Способ возведения противофильтрационной диафрагмы Советский патент 1987 года по МПК E02B3/16 

Изобретение относится к строительному производству и может быть использовано при возведении противофильтра- ционных грунтопленочных диафрагм способом стена в грунте.5

Целью изобретения является упрощение процесса возведения диафрагмы, снижение ее стоимости и повышение про- тивофильтрационнон надежности.

На фиг. 1 и 2 показана последова- с нахлестом на полотнище 10. тельность выполнения операций по при- Длина полотнища 4 выбрана такой, меру 1; на фиг, 3 и 4 - последовательность выполнения операции по примеру 2; на фиг. 5 - разрез А-А на фиг.1.

П р и м е р 1. Укладка полотнищ 15 полимерного эластичного материала на одну из стенок траншеи.

В предварительно открытую траншею 1 устанавливают стойки 2 и 3 до упора

начинают заполтчение траншеи тампонаж- ным материалом 11, который, оказывая давление на полотнище 4 полимерного эластичного материала, распрямляет и постепенно прижимает его к стенке 5 траншеи 1.

По мере заполнения траншеи 1 тампо нажным материалом 11 происходит прижатие полотнища 4 к стенке 5 траншеи

что после нахлеста полотнища 4 на полотнище 10 происходит натяжение полот нища 4 тампонажным материалом 11 и под его давлением отрыв края полотнища 4 от колец 7, надетых на стойку 2. После отрыва края полотнища 4 от стой ки 2 заполнение траншеи 1 тампонажным

материалом 11 приостанавливается. в ее дно и закрепляют их вверх. Стой- 20 Затем в известном порядке устанавли- ки 2 и 3, предназначенные для опускания одного полотнища полимерного эластичного материала 4, располагают на противоположных стенках 5 и 6 траншеи 1 , причем мысленная прямая, сое- - каждого из полотни1Ц к стенке тран- диняющая стойки 2 и 3, образует со шеи 1 стойки, по которым опускались стенкой 5 острый угол, а расстояние между 2 и 3 выбрано так, что

вают стойки 12 и 13 и опускают полотнище 14. После этого возобновляют заполнение траншеи 1 тампонажным материалом 11. После полного прижатия

оно меньше ширины полотнища 4 не кеэти полотнища, извлекают.

П р и м е р 2. Укладка полотнищ

полимерного эластичного материала на

нее чем на ширину траншеи 1. После -30 обе стенки траншеи, этого по стойкам 2 и 3 с помощью при- В отличие от примера 1 реализации

способа для укладки полотнищ на обе

груза опускают или затягивают с помощью тросиков, перекинутых через блоки, установленные внизу стоек 2 и 3,

стенки траншеи 1 стойки располагают в траншее в три ряда по обеим сторов траншею 1 полотнище 4, к краям ко- 35 нам и продольной оси траншеи, при торого по мере опускания с определен- этом стойки, расположенные по оси ным шагом крепят кольца 7 и надевают их на стойки 2 и 3, фиксируя края полотнища 4 на стойках 2 и 3. Кольца 7 крепятся к полотнищу 4 полимерного эластичного материала таким образом, что усилие на его отрыв от полотнища меньше, чем усилие на разрыв самого полотнища. После опускания полотнища 4 аналогично предьщущим устанавли- 45 зуют со стенками 5 и 6 траншеи 1 вают стойки 8 и 9 и опускают по ним соответственно острые углы. Затем по полотнище 10, при этом расстояние меж- стойкам 15 и 16 опускают полотнище ду стойками 3 и 9, расположенными на одной стенке траншеи 1, выбирается та- ,ким, чтобы проекция расстояния между 50 полотнищ 18 и 19 на их края крепят стойками 2 и 3 на эту стенку была кольца 7 и надевают их на стойки 15, больше расстояния между стойками 3 и 9. Такое расположение стоек гарантирует нахлест полотнища 4 на полотни55

траншеи, выполнены сдвоенными с возможностью опускания по ним краев дву полотнищ. Например, в траншею 1 уста навливают стойки 15, 16, 17, при этом стойка 16, расположенная по оси траншеи 1, сдвоенная.

