Способ изготовления матрицы голографических линз Советский патент 1986 года по МПК G02B27/44 

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для передачи оптнческих сигналов и построения многократных изображений с высоким качеством Цель изобретения - повышение разрешающей способности изготавливаемой матрицы путем увеличения количества зон Френеля в линзах гфи неизменном шаге матрицы. На фиг. 1 показана схема формирования элементарной голографической дифракционной линзы; на фиг. 2 схема формирования матрицы таких линз. Способ реализуется следующим образом. На поверхности плоскопараллельной подложки формируют систему из М неперекрывающихся идентичных голографических дифракционных линз, расположенных с шагом d и представляющих собой совокупности зон Френе ля. При этом геометрические размеры формируемых дифракционных линз выполняют равными 2dx2d, делят каждую из М линз на одинаковые по размерам четыре строки и четыре столбца и оставляют в ее составе зоны Френеля, содержащиеся в областях пересечения первой строки и четверт го столбца, второй строки и второго столбца, третьей строки и третьего столбца, четвертой строки и первого столбца. Пример. Рисунок зонной плас тинки Френеля программировался на ЭВМ - Электроника - 100 М и вводи ся в устройство вырезки ориги:налов в КПА-1200. Затем выбирались прозра ные зоны Френеля и оригинал снималс с уменьшением в 10 раз на редукцион ной камере ЗМ-501. Б результате этой операции получался фотошаблон единичной зонной пластинки Френеля размерами 36x36 мм. На этот шаблон накладывали маску, которая делила его на 4 строки и 4 столбца, пропус кая лишь четвертый столбец в первой строке, второй - во второй строке, третий - в третьей строке, первый в четвертой строке, а остальные маскировала, и снимали копию на установке контактной фотолитографии Эм-523 в масштабе 1:1. После этого на стеклянную подложку со слоем фоторезиста экспонировался рисунок по лученного фотошаблона в масштабе 1: 54 2 и мультиплицировался с шагом 1,8 мм. При этом в слое фоторезиста получался рисунок матрицы с шагом 1,, 8 мм и размером зонной пластинки Френеля 3,6x3,6 мм „ Фокусное расстояние матрицы было равно 11 мм. За счет исключения ряда столбцов из некоторых строк плотность заполнения оставалась равномерной. Полученный рисунок проявляли, дубили, а затем стеклянная подложка травилась на установке типа ТМ со специальным ионным источником, Фоторезист при этом служил защитной маской, а. там, где его не было, стекло стравливалось на глубину до 0,5 мкм. Затем фоторезист смывался и пол: чалась матрица фазовых зонных пластин Френеля, обладающая следующими характеристиками: общее поле 45x45 мм, шаг растра 1,8 мм, фокусное расстояние 11 М, размер единичной зонной пластинки 3,6x3,6 мм. Растр разрешал линии в 2 мкм по мире № 5 из набора оптической скамьи, что было достаточно близко к теоретическому пределу (1,7 мкм) и значительно лучше, чем если бы растр выполнялся извест:г1ым способом (теоретически 3,4 мкм). Формула изобретения Способ изготовления матрицы голографических линз, включающий формирование на поверхности плоско-параллельной подложки системы из М перекрывающихся идентичных голографических дифракционных линз, расположенных с шагом d, причем каждую из линз выполняют в виде совокупности зон Френеля, отличающийся тем, что, с целью повьш1ения разрешающей способности изготавливаемой матрицы путем увеличения количества зон Френеля в линзах при неизменном шаге матрицы, геометрьсческие размеры формируемых дифракционных линз выполняют равными 2dx2d, делят каждую из М линз на одинаковые по размерам четыре строки и четыре столбца и оставляют в ее составе зоны Френеля, содержащиеся в областях пересечения первой строки и четвертого столбца, второй строки и второго столбца, третьей строки и третьего столбца, четвертой строки и первого столбца.

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для передачи оптических сигналов и построения многократных изображений с высоким качеством. Целью изобретения является повышение разрешающей способности изготавливаемой матрицы путем увеличения количества зон Френеля в линзах при неизменном шаге матрицы. На плоскоцараллельной подложке формируют систему из М неперекрывающихся идентичных голографических дифракционных линз, представляющих собой совокупности зон Френеля. Дифракционные линзы формируются с геометрическими размерами 2d х 2d и располагаются с шагом d. Делят каждую линзу на одинаковые по размерам четыре строки и столбца и оставляют в ее составе зоны Френеля в областях пересечения строки и четвертого столбца, второй строки и второго столбца, третьей строки и третьего столбца, четвертой строки и первого (Л столбца. Матрица имеет следующие характеристики: фокусное расстояние 11 мм, шаг растра 1,8 мм. Растр разрешает линии в 2 мкм по мире № 5 из набора оптической скамьи. 2 ил. 01 СО ел Oiib

Фиё.г