскольку с этими зеркалами S-поляризация отражается почти на 97%, а Р-поляризация отражается только на 90-92%. (Под Р-поляризацией подразумевается компонента электрического поля света, которая находится в плоскости, образованной направлением пучка и линией, перпендикулярной к оптической поверхности на пересечении направления пучка и поверхности. Под S-поляризацией подразумевается направление электрических компонент света в плоскости поверхности и перпендикулярно Р-поляризации). Поэтому для максимального отражения от поворотных зеркал важно, чтобы направление S-поляризации соответствовало поляризации входящего пучка. Можно заметить, что оба зеркала 40А и 40В ориентированы таким образом, что направление S-поляризации является горизонталью, соответствующей направлению электрического поля около 98% света в выходном пучке 14С; следовательно, отражение от этих зеркал должно составлять около 97%. Все зеркала, показанные в БДП на фиг.4А, 4В и 4С, правильно ориентированы от максимального отражения горизонтально поляризованного света. Однако зеркало, показанное позицией 52 на фиг.4D, ориентировано так, что направление S-поляризации соответствует направлению электрического поля 98% света в пучке, так что отражение, обеспечиваемое этим зеркалом, будет составлять только около 90-92%. В этом случае авторы предпочитают использовать две призмы для поворота пучка на 90 градусов в точке 50 на фиг.4D. Этот метод проиллюстрирован на фиг.5. Две призмы 52 и 54 с углом при вершине 67,2 градуса (этот угол важен) могут изменить угол падения на 90 градусов для s-поляризованного света. Пучок входит в призму и выходит из нее под углом Брюстера, поэтому совершенно отсутствует отражение света в горизонтальном направлении. Часть пучка, поляризованная в вертикальном направлении, будет по большей части отражаться первой призмой. Этот чертеж приведен для призм 193 нм из CaF₂. (Для 248 нм и 157 нм потребуется незначительная модификация зеркал). Так как здесь не используется покрытий, срок службы этой сборки будет очень большим.

Когда горизонтальный поляризованный свет проходит через две призмы на участке 50 на фиг.4D, направление поляризации практически всех компонент электрического поля меняет горизонтальную ориентацию на вертикальную, как показано стрелками 53А и 53 В на фиг.6. По этой причине на зеркале 56 по существу все компоненты электрического поля пучка вертикальные, так что зеркало 56, установленное вертикально, обеспечивает ориентацию s-поляризации относительно пучка и около 97 процентов света отражается зеркалом 56.

Заслонки от прокачки для зеркал

Объем БДП может достигать 200 литров, и он должен прокачиваться N₂ очень высокой чистоты. Процесс прокачки может занимать несколько часов, чтобы обеспечить уровень в ррм, свободный от кислорода и других органических веществ. Во время первой установки БДП в сканере такое время прокачки допустимо, однако оно считается слишком продолжительным в процессе нормальной работы. Допустим, что зеркало, такое как зеркало 60 на фиг.4А, требует обслуживания. Для этого может потребоваться демонтировать зеркало из БДП, в результате чего БДП подвергнется воздействию воздуха. То есть короткая процедура обслуживания (замена зеркала) может повлечь за собой очень длительную процедуру прокачки. Чтобы избежать значительных задержек, связанных с длительным периодом прокачки в целях восстановления качества пути пучка в БДП, с обеих сторон каждого зеркала в БДП введены заслонки 62 БДП, как показано на фиг.6 для зеркала 60.

В данном случае в БДП расположено несколько вставок, в которые можно вставлять служебные заслонки для изоляции других областей в БДП. Эти заслонки обычно не вставлены в процессе работы. Например, как показано на фиг.6, две заслонки скользяще вставляются между зеркалом 60, которое требует изоляции, после чего заменяется само зеркало. После этого через открытую область прокачивают N₂ в течение несколько минут. Этот период прокачки будет намного короче благодаря тому, что объем, открытый воздействию воздуха, намного меньше, чем общий объем БДП. Предпочтительно, чтобы во время обслуживания прокачка продолжалась во всех областях пути прохождения пучка, кроме той, которая находится между заслонками.

