СВЧ-ПЛАЗМОТРОН Российский патент 2020 года по МПК H05H1/26 H05H1/46 

Описание патента на изобретение RU2718715C1

Изобретение относится к плазменной технике, в частности к устройствам для генерирования плазмы с использованием внешних электромагнитных полей сверхвысокой частоты и может быть использовано для проведения плазмохимических и тепловых технологических процессов, а также для плазменной обработки различных материалов и изделий.

Известен «Ускоритель с устройством высокочастотного питания, содержащий магнетрон, подключенный через фазовращатель к входному плечу волноводного моста, две идентичные резонаторные секции, подключенные к выходным плечам волноводного моста, поглощающую нагрузку, подключенную к плечу волноводного моста, развязанному со входным плечом, отличающийся тем, что между выходными плечами моста и входами идентичных резонаторных секций установлены два идентичных низкодобротных проходных резонатора. Патент РФ на изобретение №2154924, МПК: Н05Н 7/02, д. публ. 20.08.2000

Известен «СВЧ-плазмотрон», содержащий источник СВЧ-излучения, полый прямоугольный металлический волновод, в котором распространяется электромагнитная энергия с длиной волны основного типа колебаний Ню, связанные с ним два отрезка круглого запредельного волновода, расположенные перпендикулярно с двух сторон в центре широких стенок прямоугольного волновода, диэлектрическую разрядную камеру, а также газоформирователь с двумя соплами, выполненный в торце одной из частей запредельного волновода и обеспечивающий вихревой ввод потока плазмообразующего газа в разрядную камеру, при этом диэлектрическая разрядная камера размещена в прямоугольном волноводе и выполнена в виде двух частей, расположенных по горизонтальной оси прямоугольного волновода, причем наружная поверхность каждой части диэлектрической разрядной камеры ограничена двумя симметрично расположенными от центральной оси разрядной камеры полуцилидрическими поверхностями и прямоугольными поверхностями, также расположенными друг против друга и образованными двумя частями узких стенок волновода, которые срезают цилиндрическую поверхность разрядной камеры по двум хордам, при этом наружный диаметр каждой полуцилиндрической части d1 разрядной камеры равен внутреннему размеру широкой стенки волновода в, а расстояние L между хордами каждой из двух полуцилидрических частей разрядной камеры равно внутреннему размеру а узкой стенки прямоугольного волновода, кроме того, на наружной поверхности узких стенок прямоугольного волновода, на границе среза цилиндрической поверхности разрядной камеры по двум хордам, а именно в местах контакта узких стенок с расположенной внутри волновода разрядной камерой, выполнены симметрично расположенные друг против друга два сопла для дополнительного ввода струй газа, обеспечивающих охлаждение диэлектрических стенок разрядной камеры. Патент РФ на ПМ, №183873, МПК: Н05Н 7/00, д. публ. 08.10.2018 г.

Известен «Сверхвысокочастотный плазмотрон, содержащий сочлененные между собой прямоугольный и круглый волноводы, диэлектрическую разрядную камеру, поглотитель СВЧ мощности, СВЧ генератор, отличающийся тем, что между СВЧ генератором и сочленением круглого и прямоугольного волноводов вводят щелевой мост, а сочленение круглого и прямоугольного волноводов выполняют в виде волноводно-щелевого перехода.

Патент РФ на изобретение №2274963, МПК: Н05Н 7/00, д. публ. 20.04.2006. Наиболее близким аналогом к предлагаемому в качестве изобретения устройству является «Устройство для СВЧ-плазменной обработки материалов», содержащее СВЧ-генератор, соединенный через магистральный прямоугольный волновод с плазмотроном волноводного типа на волне Н10, который содержит прямоугольный волновод плазмотрона в диэлектрическую разрядную трубку, расположенную перпендикулярно широкой стенке этого волновода и проходящую через его середину, а также подсоединяемую к ней рабочую камеру, при этом устройство дополнительно содержит второй, аналогичный плазмотрон, расположенный так, что одним своим концом он соединен через прямоугольный волновод плазмотрона с магистральным прямоугольным волноводом и первым плазмотроном с помощью Е-тройника и волноводных поворотов, при этом противоположные концы прямоугольных волноводов плазмотронов соединены с помощью дополнительных волноводных поворотов, а диэлектрические разрядные трубы плазмотронов размещены коаксиально в круглых волноводах, подсоединенных, как и диэлектрические разрядные трубки, к вакуумной рабочей камере, расположенной между ними.

