Устройство для получения плотной высокотемпературной плазмы Советский патент 1989 года по МПК H05H1/00 G21B1/00 

. 1

Изобретение относится к импульсным плазменным системам и может быть использовано в установках с импульсным магнитным сжатием плазмы, а также в качестве импульсного источника нейтронов и в термоядерной энергетике.

Цель изобретения - повьшение эффективности сжатия и наг.рева плазмы;На чертеже изображено устройство для получения плотной высокотемпературной плазмы.

Устройство содержит электроды 1 в виде усеченных конусов, оболочку 2 в форме сферического пояса с тсхлщи- иой обратно пропорциональной квадрату расстояния от оси электродов, газовую смесь 3, например смесь дейтрия

и трития, заполняющую пространство внутри оболочки. Для получения плаз-, мы может также использоваться твердое вещество или замороженное термоядерное топливо, нанесенное на внутреннюю сторону оболочки.

Устройство работает следующим обjpa3OMo

При пропускании тока .между электродами 1 по оболочке 2 последняя сжимается и нагревает газовую смесь 3.

Сила, действующая на каждый участок оболочки, обратно пропорциональна квадрату расстояния его от оси системы, поэтому при профилировании толщины оболочки в форме сферического пояса обратно пропорционально квадрату расстояния от оси вся оболоч||Й

ф

М 00

ка приобретает одинаковое ускорение и сохраняет подобие формы. Таким об- )азом, оболочка в форме сферического йояса, закрепленная на электродах, выполненных в виде усеченных конусов С образукнцими, направленными по радиусам из общей точки пересечения, позволяет избежать формирование куму- ,|1ятивных струй вплоть до момента вы- |сода оболочки на плоские участки электродов, что повышает эффективность сжатия и нагрева предлагаемой плазмы по сравнению с известной.

Например, при радиусе оболочки

массе оболочки А- Ю г, мас- г, угле при верши- ос- токе

,5 см,

е DT-смеси 4-10

е конусов 120°, радиусе малого

ювания каявдого конуса О,,05 см.

2 IО А оболочки приобретает скорость, ;i ЧО см/с. Ударное сжатие нагреет )Т-смесь до 800 эВ, Последующее адиабатическое дожатие поднимет темпе- атуру примерно до 10 кэВ«25

15 .

0

5

Формула изо б решения

Устройство для получения плотной высокотемпературной плазмы, содержащее два электрода, профилированную по толщине цилиндрическую оболочку между ними, заполненную газовой , смесью или термоядерным топливом, отличающееся тем, что, с целью повышения эффективности сжатия и нагрева плазмы, образугацейся в результате ионизации газовой смеси или термоядерного топлива, электроды вьтолнены в виде усеченных конусов 5 так, что образующие конусов пересекаются в одной точке, оболочка выполнена в форме пояса со сферической . поверхностью, с центром, совпадащим с точкой пересечения образующих конусов, причем толщина оболочки обратно пропорциональна квадрату расстояния от оси системы, а начальньй радиус оболочки превышает расстояние от точки пересечения конусов до границы плоских участков электродов.

0

Изобретение относится к импульс- . ным плазменным системам и может быть использовано в установках с импульсным магнитным сжатием плазмы, а также в качестве импульсного источника нейтронов и в термоядерной энергетике. Цель - повьшение эффективности сжатия и нагрева плазмы, образующейся в результате ионизации газовой смести или термоядерного топлива. В устройстве для получения плотной высокотемпературной плазмы электроды :вьшолнены в виде усеченных конусов так, что образующие конусов пересе- :каются в одной точке, а .оболочка вы- пол иена в форме пояса со сферической jповерхностью с центром, совпадающим : с ТОЧКОЙ пересечения образующих конусов. При этом толщина оболочки об- .ратно пропорциональна квадрату расстояния от оси системы, а начальньй радиус оболочки превышает расстояние от точки пересечения конусов до границы плоских участков электродов.1 ил. с S (Л