Способ изготовления фотошаблонов для неплоских объектов Советский патент 1986 года по МПК G03F7/24 

Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к технологии изготовления неплоских фотошаблонов.

Цель изобретения - улучшение качества изготовляемых неплоских фотошаблонов, .

Сущность способа заключается в том, что орИ1инал изготавливают повторяющим в масштабе объемную форму

125А4177

масштаб съемки равен п. Следовательно, форма фотографируемой поверхности оригинала также должна быть сферической.

Определяют радиус этой сферы;

R г-п,

где R - радиус сферической поверхности оригинала.

Изготовляют сферический оригинал

фотошаблона. Для этого форму и разме- «О с радиусом фотографируемой поверхности раэньи R. На эту фотографируемую

ры оригинала предварительно рассчитывают исходя из формы экспонируемой поверхности фотошаблона и масштаба съёмки. После этого по полученным , расчетам изготовляют оригинал, форма фотографируемой поверхности которого повторяет в масштабе форму экспонируемой поверхности фотошаблона. На фотографируемую поверхность оригинала наносят топологию в масштабе съемки, которую хотят получить на фотя абло- не, фотографируют оригинал на фотошаблон с нанесенным светочувствитель- аын слоем. Экспонируемый фотошаблон Ьодвергают химической обработке, в результате чего на нем получается четкое изображение схемы, т, е. хорошая фокусировка изображения на неплоском фотошаблоне достигается фотогра- ,фированием неплоского оригинала. При фотографировании такого объемного оригинала изображение его фототогра- фируемой поверхности фокусируется в виде уменьшенного объемного изображения этой поверхности. Сфокусированное изображение совмещают с поверхностью фотошаблона так, чтобы изображение топологии на фотографируемой поверхности оригинала фокусировалось на э1рГ- спонируемЬй Поверхности фотошаблона.

Следовательно, для точной фокусировки изображения на экспонируемой поверхности фотошаблона необходимо, чтобы фотографируемая поверхность оригинала имела форму, повторяющую форму экспонируемой поверхности фотошаблона

На чертеже изображена схема реализации предложенного способа.

На схеме изображены сферический оригинал 1 с нанесенной топологией 2 в масштабе съемки, объектив 3, с помощью которого ее изображение 4 фокусируется на сферическом фотошаблоне, установленном в фотокамере 6.

Сначгша рассчитывают форму и размеры оригинала. .

Допустим, требуется получить рисунок схемы на сферическом фотошаблоне с радиусом сферической поверхности г,

30

поверхность наносят топологию рисунка, увеличенную в масштабе съемки. Топология может наноситься рисова15 нием тушью, наклеиванием фигур топологии по координатной сетке, предварительно нанесенной на оригинал или любым другим способом. Оригинал с топологией схемы, нанесенной на сфери20 ческую поверхность, устанавливают перед фотокамерой. Проводят настройку на резкость изображения по сферическому матовому стеклу, установлеиному внутри фотокамеры. После настройки

25 на резкость матовое стекло убирают, объектив закрывают затвором и вместо матового стекла устанавливают сферический фотошаблон с нанесенным свето- чувствительньш слоем. Открывают затвор и экспонируют фотошаблон. Экспонированный фотошаблон проявляют и фиксируют, в результате чего на нем получается изображение схемы. Время экспонирования подбирают многократным экспонированием и химической обработкой исходя из качества получаемого изображения, увеличивая йли уменьшая это время до получения хорошей контрастности изображения. Состав растворов для обработки эмульсии выбирается в соответствии с типом применяемой светочувствительной эмульсий. Для осуществления этого процесса можно применять любую фотокамеру, которая по своим размерам позволяет поместить в нее и проэкспонировать изготовленный фотошаблон в требуемом масштабе.

Использование предложенного способа изготовления фотошаблона обеспечивает возможность изготовления фотошаблонов для нанесения рисунка на сферические, гиперболические, параболические и другие неплоские поверхности и цилиндрических сферических шкал

55 повьппенной точности, а также возможность нанесения рисунка на конусообразные, трапецеидальные поверхности, поверхности с уступом, перегибом и

35

40

45

50

поверхность наносят топологию рисунка, увеличенную в масштабе съемки. Топология может наноситься рисованием тушью, наклеиванием фигур топологии по координатной сетке, предварительно нанесенной на оригинал или любым другим способом. Оригинал с топологией схемы, нанесенной на сферическую поверхность, устанавливают перед фотокамерой. Проводят настройку на резкость изображения по сферическому матовому стеклу, установлеиному внутри фотокамеры. После настройки

на резкость матовое стекло убирают, объектив закрывают затвором и вместо матового стекла устанавливают сферический фотошаблон с нанесенным свето- чувствительньш слоем. Открывают затвор и экспонируют фотошаблон. Экспонированный фотошаблон проявляют и фиксируют, в результате чего на нем получается изображение схемы. Время экспонирования подбирают многократным экспонированием и химической обработкой исходя из качества получаемого изображения, увеличивая йли уменьшая это время до получения хорошей контрастности изображения. Состав растворов для обработки эмульсии выбирается в соответствии с типом применяемой светочувствительной эмульсий. Для осуществления этого процесса можно применять любую фотокамеру, которая по своим размерам позволяет поместить в нее и проэкспонировать изготовленный фотошаблон в требуемом масштабе.

Использование предложенного способа изготовления фотошаблона обеспечивает возможность изготовления фотошаблонов для нанесения рисунка на сферические, гиперболические, параболические и другие неплоские поверхности и цилиндрических сферических шкал

повьппенной точности, а также возможность нанесения рисунка на конусообразные, трапецеидальные поверхности, поверхности с уступом, перегибом и

125А417

Ни другие рельефные поверхности и одновременно на две и более поверхности.Формула изобретения

Способ изготовления фотошаблонов для неплоских объектов, заключающийся

в фотографировании оригинала, изготовленного в масштабе относительно фотошаблона, на фотошаблон с его последующей химической обработкой, о т л и- чаювдийся тем, что, с целью улучшения качества изготовления, оригинал изготовляют повторяющим в масштабе объемную форму фотошаблона.

Изобретение относится к микроэлектронике и позволяет улучшить качество изготовлен ш фотошаблонов. По предварительно рассчитанным форме и размерам изготовляют оригинал, формой фотографируемой поверхности повторяющий в масштабе форму экспонируемой поверхности фотошаблона. Фотографируют оригинал с нанесенной на его по- .верхность топологией рисунка на фотошаблон, который затем подвергают химической обработке. Предложенный способ дает возможность нан.есения рисунка на- сферические, гиперболические, параболические, конусообразные, трапецеидальные поверхности, поверхности с уступом, перегибом, а также нанесе- ния рисунков одновременно на несколько поверхностей. 1 ил. W С

О

Редактор Л.Пчелинская Заказ 4716/49

Составитель В.Добрьщнев

Техред М. Ходан гч Корректор С.Шекмар

Тираж 436Подписное

ВИНИЛИ Государственного.комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфяческое. предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4