Патент РФ на изобретение №2157061, МПК: Н05Н 1/30, д. публ. 27.09.2000

Описанное устройство решает задачу повышения степени использования СВЧ энергии генератора за счет передачи неиспользованной части энергии, прошедшей через один плазмотрон, ко второму плазмотрону. Недостаток такого решения состоит в сложности и громоздкости устройства и конструкции волноводного тракта. Кроме того, защита магнетрона от отраженной волны обеспечивается только в случае строго идентичных условий поглощения и отражения СВЧ волны в обоих плазмотронах, что на практике обеспечить весьма сложно, так как они работают независимо друг от друга, а в случае отсутствия плазменного разряда в одном, а тем более в обоих плазмотронах вся или значительная часть СВЧ мощности возвращается обратно в магнетрон, поскольку в устройстве полностью отсутствует поглощающая балластная нагрузка.

К техническому результату относится повышение надежности работы устройства счет того, что СВЧ-генератор вне зависимости от наличия или отсутствия микроволнового плазменного разряда, а также степени его согласования с питающей электромагнитной волной, работает на согласованную нагрузку.

Кроме того, данная конструкция СВЧ-плазмотрона позволяет исключить необходимости использования технически сложных и дорогостоящих устройств согласования и защиты СВЧ генератора от отраженной волны. Вышеуказанный технический результат достигается за счет того, что «СВЧ-плазмотрон» содержит СВЧ-генератор, соединенный через магистральный прямоугольный волновод с плазмотроном волноводного типа на волне Н10. Последний содержит прямоугольный волновод плазмотрона и диэлектрическую разрядную трубку, расположенную перпендикулярно широкой стенке этого волновода и проходящую через его середину, а также подсоединяемую к ней разрядную камеру. При этом устройство снабжено вторым дополнительным волноводом, а между СВЧ-генератором и разрядной камерой, выполнен трехдецибельный квадратурный мост в виде направленного ответвителя шлейфного типа со связью по широкой стенке волновода, причем к первому выходному плечу моста подключают первый волновод плазмотрона, а ко второму выходному плечу моста подключают второй дополнительный волновод плазмотрона, при этом разрядная камера является общей для них, кроме того оба волновода плазмотрона выполнены в виде короткозамкнутых отрезков таким образом, что ось разрядной камеры отстоит от короткозамкнутых концов волноводов на расстоянии кратном нечетному числу λв/4, а в плече моста, развязанном с входным плечом, располагают согласованную волноводную нагрузку.

СВЧ-плазмотрон поясняется чертежом-схемой на фиг. 1

Фиг. 1 - СВЧ-плазмотрон (схема общего вида)

СВЧ-плазмотрон согласно Фиг. 1 содержит СВЧ генератор 1, сочлененный через магистральный прямоугольный волновод 2 с входным плечом трехдецибельного квадратурного волноводного моста 3, выполненного в виде направленного ответвителя шлейфного типа со связью по широкой стенке волновода. К первому выходному плечу моста 3 подключен первый волновод 4 плазмотрона, ко второму выходному плечу моста 3 подключен второй, идентичный первому, дополнительный волновод 5 плазмотрона. Разрядная камера 6 плазмотрона, выполненная в виде полой диэлектрической трубки, пересекает первый 4 и второй 5 волноводы плазмотронов посередине их широких стенок и перпендикулярно к ним. Оба волновода 4 и 5 плазмотрона выполнены в виде короткозамкнутых отрезков таким образом, что ось разрядной камеры 6 отстоит от короткозамкнутых концов волноводов на расстоянии кратном нечетному числу λв/4. К плечу моста 3, развязанному с входным плечом, подключена согласованная балластная волноводная нагрузка 7.

