Способ определения оптической анизотропии прозрачных образцов Советский патент 1991 года по МПК G01B11/30 

Изобретение относится к i/пмеритель- ной технике и может быть испо овано для исследования структуры вещества оптически напряженных фазово-неоднородчых объектов что актуально в оптической ,neq)eK- тоскопии, кристаллооптике полупроводниковом и оптическом приборостроении

Цель изобретения - повышение точности определения оптической анизотропии что обусловлено диапазоном линейного измерения интенсивности, соответствующего четырем порядкам изменения интенсивности в нулевой полосе интерференционной картины, а также расширение области применения за счет определения высоты микронеровностей поверхности образцов

На чертеже изображена принципиальная схема устройства реализующего способ определения оптической анизотропии прозрачных образцов

Устройство содержит источник 1 излучения дающий высококогерентное излучение с плоским волновым фронтом светоделитель 2, поворотные зеркала 3 и 4 оптический смеситель 5, магнитооптический модулятор 6, анализатор 7 и фотоэлектронный умножитель 8.

Предлагаемый способ осуществляется следующим образом

Полупрозрачная пластина 2 разделяет излучение от источника 1 излучения на два пучка объектный, который направляется к

о

-N О

сл

4

hO

исследуемому образцу 9, а также на опорный, который поворачивается зеркалом 3 в направлении оптического смесителя 5, на котором строго соосно смешиваются опорное и объектное поля, в результате чего формируется нулевая интерференционная полоса, световые колебания в которой модулируются, проходя через магнитооптический модулятор 6, Поляризатор 7 преобразует модуляцию азимутов поляризации в нулевой интерференционной полосе в модуляцию интенсивностей, которую наблюдают на экране осциллографа и по которой определяют величину азимута поляризации с точностью до 10, что соответствует удвоению частоты модулирующего магнитного поля. Фотоэлектронный умножитель 8 регистрирует значение интенсивности в нулевой полосе в ситуации отключенного магнитооптического модуля тора 6.

Далее, путем перемещения образца 9, определяют новые указанные значения и, таким образом, накапливают соответствующие статистические массивы данных, по которым определяют оптическую анизотро

пию и высоту микронеровностей поверхности образца 9.

Формула изобретения Способ определения оптической анизот5 ропии прозрачных образцов, заключающийся в том, что пропускают монохроматическое линейно поляризованное излучение через образец, формируют интерференционную картину, анализируют интенсивность излу10 чения, прошедшего через поляризационный анализатор, и определяют оптическую анизотропию прозрачных образцов, отличающийся тем, что, с целью повышения точнъсти определения оптической анизот15 ропии и расширения области применения за счет определения высоты микронеровностей поверхности образцов, используют высококогерентное излучение с плоским волновым фронтом, формируют опорный 20 и объектный пучки, соосно смешивают эти пучки, проецируют интерференционную картину в плоскость регистрации, измеряют распределение интенсивности и азимутов поляризации в нулевой полосе интерфе25 ренционной картины и по ним определяют оптическую анизотропию и высоту микронеровностей поверхности образцов

Изобретение относится к измеритепь ной технике и может быть испопьзовано для исследования структуры вещества отиче ски напряженных (разово-неоднородных объектов, что актуально в оптическом дефектоскопии кристаллооптике полупроводниковом и оптическом приборостроении Цель изобретения -повышения точности определения оптической анизотропии что обус ловлено диапазоном линейного измерения интенсивности соответствующего четырем порядкам изменения интенсивности в нулевой полосе интерференционной картины а также расширение области применения за счет определения высоты микронеровно стей поверхности образцов В способе используют высококогерентное излучение с плоским волновым фронтом формируют опорный и обаектный пучки проецируют интерференционную картину в плоскость регистрации измеряют распределение интенсивности и азимутов поляризации в нулевой полосе по которым определяют оп тическую анизотропию и высоту микроне оовностеи поверхности образца 1 ил ел

7 8