Подбор экспозиции в известных электрофотографических аппаратах требует достаточно большого времени и не обеспечивает высокого качества полученных изображений.
Описываемый способ регулирования экспозиции, основаяный на непрерывном контроле разности потенциалОВ на фотопроводящем слое, позволяет автоматизировать процесс подбора экспозиции и повысить качество получаемых изображений.
Как известно, оптимальная величина экспозиции определяется рядом факторов: начальной разностью потенциалов на слое, светочувствительностью слоя, степенью электризации и т. п. Однако при всех условиях конечная разность потенциалов на пробелах получаемого изображения зависит только от свойств проявляющего состава и характера поверхности слоя, несущего скрытое изображение. Таким образом, конечная разность потенциалов на .пробелах изображения может служить характеристикой проявляющего состава при неизчменном составе слоя и способа его приготовления. Величины конечных разностей потенциалов для каждого проявляющего состава могут быть определены экспериментально путем построения зависимости оптической плотности изображения от разности потенциалов на слое. Из полученной экспериментальной зависимости следует выбрать в качестве конечной такую разность потенциалов, при которой обеспечивается лучшее качество изображения.
Экспонирование осуществляют следующим образом. В устройстве для экспонирования производят непрерывный контроль разности потенциалов на фотопроводящем слое. При достижении требуемой начальной разности потенциалов автоматически начинают экспонирование, а
№ 149673-2при достижений конечной разности потенциалов экспонирование автоматически прекращается.
Описанный способ регулирования экспозиции может найти применение в полиграфической промышленности.
Предмет изобретения
Способ регулирования экспозиции в электрофотографических аппаратах, отличающийся тем, что, с целью автоматического регулирования, экспонирование производят при непрерывном контроле разности потенциалов на фютопроводящем слое при достижении заданных начального и конечного потенциалов.