Мысленные прямые, соединяющие сто ки 15 и 16 и стойки 16 и 17, обра18, а по стойкам 16 и 17 - полотнище 19, при этом по мере опускания

ще 10 при прижатии его к стенке 5 траншеи 1 тампонажным материалом 11. После опускания как минимум двух по- лотнищ например 4 и 10, в траншею 1

16 и 17, фиксируя края полотнищ 18 и 19. Опущенные полотнища 18 и 19 перегораживают траншеи 1, образуя клин. Расстояние между стойками 15 и 16, 16 и 17 должно быть меньше ширины полотнищ 18 и 19 не менее чем на. половину ширин траншеи 1. Затем

начинают заполтчение траншеи тампонаж- ным материалом 11, который, оказывая давление на полотнище 4 полимерного эластичного материала, распрямляет и постепенно прижимает его к стенке 5 траншеи 1.

По мере заполнения траншеи 1 тампо- нажным материалом 11 происходит прижатие полотнища 4 к стенке 5 траншеи 1

с нахлестом на полотнище 10. Длина полотнища 4 выбрана такой,

что после нахлеста полотнища 4 на полотнище 10 происходит натяжение полотнища 4 тампонажным материалом 11 и под его давлением отрыв края полотнища 4 от колец 7, надетых на стойку 2. После отрыва края полотнища 4 от стойки 2 заполнение траншеи 1 тампонажным

материалом 11 приостанавливается. Затем в известном порядке устанавли- каждого из полотни1Ц к стенке тран- шеи 1 стойки, по которым опускались

вают стойки 12 и 13 и опускают полотнище 14. После этого возобновляют заполнение траншеи 1 тампонажным материалом 11. После полного прижатия

стенки траншеи 1 стойки располагают в траншее в три ряда по обеим сторо35 нам и продольной оси траншеи, при этом стойки, расположенные по оси 45 зуют со стенками 5 и 6 траншеи 1 соответственно острые углы. Затем по стойкам 15 и 16 опускают полотнище 50 полотнищ 18 и 19 на их края крепят кольца 7 и надевают их на стойки 15,

траншеи, выполнены сдвоенными с возможностью опускания по ним краев двух полотнищ. Например, в траншею 1 уста- навливают стойки 15, 16, 17, при этом стойка 16, расположенная по оси траншеи 1, сдвоенная.

Мысленные прямые, соединяющие стойки 15 и 16 и стойки 16 и 17, обранам и продольной оси траншеи, при этом стойки, расположенные по оси зуют со стенками 5 и 6 траншеи 1 соответственно острые углы. Затем по стойкам 15 и 16 опускают полотнище полотнищ 18 и 19 на их края крепят кольца 7 и надевают их на стойки 15,

18, а по стойкам 16 и 17 - полотнище 19, при этом по мере опускания

нам и продольной оси траншеи, при этом стойки, расположенные по оси зуют со стенками 5 и 6 траншеи 1 соответственно острые углы. Затем по стойкам 15 и 16 опускают полотнище полотнищ 18 и 19 на их края крепят кольца 7 и надевают их на стойки 15,

16 и 17, фиксируя края полотнищ 18 и 19. Опущенные полотнища 18 и 19 перегораживают траншеи 1, образуя клин. Расстояние между стойками 15 и 16, 16 и 17 должно быть меньше ширины полотнищ 18 и 19 не менее чем на. половину ширин траншеи 1. Затем

313

аналогичным образом устанавливают стойки 20, 21 и 22 и опускают полотнища 23 и 24. При этом расстояние меж ду стойками 15 и 20, расположенными на стороне 5 траншеи 1, и стойками 17 и 21, расположенными на стороне 6, должно быть меньше проекции расстояния между стойками 15 и 16, 16 и 17 соответственно на стенки 5 и 6 траншеи 1 .

