Изобретение относится к области микроэлектроники и может найти широкое применение в технологии МДП-интегральных схем, в частности фотоприемных устройств, на основе полупроводников AIIIBV.
Современные требования к многоэлементным фотоприемникам на базе полупроводников АIIIВV диктуют необходимость создания МДП-структур с плотностью поверхностных состояний на границе раздела диэлектрик-полупроводник Nss<2,0·1011см-2 и временем релаксации емкости неосновных носителей τрел>40 мксек одновременно. При этом время релаксации не должно уменьшаться при увеличении рабочего напряжения, поданного на МДП-структуру.
Электрические свойства границы раздела полупроводник - диэлектрик зависят, в основном, от способа формирования активного диэлектрика.
Наиболее приемлемым и перспективным методом получения диэлектрических пленок на поверхности полупроводников AIIIBV является их электрическое окисление. При этом электрофизические параметры анодных окислов, а также границы раздела анодный окисел - полупроводник в большой степени определяются составом и свойствами применяемого электролита.
Известен безводный электролит на основе тетрагидрофурфурилового спирта и пирофосфорной кислоты [1]. Результаты электрофизических измерений МДП-структур, диэлектрические пленки которых получены в указанном электролите, превышали практически по всем параметрам МДП-структуры с анодными слоями, формированными в водных растворах: например, Nss=7,5·1011см-2; Епр=2·106 В/см, по сравнению с Nss=1·1012см-2 и Епр=106 В/см для пленок, полученных в водных растворах.
Известен электролит [2] на основе органических соединении, содержащий, вес.%:
Применительно к антимониду индия использование этого электролита в режиме постоянного тока позволяет получать МДП-структуры с Nss=(2,0-2,5)·1011см-2.
Известен также электролит [3], содержащий, вес.%:
Применение этого электролита для получения активного диэлектрика на поверхности антимонида индия в вольтстатическом режиме позволяет получить МДП-структуры с Nss1,0·1011см-2. Однако время релаксации емкости у сформированных в этом электролите структур не превышает 20-30 мксек и быстро спадает при рабочих напряжениях, поданных на структуру, больше 7-10 В. А это, в свою очередь, ограничивает число работающих элементов в изготавливаемом приборе. Следует отметить, что неорганические галогениды, в том числе и фторид аммония, входящий в состав известного электролита [3], трудно использовать в качестве одного из компонентов электролита главным образом из-за того, что их сложно растворять во многих органических растворителях. Это снижает их эффективность. Кроме того, неорганические галогениды, содержащиеся в электролите, могут селективно травить полупроводниковые подложки АIIIВV и тем самым значительно снижать однородность диэлектрических свойств анодного окисла по площади пластины, а значит, и выход годных приборов. Указанные недостатки приводят к недостаточно высоким значениям времени релаксации у сформированных МДП-структур и нестабильным электрофизический свойствам.
Целью настоящего изобретения является улучшение параметров границы раздела полупроводник - анодный окисел.
Поставленная цель достигается тем, что в безводный электролит для окисления полупроводников AIIIBV добавляют четыреххлористый углерод в количестве 5-15 вес.%.
Экспериментально обнаружено, что введение хлор-радикалов в раствор для анодирования улучшает электрофизические свойства границы раздела полупроводник - диэлектрик. Выбор в качестве галогенсодержащего органического соединения четыреххлористого углерода определяется тем соображением, что легкость расщепления связи углерод-галоген в значительной степени зависит от структуры углеродного скелета и увеличивается по мере накопления атомов галогена при одном атоме углерода.
В качестве электролита можно использовать раствор пирофосфорной кислоты и четыреххлористого углерода в органических растворителях.
В качестве растворителя целесообразно использовать апетонитрил. Тогда составляющие электролита выполняют следующую роль. Ацетонитрил - хороший растворитель для многих полярных и ионных органических соединений, а также для минеральных кислот, он совершенно инертен и с большим трудом окисляется и восстанавливается электрохимически, чем выгодно отличается от других органических растворителей, в том числе и диметилформамида. Пирофосфорная кислота - источник кислорода и электропроводный компонент, четыреххлористый углерод - источник хлор-ионов и хлорсодержащих радикалов, образующихся в процессе электролиза и встраивающихся в оксид.
Для анодирования антимонида индия можно использовать электролиты состава, вес.%:
Примеры
Предварительно была определена концентрация пирофосфорной кислоты на фоне чистого растворителя. В таблице 1 приведены электрофизические характеристики границы полупроводник InSb - диэлектрик. Анодный окисел выращен в растворе анетонитрила или диметилформамида с разным содержанием пирофосфорной кислоты.