СВЧ-плазмотрон работает следующим образом: от СВЧ генератора 1 по прямоугольному волноводу 2 распространяется электромагнитная волна на основном типе колебаний Н10 с длиной волны в волноводе λв и подается во входное плечо трехдецибельного волноводного моста 3. В мосте происходит разделение входной волны на две равные части половинной мощности, но сдвинутые по фазе на 180°. Эти две волны того же типа Н10 по двум идентичным волноводам 4 и 5 проходят к области генерации плазмы 8 в разрядной камере 6, где происходит их частичное поглощение в плазме 8. Прошедшие части волн, энергия которых не была использована для поддержания СВЧ разряда, отразившись от короткозамкнутых концов волноводов 4 и 5, меняют свою фазу на 180° и на обратном пути снова частично поглощаются в плазме 8. Две отраженные от плазмы при первом прохождении, а также две прошедшие и не поглощенные при обратном, втором прохождении волны, складываются в волноводном мосте 3 попарно и поступают в развязанное плечо моста 3, где поглощаются в согласованной балластной нагрузке 7.

Применение данной конструкции СВЧ-плазмотрона позволит повысить надежность работы устройства счет того, что СВЧ-генератор вне зависимости от наличия или отсутствия микроволнового плазменного разряда, а также степени его согласования с питающей электромагнитной волной, работает на согласованную нагрузку.

Кроме того, данная конструкция СВЧ-плазмотрона позволяет исключить необходимости использования технически сложных и дорогостоящих устройств согласования и защиты СВЧ генератора от отраженной волны.

Похожие патенты RU2718715C1

название год авторы номер документа
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЧ-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ 1999
  • Редькин С.В.
  • Аристов В.В.
RU2157061C1
СВЕРХВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ПЛАЗМОТРОН 2004
  • Кузовой Валерий Дмитриевич
  • Кислицына Нина Фёдоровна
  • Генералова Татьяна Борисовна
RU2274963C2
УСТРОЙСТВО СВЧ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ 2013
  • Аристов Виталий Васильевич
  • Мальцев Петр Павлович
  • Редькин Сергей Викторович
  • Побойкина Наталья Витальевна
RU2555743C2
УСТАНОВКА ДЛЯ СУШКИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ СВЧ-ЭНЕРГИЕЙ 2001
  • Гареев Ф.Х.
RU2199064C2
ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ ПЕРЕКЛЮЧАТЕЛЬ РЕЗОНАНСНОГО СВЧ КОМПРЕССОРА 2008
  • Августинович Владимир Андреевич
  • Артёменко Сергей Николаевич
  • Юшков Юрий Георгиевич
  • Новиков Сергей Автономович
  • Дьяченко Валерий Федорович
  • Каминский Валерий Людвигович
RU2387055C1
СВЧ-ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР 2000
  • Леонтьев И.А.
  • Лысов Г.В.
  • Кудряшов О.Ю.
RU2225684C2
Коаксиально-волноводный переход 2017
  • Ганзий Дмитрий Дмитриевич
  • Егоров Иван Петрович
  • Хромов Иван Валерьевич
RU2655747C1
ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ ПЕРЕКЛЮЧАТЕЛЬ РЕЗОНАНСНОГО СВЧ-КОМПРЕССОРА 2006
  • Августинович Владимир Андреевич
  • Артёменко Сергей Николаевич
  • Юшков Юрий Георгиевич
RU2328062C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРИЕМА ОРТОГОНАЛЬНЫХ ЛИНЕЙНО ПОЛЯРИЗОВАННЫХ ВОЛН 2016
  • Босомыкин Дмитрий Васильевич
  • Сидоренко Татьяна Ивановна
  • Орехов Андрей Петрович
  • Сидоренко Алексей Дмитриевич
RU2620893C1
СВЧ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР 2004
  • Лысов Георгий Васильевич
  • Леонтьев Игорь Анатольевич
  • Николаев Андрей Анатольевич
  • Черномырдин Виталий Викторович
  • Клямко Андрей Станиславович
RU2270536C9