Прокачка пути пучка

В этом предпочтительном варианте все части пути прохождения пучка снаружи лазерных камер прокачиваются N₂ с двумя исключениями: (1) Блок сужения линии и часть пути между лазерной камерой 8С и МСЛ прокачивают гелием, и (2) Эталонные камеры в МАЛ, МАС и МАП для измерения длины волны и ширины полосы являются герметичными камерами. На фиг.1 показан источник 42 газа прокачки, но линии прокачки не показаны. Отличные примеры прокачиваемых путей прохождения пучка подробно описаны в заявке на патент США №10/000991, которая упоминается здесь в качестве ссылки. В этом методе используются металлические сифоны и легко уплотняемые вакуумные уплотнения на границах между вибрирующими камерами и чувствительной лазерной оптикой, и вакуумные уплотнения на границе между всеми отдельными модулями, позволяющие быстро отделить модули для их оперативной замены при ремонте или обслуживании. На фиг.8А-Е представлены чертежи предпочтительных легко уплотняемых сильфонных уплотнений с частями 93А, В и С, пригодными для соединения элементов на пути пучка от МСЛ к сканеру. Любой из зажимов, показанных на фиг.8С и 8Е, можно использовать для соединения частей 93F и 93D с покрытым оловом с-образным уплотнением, зажатым между ними. На фиг.8D показан вырез собранного уплотнительного узла. Уплотнения в уплотнительных узлах представляют собой металлические с-образные уплотнения, предпочтительно с контактным слоем олова. Металлические уплотнения не ухудшают и не загрязняют газ под воздействием ультрафиолетового излучения.

Монитор пути прохождения пучка

Предпочтительно предусмотрены мониторы, чтобы гарантировать качество пути прохождения лазерного пучка, так как загрязнение этого пути поглотителями, такими как кислород, может существенно повлиять на качество пучка и энергию импульса. Предпочтительно предусмотреть несколько путей прокачки. Можно использовать мониторы потока для контролирования потока прокачки, однако можно также предусмотреть и другие мониторы, например мониторы О₂, поставляемые несколькими производителями. Другие мониторы качества пути прохождения пучка включают в себя акустический монитор, использующий электретный электронный микрофон, поставляемый компанией Audio Products, Дайтон, Огайо. Этот тип монитора описан в заявке на патент США №10/000991, упоминаемой здесь для сведения. В предпочтительных вариантах эти мониторы используются для выработки сигналов, которые может использовать оператор литографической установки для задержки производства после остановки до тех пор, пока прокачка пути прохождения пучка не очистит в достаточной степени путь прохождения пучка от загрязнений.

Переворот профиля пучка

При изготовлении интегральных схем когерентность лазерного пучка является нежелательной. Пучки эксимерного лазера характеризуются низкой когерентностью, что является одной из причин, почему этот источник света подходит для производства интегральных схем. Однако по мере того, как другие аспекты качества пучка продолжают улучшаться, даже такая низкая когерентность пучков, генерируемых этими лазерами, может оказаться недостаточно низкой. В этом случае можно добавить скремблер когерентности. Его можно ввести в нескольких местах на пути прохождения пучка. Можно также установить его в любом месте в блоке доставки пучка.

На фиг.9 показан пример скремблера когерентности с переворотом профиля пучка. Он реализуется с помощью ответвителя 60 на 60% и трех максимально отражающих зеркал 62, 64 и 66. Это устройство разделяет импульс на сегменты аналогично описанному выше расширителю импульсов. Но при этой конфигурации профиль каждого сегмента переворачивается относительно предыдущего сегмента. В примере на фиг.9 профиль входящего импульса 68 представлен треугольником с острием внизу. Первый сегмент, 40% интенсивности импульса, проходящий с таким же профилем, показан позицией 68А. Отраженная часть подвергается отражению на каждом из зеркал, и его 60% отражается от расщепителя 60 пучка, так что сегмент имеет профиль, показанный как 68В, который перевернут относительно профиля 68А. По мере того, как последующие сегменты проходят через скремблер когерентности, каждый их профиль переворачивается относительно предыдущего профиля. Следовательно, чистый профиль пучка будет скремблирован, и что более важно, также будет скремблирована любая когерентность. Понятно, что в этом варианте не существует существенного растяжения импульсов, если только ветви не достаточно длинные, чтобы обеспечить значительные задержки сегментов, следующих за первым. Так как импульс уже растянут, как было описано выше, эти ветви могут быть очень короткими - около нескольких дюймов, и в этом случае сегменты перекроют друг друга.

Определение энергии импульса на плоскости пластины

В предпочтительных вариантах настоящего изобретения предусмотрен детектор 44 энергии импульса на плоскости 46 пластины в сканере. Сигналы энергии импульса из этого детектора можно использовать в контуре обратной связи для прямого контролирования выходной энергии лазера. Альтернативно, эти сигналы можно использовать для определения параметров энергии импульса, измеренных на МАП или МАС, которые обеспечат необходимое освещение на плоскости пластины.

