Устройство для контроля качества материала Советский патент 1991 года по МПК D01G23/06 

Изобретение относится к устройствам для контроля качества материала и может быть использовано для определения технологических характеристик материала.

Известно устройство для контроля качества материала, содержащее измерительную интегрирующую сферу с расположенными в разных полусферах относительно центральной диаметральной оси отверстиями, фотоприемник и источник излучения, установленный в отверстии одной из полусфер.

Недостатком известного устройства являются невысокие функциональные возможности.

Цель изобретения - расширение функциональных возможностей,

На чертеже изображено устройство, общий вид.

Устройство содержит блок измерения, включающий активный фотометр, состоящий из интегрирующей измерительной сферы, выполненной из дгух полусфер 1 и 2, установленных одна относительно другой с зазором 3 для размещения контролируемого материала 4.

В отверстиях полусферы 1 установлены источник 5 излучения (например, лазер) со средством расфокусирование его излучения (не показано) и фотоприемник 6 для восприятия излучения, отраженного от поверхности материала и интегрируемого внутренней поверхностью полусфер 1 и 2. При этом иеправление светового потока от осветителя расположено под углом 90 ± 5° к оптической оси фотоприемников, которая, в свою очередь, перпендикулярна направлению перемещения материала 4. Фотоприемник 6 закрыт экраном 7, расположенными диаметрально противоположном относительно осветителя 5 участке полусферы для избежания засветки светом, исходящим не(Л

С

х|

О

ч о

ю

посредственно от осветителя и отраженным от поверхности полусферы.

В полусфере 2 установлен фотоприемник 8 для восприятия излучения, прошедшего сквозь материал и неоднократно отраженного от поверхностей полусфер 1 и 2. При этом оптическая ось фотоприемника 8 соосна с оптической осью фотоприемника 6.

В полусфере 2 может быть установлен дополнительный источник излучении (осве- титепь 9), аналогичный осветителю в полу- сфере 1.

Устройство работает следующим обрэ- |зом.

Излучение от источника 5 попадает на противоположную стенку полусферы 1 и после многократных отражений от стенки полусферы и контролируемого материала 4 попадает на фотоприемник 6, который регистрирует суммарный коэффициент отражения. Часть излучения проникает через материал 4 в полусферу 2 и после многократных отражений попадает на фотопри- емник 8, который регистрирует суммарный коэффициент пропускания.

Примео. Полусфера с внутренним диаметром 60 мм с отверстиями, расположенными под углом 90 ± 5° один к другому. Внутренняя поверхность полусферы имеет покрытие, обеспечивающее диффузное рассеивание. В качестве источника излучения используется полупроводниковый лазер с длиной волны 0,89 мкм, в качестве фотоприемника - фотодиод ФД-24К.

При этом облучение большой поверхности материала диффузионно рассеянном светом, равномерно распределенным по всей этой поверхности, при многократном отражении от стенок полусфер позволяет повысить точность контроля таких показателей свойств материала, как белизна, структура, за счет обеспечения возможности усредненной оценки показателей свойств материала с неравномерными свойствами по его площади.

Использование изобретения расширяет функциональные возможности устройства.

Формула изобретения

1.Устройство для контроля качества материала, содержащее измерительную интегрирующую сферу с расположенными в

разных полусферах относительно центральной диаметральной оси отверстиями, фотоприемник и источник излучения, установленный в отверстии одной из полусфер, о т- лмчающееся тем, что; с целью рэсширения технологических возможностей, по- лусферы измерительной интегрирующей сферы расположены с зазором относительно центральной оси, в одной из полусфер в точке пересечения оси, проходящей через

геометрический центр измерительной интегрирующей сферы перпендикулярно центральной диаметральной оси, и поверхности измерительной интегрирующей сферы выполнено дополнительное отверстие, в

котором установлен фотоприемник.

2.Устройство по п, 1, отличающее- с я тем, что оно снабжено дополнительным фотоприемником, а в другой полусфере диаметрально противоположно первому дополнительному отверстию в первой полусфере выполнено второе дополнительное отверстие, в котором установлен дополнительный фотоприемник.

3.Устройство по пп. 1 и 2, отличаю- щ е е с я тем, что оно снабжено дополнительным источником излучения, установленным аналогично основному источнику излучения первой полусферы в основное отверстие второй полусферы.

4. Устройство по пп. 1 - 3, отличающееся тем, что оно снабжено экраном, расположенным на диаметрально противоположном относительно источника излучения участке первой полусферы.

9

8

Изобретение может быть использовано для определения технологических характеристик материала и позволяет расширить технологические возможности устройства. Устройство содержит измерительную сферу, приемник отраженного от поверхности материала излучения, источник излучения, В данном устройстве измерительная сфера выполнена из двух полусфер с зазором, дополнительные источник излучения и фотоприемник расположены в одной полусфере, а осветитель установлен с возможностью освещения диаметрально противоположного участка той же полусферы, в которой оч размещен. 3 з.п, ф-лы, 1 ил.