Иллюстрации к изобретению RU 2 718 715 C1

Реферат патента 2020 года СВЧ-ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к плазменной технике, в частности к устройствам для генерирования плазмы с использованием внешних электромагнитных полей сверхвысокой частоты, и может быть использовано для проведения плазмохимических и тепловых технологических процессов, а также для плазменной обработки различных материалов и изделий. Технический результат - повышение надежности работы устройства счет того, что СВЧ-генератор вне зависимости от наличия или отсутствия микроволнового плазменного разряда, а также степени его согласования с питающей электромагнитной волной, работает на согласованную нагрузку. СВЧ-плазмотрон содержит СВЧ-генератор, соединенный через магистральный прямоугольный волновод с плазмотроном волноводного типа на волне Н10, который содержит прямоугольный волновод плазмотрона и диэлектрическую разрядную трубку, расположенную перпендикулярно широкой стенке этого волновода и проходящую через его середину, а также подсоединяемую к ней разрядную камеру. Устройство снабжено вторым дополнительным волноводом, а между СВЧ-генератором и разрядной камерой выполнен трехдецибельный квадратурный мост в виде направленного ответвителя шлейфного типа со связью по широкой стенке волновода, причем к первому выходному плечу моста подключают первый волновод плазмотрона, а ко второму выходному плечу моста подключают второй дополнительный волновод плазмотрона, при этом разрядная камера является общей для них, кроме того, оба волновода плазмотрона выполнены в виде короткозамкнутых отрезков таким образом, что ось разрядной камеры отстоит от короткозамкнутых концов волноводов на расстоянии, кратном нечетному числу λв/4, а в плече моста, развязанном с входным плечом, располагают согласованную волноводную нагрузку. 1 ил.

Формула изобретения RU 2 718 715 C1

СВЧ-плазмотрон, содержащий СВЧ-генератор, соединенный через магистральный прямоугольный волновод с плазмотроном волноводного типа на волне Н10, который содержит прямоугольный волновод плазмотрона и диэлектрическую разрядную трубку, расположенную перпендикулярно широкой стенке этого волновода и проходящую через его середину, а также подсоединяемую к ней разрядную камеру, отличающийся тем, что устройство снабжено вторым дополнительным волноводом, а между СВЧ-генератором и разрядной камерой выполнен трехдецибельный квадратурный мост в виде направленного ответвителя шлейфного типа со связью по широкой стенке волновода, причем к первому выходному плечу моста подключают первый волновод плазмотрона, а ко второму выходному плечу моста подключают второй дополнительный волновод плазмотрона, при этом разрядная камера является общей для них, кроме того, оба волновода плазмотрона выполнены в виде короткозамкнутых отрезков таким образом, что ось разрядной камеры отстоит от короткозамкнутых концов волноводов на расстоянии, кратном нечетному числу λв/4, а в плече моста, развязанном с входным плечом, располагают согласованную волноводную нагрузку.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2020 года RU2718715C1

УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЧ-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ 1999
  • Редькин С.В.
  • Аристов В.В.
RU2157061C1
СВЕРХВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ПЛАЗМОТРОН 2004
  • Кузовой Валерий Дмитриевич
  • Кислицына Нина Фёдоровна
  • Генералова Татьяна Борисовна
RU2274963C2
US 2008129208 A1, 05.06.2008
JP 2007273637 A1, 18.10.2007.

RU 2 718 715 C1

Авторы

Тихонов Виктор Николаевич

Тихонов Александр Викторович

Иванов Игорь Анатольевич

Даты

2020-04-14Публикация

2019-08-15Подача