Теневая маска цветного кинескопа Советский патент 1985 года по МПК H01J29/07 

11 Изобретение относится к телевизионной технике, а именно к цветным кинескопам с теневыми масками. Как правило, в состав цветных кинескопов с теневыми масками входит экран из люминофорных линий или течек, светящихся красным, зеленым и синим цветом, электронные прожекто ры, предназначенные для возбуждения цветов экрана, и теневая маска, расположенная между прожекторами и экра ном. Известна теневая маска, представляющая собой тонкий металлический лист с множеством отверстий, число, которых равно числу триад люминофор экрана р J. Недостатком таких масок является их невысокая прозрачность. Известна теневая маска цветного кинескопа, содержащая щелевые отверс тия, расположенные в колонках, разделенных полосами равной толщины и перемычками L2J. Однако такая маска характеризует ся недостаточно высоким коэффициентом прозрачности. В известной маске вертикальные щелевые отверстия прерываются множеством разнесенных на соответствующие расстояния мостиков или перемычек, обеспечивающих механическую жесткость. Присутствие таких перемычек уменьшает пропускание электронны лучей и тем самым ухудшает яркость люминофоров. Целью изобретения является увеличение прозрачности маски. Указанная цель достигается тем, что в теневой маске цветного кинескопа, содержащей щелевые отверстия расположенные в колонках, разделенных полосами равной толщины и переуменьшенной в месте соединения с полосами таким образом, что площадь сечения перемычек постоянна по ее длине, а отношение длины перемычки к длине ее части, толщина которой равна толщине полосы, выбрано из выражения

0,38i 0,4,

D

1де Ъ - длина перемычки;

с - длина части перемьики, толщина которой равна толщине полосы.

На фиг. 1 изображена теневая маска; на фиг. 2 и 3 - растры фотощаблоНа фиг. 2 и 3 представлены растры 8 и 9 фотошаблонов, применяемых для создания отверстий в маске 1, соответственно. Затемненные области каждого растра являются местами, где проводится травление. Представленньш на фиг. 2 растр В со стороны электронного прожектора состоит из колонок штрихов 10 на месте отверстий, растр 9 со стороны экрана состоит из полосок 11 со светлыми горизонтальными участками 12 в местах островков перемычек.

Преимущество маски 1 по сравнению с известной при получении куполообра9нов, применяемых при травлении, расположенных на противоположных сторонах теневой маски растров отверстий; со стороны электронных прожекторов и со стороны экрана, соответственно; на фиг. 4 - теневая маска, Bi-m спереди; на фиг. 5 - разрез А-А на фиг.4; на фиг. 6 - разрез Б-Б на фиг. 4; на фиг. 7 - разрез В-Б на фиг. 4. Маска 1 содержит колонки отверстий 2. Отверстия 2 каждой колонки разделяются перемычками 3. В маске 1 есть участки с полной толщиной и участки уменьшенной толщины. Участки полной толщины состоят из полос 4 между колонками отверстий и островков 5 у перемычек 3. Полосы 4 и островки 5 разделены участками 6 уменьшенной толщины. Представленная на фиг. 1 поверхность маски обращена к экрану кинескопа (противоположная поверхность обращена к электронному прожектору), Когда маска имеет куполообразную (например, сферическую или бирадиальную) или цилиндрическую форму, полосы 4 и островки 5 располагаются в изогнутом контуре и являются наиболее близкими к экрану частями маски 1. Со стороны экрана видно, что большая часть перемычек 3 содержит островки, находящиеся во впадинах, простирающихся по длине колонок отверстий. Благодаря такой конструкции все три электронных луча 7 проходят сквозь маску и не соударяются с перемычками. В результате возрастает пропускание маски, а в силу того, что максимальная толщина поддерживается непосредственно между впадинами отверстий, прочность маски не ухудшается .

ной формы видно при сравнении поперечного сечения перемычек (фиг. 4-7).

Поперечные сечення, выполненные в различных местах перемычки 3, по форме различны, но площадь всех поперечных сечений одинакова. На перемычке 3 нет относительно слабых мест, которые могут лопнуть при придании маске 1 куполообразной формы. Это преимущество дает возможность определенного уменьшения ширины перемычки, измеренной в продольном направлении колонки отверстий, что улучшает пропускание маски без ухудшения механической прочности, необходимой для формования маски и последующей обработки.

Ниже представлены замеры, вьшолнен ные в центре экспериментальной теневой маски с диагональю 48, 26 мм, мм:

Расстояние между осевыми

линиями колонок0,902

Длина отверстия0,716

Межцентровое расстояние

отверстий по вертикали 0,813

Расстояние между отверстиями по вертикали (вертикальньй размер перемычки)0,097 Ширина отверстия (на фиг. 4, а) 0,169 Ширина впадины (фиг.4,Ь) . 0,453 Ширина островка перемычки (фиг. 4, с) 0,179 Ширина островка перемычки (фиг. 4, d) 0,060 Толщина участка перемычки с уменьшенной толщиной (фиг. 5, е) 0,051 Толщина маски и островков (фиг. 6, f) 0,152 Из приведенных геометрических параметров маски видно, что отношение длины перемьтки с, толщина которой равна толщине полосы, к общей ее длине Ъ составляет О,39.При таком отношении с/Ь в маске улучшается пропускание электронных хгучей без ухудшения механической прочности маски. При ,38 уменьшается прочность маски, а при ,4 - практически не улучшается пропускание электронных лучей.

ТЕНЕВАЯ МАСКА ЦВЕТНОГО К СКОПА, содержащая щелевые отверст расположенные в колонках, разделенных полосами равной толщины и перемычками, отличающаяся тем, что, с целью увеличения прозрачности маски, толщина перемычек выполнена уменьшенной в месте соединения с полосами таким образом, что площадь сечения перемычки постоянна по ее длине, а отношение длины перемычки к длине ее части, толщина которой равна толщине полосы, выбрано из выражения 0,38 ,4, где b - длина перемычки; с - длина части перемычки, толщина которой равна толщине полосы.

II

1

Фиг.2

в-в

д-5

тт

е;