СПОСОБ АВТОМАТИЧЕСКОГО РЕГУЛИРОВАНИЯ ПРОЦЕССА Советский патент 1968 года по МПК C13G1/06 B01D1/30 B01D9/02 F28F27/00 

1

Известны способы автоматического регулирования процесса заводки кристаллов в вакуум-аппарате непрерывного действия для уваривания кристаллизующихся растворов, например сахарных, включающие поддержание заданного коэффициента перенасыщения сгущаемого раствора.

Для устойчивого непрерывного кристаллообразования при согласовании стадий заводки и наращивания кристаллов, а также для получения равномерных по величине и однородных по фор.ме кристаллов предложено коэффициент Пересыщения сгущенного раствора подерживать регулированием расхода греющего нара. Количество кристаллов, образовавщихся в единице объема раствора, стабилизировать путем растворения их избытка, например, паром, причем подачу пара для растворения регулировать в зависимости от концентрации кристаллов на выходе из зоны активного кристаллообразования.

Способ поясняется схемой, изображенной иа чертеже.

Она включает вакуум-аппарат непрерывного действия, содержащий секцию / сгущения раствора, секцию 2 заводки кристаллов и секцию наращивания кристаллов (не показана). Секции 7 и 2 разделены нерегородками 5 и имеют камеру 4 с патрубком 5 для лодачи греющего пара. Для прохода раствора из секции заводки кристаллов в секцию наращивания кристаллов служит щель 6.

Секция сгущения сиропа оснащена регулятором 7 концентрации в комплекте с датчиками 8 температурной депрессии и регулирующим органом 9 на паровом трубопроводе. Подается сироп регулятором 10 в зависимости от производительности аппарата при помощи регулирующего органа 11.

Секция заводки кристаллов снабжена коробкой 12 для установки тубуса 13 подсветки 14 в подвижном сальнике 15 и тубуса 16 фотоэлемента П, связанного с регулятором 18, например электронным потенциометром типа

ЭПД. Регулятор 18 воздействует на регулирующий орган 19, который изменяет подачу пара в барботер 20.

Способ состоит в следующем. Сироп или патока в требуемом количестве, т. е. в зависимости от потребности последующих секций (производительности вакуум-аппарата), поступает в нижнюю часть секции сгущения, где увлекается циркуляционными потоками и многократно циркулирует по греющим трубкам.

Количество нара, поступающего в камеру 4, регулируется регулятором 7 в зависимости от концентрации сгущаемого раствора в секции /. В секции 2 три дальнейщем сгущении сирона происходит процесс образования кри