Особенности F₂ лазера

Приведенное выше описание относится в общем непосредственно к системе ArF лазера, но почти все признаки в равной степени применимы в KrF лазерам с незначительными модификациями, известными специалистам. Однако для варианта F₂ лазера согласно изобретению потребуются некоторые существенные модификации. Эти модификации могут включать использование селектора линии вместо МСЛ и/или селектора линии между двумя камерами или даже после усилителя мощности. Селекторы линии предпочтительно представляют собой группу призм. Прозрачные пластины, ориентированные соответствующим образом относительно пучка, можно использовать между камерами для улучшения поляризации выходного пучка. Между камерами можно добавить рассеиватель для уменьшения когерентности выходного пучка.

В настоящее изобретение можно внести различные модификации, не изменяющие его объема. Для специалистов будет очевидно множество других возможных вариантов.

Например, несмотря на то, что изобретение, включая применение блока доставки пучка, было описано на примере лазера с конфигурацией ЗГУМ, можно также использовать однокамерную лазерную систему, например, описанную в патенте США №6330261. Для литографии можно использовать системы на ArF, KrF или F₂. Кроме литографии данное изобретение, можно также использовать и в других применениях, для которых более адекватной может быть другая длина волны ультрафиолетового диапазона. Важным усовершенствованием в данном случае является добавление к лазерной системе оборудования для доставки лазерного пучка ультрафиолетового диапазона, имеющего требуемые качества, к входному окну оборудования, для которого требуется источник ультрафиолетового лазерного света. Можно использовать различные системы управления с обратной связью, кроме описанных выше.

Понятно, что при исключительно высокой частоте импульсов управление с обратной связью на энергии импульса не обязательно должно быть достаточно быстрым, чтобы управлять энергией импульса на основании непосредственно предшествующего импульса. Например, можно предусмотреть методы управления, в которых измеренная энергия конкретного импульса используется для управления вторым или третьим последующим импульсом. Кроме конфигурации лазера, показанной на фиг.1, можно использовать множество других конфигураций. Например, камеры можно установить рядом или расположить УМ снизу. Также, второй лазерный блок можно выполнить как подчиненный генератор, включив в него выходной ответвитель, например, частично отражающее зеркало. Возможны и другие варианты. Кроме тангенциальных вентиляторов, можно использовать и другие вентиляторы. Это может потребоваться при частоте следования, намного превышающей 4 кГц. Вентиляторы и теплообменник можно расположить снаружи разрядных камер.

Следовательно, представленное выше описание не следует рассматривать как ограничивающее, и объем изобретения следует определять на основании прилагаемой формулы изобретения и законных эквивалентов.

Система очень узкополосного двухкамерного газоразрядного лазера с высокой частотой следования содержит две отдельные разрядные камеры, одна из которых является частью задающего генератора, формирующего очень узкополосный посылаемый пучок, который с помощью ретрансляционной оптики направляется через вторую разрядную камеру для получения усиленного выходного пучка, блок доставки пучка, содержащий конструкцию ограждения пути прохождения пучка, образующую путь прохождения лазерного пучка до входного окна для лазерного пучка на литографической установке, и систему измерения и управления лазерным пучком, предназначенную для измерения энергии импульса, длины волны и ширины полосы выходных лазерных импульсов, генерируемых двухкамерной лазерной системой, и управления выходными лазерными импульсами по схеме управления с обратной связью. Обеспечивается постоянное освещение плоскости пластины в литографической системе в течение всего ее срока службы, несмотря на существенную деградацию оптических элементов. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 23 ил.