Анодирование здесь и в последующих примерах осуществлялось в гальваностатическом режиме при плотности тока 1,0 мА/см2 в течение 2,5-3,0 мин.
Вспомогательным электродом служила платиновая пластина. Толщина анодного окисла при этом составляла 1500-1700
Таким образом, оптимальной концентрацией пирофосфорной кислоты в электролите является концентрация 0,3-3,0 вес.%.
Для получения оптимального состава предлагаемого электролита были подготовлены пять смесей ингредиентов, содержащих каждая, вес.%: пирофосфорная кислота 1,0; четыреххлористый углерод 2, 5, 10, 15, 20, ацетонитрид остальное. В таблице 2 приведены сведения, характеризующие влияние концентрации четыреххлористого углерода на электрофизические свойства МДП-структур на антимониде индия.
Таким образом, определены границы количественного состава электролита, вес.%:
В качестве растворителя может быть применен ацетонитрил, диметилформамид, тетрагидрофурфуриловый спирт и другие органические соединения.
Достоинством предлагаемых электролитов является их универсальность. Эти электролиты, особенно ацетонитрильный, можно с успехом применять для анодирования других полупроводников группы AIIIBV. В таблице 3 приведены электрофизические характеристики МДП-структур на арсениде индия, анодное пленки которых получены при окислении в предлагаемом электролите на основе ацетонитрила, пирофосфорной кислоты и четыреххлористого углерода.
В таблице 4 приведены электрофизические параметры МДП-структур на антимониде индия, анодные пленки выращены в электролитах I и II. Концентрация четыреххлористого углерода изменялась в пределах 5-15 вес.% для следующего состава каждого из электролитов:
Как видно из таблиц 2-4, электрофизические параметры МДП-структур на полупроводниковых материалах АIIIВV, анодные пленки которых получены в предлагаемых электролитах, значительно лучше, чем те, которые сформированы в известных электролитах. Лучшие электрофизические свойства МДП-структур позволяют совершенствовать технологию фотоприемных МДП-линеек и увеличить процент выхода годных на 20-30%.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ АНТИМОНИДА ИНДИЯ | 1979 |
|
SU1840205A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНОК ДЛЯ МДП-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ AB | 1978 |
|
SU1840204A1 |
СПОСОБ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ ТИПА АВ | 1979 |
|
SU1840206A1 |
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ НА ОСНОВЕ AB | 2016 |
|
RU2621879C1 |
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР | 1980 |
|
SU1840207A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНОК ДЛЯ МДП СТРУКТУР НА ОСНОВЕ АРСЕНИДА ИНДИЯ И ЕГО ТВЕРДЫХ РАСТВОРОВ | 1984 |
|
SU1840172A1 |
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ СЛОЖНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ АВ | 1976 |
|
SU1840187A1 |
СПОСОБ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН В ГАЛОГЕНСОДЕРЖАЩИХ ЭЛЕКТРОЛИТАХ | 1977 |
|
SU1840203A1 |
Способ формирования гибридного диэлектрического покрытия на поверхности антимонида индия ориентации (100) | 2022 |
|
RU2782989C1 |
СТРУКТУРА МНОГОКОМПОНЕНТНЫЙ ПОЛУПРОВОДНИК - ПЕРЕХОДНОЙ СЛОЙ ДИЭЛЕКТРИКА - ДИЭЛЕКТРИК | 1986 |
|
SU1840166A1 |
Изобретение относится к области микроэлектроники и может найти широкое применение в технологии МДП-интегральных схем. Сущность: электролит содержит органический растворитель, кислородосодержащую и электропроводную составляющую. Кроме того, электролит дополнительно содержит четыреххлористый углерод в количестве 5-15 вес.%. Электролит может содержать органический растворитель, пирофосфорную кислоту и четыреххлористый углерод при следующем соотношении компонентов, вес.%: пирофосфорная кислота 0,3-3,0, четыреххлористый углерод 5-15, растворитель остальное. Технический результат: улучшение параметров границы раздела полупроводник - анодный окисел. 1 з.п. ф-лы, 4 табл.
Пирофосфорная кислота 0,3-3,0
Четырехлористый углерод 5-15
Растворитель остальное
Багратишвили Г.Д | |||
и др | |||
Микроэлектроника, №1, 1972, с.83 | |||
Авт | |||
св | |||
№495971, кл | |||
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авт | |||
св | |||
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ СЛОЖНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ АВ | 1976 |
|
SU1840187A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авторы
Даты
2006-08-20—Публикация
1977-04-19—Подача