Способ контроля процесса изготовления голографической дифракционной решетки Советский патент 1986 года по МПК G02B5/18 

Изобретение относится к оптическим элементам, а именно к дифракционным решеткам, и может быть испольэоваио для контроля параметров, нап ример глубины фазовой модуляции, глубииы рельефа, дифракционной эффективности голографических дифракци:онных решеток в процессе их изготовления. Известеи способ контроля процесса изготовления голографической дифракциоииой решетки, основанный на измерении интенсивности в первом порядке дифракции пучка, который дифрагирует на поверхности изготавливаемой решет ки. Недостатком этого способа является необходимость использования для коитроля дополнительного лазерного источника. Кроме того, способ не обеспечивает контроля процесса изготовления дифракционных решеток во всем возможном для данной длины вол ны записи интервале пространственны частот. Это обусловлено тем, что верхняя граница указанного интервала соответствует скользящему падению зондирующего пучка на рещетку. В то же время при реализации достаточно больших углов падения в рассматривае мой схеме в дифракционном cneKTJpe бу дет отсутствовать пучок первого порядка, который при других допустимых углах падения зондирующего излучения на решетку нес информацию о ее качес НсШболее близким к предлагаемому по своей технической сущности является способ контроля процесса изготовления голографической дифракционной решетки, включающий измерение интенсивности в первом порядке дифра ции одного из пары пучков, которые интерферируют и дифрагируют на поверхности изготавливаемой решетки, совмещенном с одним из порядков дифракции второго пучка этой пары, при чем измерение производят при экранировании второго пучка. В соответствии с этим способом среди прочего измеряют интенсивность в том первом порядке дифракции одного из пучков, который совмещен со вторым порядком дифракции второго пучка. Данный способ позволяет использовать для контроля решетки тот же лазерный источник, который исполь зуется для ее изготовления, однако по указанным причинам, интервал 12 4 пространственных частот ограничен и в этом случае. Цель изобретения - расширение области пространственных частот решетки до предельно возможных для данной длины волны записи. Поставленная цель достигается тем, что в способе контроля процесса изготовления голографической дифракционной решетки, включающем измерение интенсивности в первом порядке дифракции одного из пары пучков, которые интерферируют и дифрагируют на поверхности изготавливаемой решетки, совмещенном с одним из порядков дифракции второго пучка этой пары, причем измерение производят при экранировании второго пучка, измеряют интенсивность в том первом порядке дифракции одного из пучков, который совмещен с нулевым порядком дифракции второго пучка, а одновременно с экранированием второго пучка отклоняют измеряемый дифракционный пучок первого порядка от его первоначального направления. На фиг. показана оптическая схема установки для реализации предлагаег мого способа в случае изготовления отражательной решетки; на фиг.2 конструкция модулятора. Способ контроля процесса изготовления голографической дифракционной решетки реализуется следующим образом. С помощью лазерного источника 1, микрообъектива 2, точечной диафрагмы 3, объектива 4 и плоского зеркала 5 формируется пара пучков 6и 7, которые интерферируют и дифрагируют на поверхности изготавливаемой решетки 8. При этом направление распространения дифракционного пучка первого порядка от пучка 6 совпадает с направлением распространения дифракционного пучка нулевого порядка от пучка 7 и противоположно направлению распространения самого пучка 6. Контроль процесса изготовления решетки 8 осуществляют путем измерения интенсивности в первом порядке дифракции пучка 6 с помощью фотоприемника 9 и регистрирующего устройства 10. Для этого при помощи модулятора II, участок 12 которого непрозрачен, а участок 13 имеет коэффициент отражения 50% на длине волиы записи, перекрывают пучок 7 и одновременно отклоняют измеряемый дифракционный пучок первого порядка на фотоприемник 9 Предлагаемый способ позволяет осуществить практически скользящее падение зондирующего излучения на решетку 8 при существовании измеряемого дифракционного пучка и благодаря этому существенно расширить область контролируемых пространственных частот.

По предлагаемому способу производился контроль интенсивности дифракционного пучка первого порядка при ЭЩ1ИСИ рельефной решетки пучками лазера ( 4416А, р « 10 мВт/см)С пространственной частотой 9 286U мм

на монокрис7334

таллах CdS в водном однонормальном растворе KCI.

При этом величина оптимальной плотности пропущенного заряда в дан5 ных условиях составила 2,7 10 Кл/см .,

. .

Известным способом осуществить определение величины оптимальной плотности пропущенного заряда не пред0ставляется возможньи, так как 5„ 2080 мм- .

Таким образом, предлагаемый способ по сравнению с базовым объектомпрототипом позволяет расширить об5ласть пространственных частот до предельно возможных для данной длины волны записи.