1. Система очень узкополосного двухкамерного газоразрядного лазера с высокой частотой следования, содержащая A) первый лазерный блок, содержащий 1) первую разрядную камеру, вмещающую c) первый лазерный газ и d) первую пару удлиненных, расположенных на расстоянии друг от друга электродов, ограничивающих первую область разряда, 2) первый вентилятор для обеспечения достаточных скоростей первого лазерного газа в первой области разряда для удаления из первой области разряда после каждого импульса практически всех образовавшихся в результате разряда ионов перед следующим импульсом при работе с частотой следования в пределах 4000 импульсов в секунду или выше, 3) первую систему теплообменника, выполненную с возможностью удаления по меньшей мере 16 кВт тепловой энергии из первого лазерного газа, 4) блок сужения линии, предназначенный для сужения спектральной ширины полосы световых импульсов, генерированных в первой разрядной камере, B) вторую разрядную камеру, содержащую 1) второй лазерный газ и 2) вторую пару удлиненных расположенных на расстоянии друг от друга электродов, ограничивающих вторую область разряда, 3) второй вентилятор для обеспечения достаточных скоростей второго лазерного газа во второй области разряда для удаления из первой области разряда после каждого импульса практически всех образовавшихся в результате разряда ионов перед следующим импульсом при работе с частотой следования в пределах 4000 импульсов в секунду или выше, 4) вторую систему теплообменника, выполненную с возможностью удаления по меньшей мере 16 кВт тепловой энергии из второго лазерного газа, C) импульсную систему питания, выполненную с возможностью подачи к первой паре электродов и второй паре электродов электрических импульсов, достаточных для генерации лазерных импульсов с частотой около 4000 импульсов в секунду или выше с точно регулируемой энергией импульсов выше около 5 мДж, и D) расширитель импульса для увеличения продолжительности лазерных импульсов в усиленном выходном пучке, Е) ретрансляционную оптику для направления лазерных пучков, генерируемых в первом лазерном блоке, через вторую разрядную камеру для получения усиленного выходного пучка, F) блок доставки пучка, содержащий конструкцию ограждения пути прохождения пучка, образующую путь прохождения лазерного пучка от расширителя импульса до входного окна для лазерного пучка на литографической установке, и G) систему измерения и управления лазерным пучком, предназначенную для измерения энергии импульса, длины волны и ширины полосы выходных лазерных импульсов, генерируемых двухкамерной лазерной системой, и управления выходными лазерными импульсами по схеме управления с обратной связью.2. Система лазера по п.1, которая дополнительно содержит продувочное средство для продувки блока доставки пучка азотом.3. Система лазера по п.1, в которой блок доставки пучка дополнительно содержит множество блоков изоляционных заслонок для изоляции частей пути прохождения пучка, позволяющих обслуживать оптические элементы, сохраняя при этом другие части пути прохождения пучка практически в свободном от загрязнений состоянии.4. Система лазера по п.1, в которой блок доставки пучка содержит зеркала, расположенные с возможностью обеспечения отражения с s-поляризацией около 97% лазерного пучка.5. Система лазера по п.1, в которой блок доставки пучка содержит две призмы, выполненные с возможностью изменения направлений лазерного пучка приблизительно на 90°.6. Система лазера по п.1, в которой комбинированный путь прохождения пучка образован комбинированными путями лазерных пучков, генерированных в первом лазерном блоке, направляемых ретрансляционной оптикой, усиленных во втором лазерном блоке, подвергнутых растяжению импульсов в расширителе импульсов и доставленных блоком доставки пучка, и дополнительно содержащий элементы ограждения пути прохождения пучка для ограждения всех частей пути прохождения пучка, которые в противном случае были бы открытыми.7. Система лазера по п.6, которая дополнительно содержит продувочную систему для продувки одним или несколькими продувочными газами всех частей пути прохождения пучка, не заключенных в герметичной конструкции.8. Система лазера по п.1, в которой ретрансляционная оптика выполнена с возможностью создания двух проходов выходных импульсов из первого лазерного блока через вторую разрядную камеру.9. Система лазера по п.1, которая дополнительно содержит скремблер когерентности с переворотом профиля.10. Система лазера по п.1, в которой ретрансляционная оптика содержит по меньшей мере одну призму с полным внутренним отражением.11. Система лазера по п.1, в которой ретрансляционная оптика содержит по меньшей мере одну отражательную призму с полным внутренним отражением и по меньшей мере одну двухотражательную призму с полным внутренним отражением.12. Система лазера по п.1, в которой ретрансляционная оптика содержит модуль переключения направления пучка для реверсирования лазерного пучка после одного прохода через усилитель мощности для второго прохода через усилитель мощности, при этом модуль переключения направления пучка содержит двухотражательную призму с полным внутренним отражением.13. Узкополосный лазерный источник света ультрафиолетового диапазона с высокой частотой следования, предназначенный для подачи света в виде лазерных выходных световых импульсов на участок приема света в установке на поточной линии, содержащий лазерный блок, генерирующий лазерный выходной световой импульсный пучок, блок доставки пучка, обеспечивающий доставку указанного пучка во входное окно установки на поточной линии, содержащий конструкцию ограждения пути прохождения пучка, обеспечивающую путь для прохождения лазерного выходного светового импульсного пучка из выходного окна для лазерного пучка лазерного блока на входное окно установки на поточной линии, модуль анализа пучка, предусмотренный на входном окне установки на поточной линии для контролирования входного пучка и выдачи сигналов обратной связи в систему управления лазера.