Прибор для оптической термообработки Советский патент 1988 года по МПК A61C3/00 

8

(Л

J

со

ел

о

Изобретение относится к медицинскому приборостроению и аппаратостроению сва- poiJHoro ироизводства и может быть исполь- зобано при изготовлении восковых моделей и зубных фотезов в стоматологии, для сварки термопластичных материалов и пайки в промышленности.

Целью изобретения является снижение энергопотребления за счет более полного ис- по;|1ьзования лучистого потока.

|На чертеже представлена принципиаль- на59 схема прибора для оптической термообработки.

IПрибор содержит стойку 1, держатель 2 истгочника света, подставку 3 для обраба- ты заемого материала, установленную с возможностью перемепления вдоль стойки 1,

10

15

Лучистый ноток от источника 6 света фокусируется отражателем 5 на площадке 4, предназначенной для высокотемпературного локального нагрева, например для быстрого расплавления, сварки или пайки объектов с размерами, не превышающими размеров площадки 4. Остальная часть лучистого потока направляется на подставку 3, интенсивность предварительного нагрева или термообработки объектов, на которой регулируется ее перемещение вдоль стойки 1. Так полнее используется лучистый поток источника 6 света и достигается снижение энергопотребления.

Формула изобретения

плбщадку 4, отражатель 5 с источником 6Прибор для оптической термообработки,

св4та в первом фокусе и площадкой 4 - восодержащий отражатель с источником свевт(|)ром, блок 7 питания и корпус 8. Пло-та в первом фокусе, стойку и подставща(дка 4 может быть подвижно закрепле-ку для обрабатываемого материала, отна| на стойке 1 и отводиться в сторону. JQ тем, что, с целью снижения энергопотребления, подставка для обрабатываемого материала установлена с возможностью перемещения вдоль стойки, во втором фокусе отражателя помещена дополнительная площадка с размерами не превы; Устройство используется следующим об- шающими размеров светового пятна второ- ра&ом.го фокуса.

Размеры площадки 4 не превыщают разме pop светового пятна источника 2 света во втсЬром фокусе отражателя 5. Подставка 3 установлена с возможностью перемещения вдоль стойки

Лучистый ноток от источника 6 света фокусируется отражателем 5 на площадке 4, предназначенной для высокотемпературного локального нагрева, например для быстрого расплавления, сварки или пайки объектов с размерами, не превышающими размеров площадки 4. Остальная часть лучистого потока направляется на подставку 3, интенсивность предварительного нагрева или термообработки объектов, на которой регулируется ее перемещение вдоль стойки 1. Так полнее используется лучистый поток источника 6 света и достигается снижение энергопотребления.

Формула изобретения

Изобретение используется при изготовлении восковых моделей и зубных протезов в стоматологии, для сварки термопластичных материалов и пайки в промышленности. Цель изобретения - снижение энергопотребления. Прибор содержит стойку 1, на которой укреплен отражатель 5, в первом фокусе которого расположен источник света 6, во втором - догюлни- тельная площадка 4 размерами, не превышающими размеры светового пятна второго фокуса. Излучение, прошедшее мимо допо.ч- нительной площадки 4, поступает на подставку 3 для обрабатываемого материала, установленную с возможностью перемещения вдоль стойки 1, и производит предварительный нагрев обрабатываемого материала. 1 ил.