Это условие гарантирует нахлест полотнищ 18 и 19 соответственно на полотнища 23 и 24 при заполнении траншеи 1 тампонажным материалом 11 и прижатии их к стенкам траншеи 1. После образования в траншее 1 из полотнищ полимерного пластичного материала как минимум двух клиньев производят укладку в траншею 1 между полотнищами 18 и 19 тампонажного ма- териала 11, которьга своим давлением распрямляет и прижимает полотнище 18 к стенке 5, а полотнище 19 - к стенке 6 траншеи 1. По мере заполнения траншеи тампонажным материалом происходит нахлест полотнищ 18 и 19 соответственно на полотнища 23 и 24, после чего давлением тампонажного материала 11 происходит натяжение и отрыв полотнищ 18 и 19 от колец 7, на- детых на стойку 16. После этого заполнение материалом приостанавливается. Известным образом устанавливают стойки 25, 26 и 27 и по ним опускают полотнища 28 и 29, после чего запоя- нение траншеи 1 тампонажным материалом 11 возобновляют. По мере прижатия

534

.тампонажным материалом полотнищ полимерного пластичного материала к стенкам траншеи стойки, по которым опускались эти полотнища в траншею, извлекают.

Формула изобретения

1.Способ возведения противофильт рационной диафрагмы, включающий разработку траншеи под защитой глинисто суспензии, опускание в траншею по направляющим стойкам с перехлестом полотнищ полимерного эластичного материала и заполнение траншеи тампонажным материалом, отличающи йс я тем, что, с целью упрощения процесса возведения диафрагмы, снижения ее стоимости и повышения противофильт- рационной надежности, опускание в траншею по направляющим стойкам полотнищ полимерного эластичного материала осуществляют под острым углом к стенкам траншеи, перегораживая ее, с одновременной фиксацией краев полотнищ на направляющих стойках, которые извлекают из траншеи по мере ее заполнения тампонажным материалом и прижатия им ПОЛОТН1Щ к стенкам траншеи,

2.Способ по п. 1, отлича ю- щ и и с я тем, что расстояние между стойками принимают меньше ширины полотнищ полимерного эластичного материала, опускаемого в траншею, не менее чем на ширину траншеи.

Изобретение относится к области строительного производства и может быть использовано при возведении про- тивофильтрационны х грунтопленочных диафрагм способом стена в грунте. Целью изобретения является упрощение процесса возведения диафрагмы, сниже,ние ее стоимости и повышение противо- фильтрационной надежности. В предва1 3 2 рительно открытую траншею (Т) устанавливают стойки 2 и 3 до упора в ее дно и закрепляют их верх. Стойки 2 и 3 -устанавливают так, что мысленная прямая, соединяющая их, образует со стенкой 5 острый угол. После этого по стойкам 2 и 3 с помощью пригруза опускают или затягивают с помощью тросиков в Т полотнище (П) 4. Края П 4 фиксируют на стойках 2 и 3 кольцами, которые крепятся к П 4. После опускания П 4 аналогично предьщущим устанавливают стойки 8 и 9 и опускают по ним П 10. Расположение стоек гарантирует нахлест П 4 на П 10 при прижатии его к стенке 5 тампонажным материалом 11. Длина П 4 выбрана такой, что после на- хлеста П 4 на П 10 происходит натяжение П 4 тампонажным материалом и под его давлением отрыв края П 4 от колец, одетых на стойку 2. Затем в указанном порядке устанавливают стенки 12 и 13 и опускают П 14. После полного прижатия каждого из полотнищ к стенке Т стойки, по которым опускались эти по- лотнища, извлекают. 1 з.п. ф-лы, 5 ил. W С ее Р : О5 сд со

fef

7/ f8 21 20fe2b.

гг 5

в f

15Ют

П I 11 3fy l25 2Ь f 5

2В

Фи ЧФаг.5