il .
Изобретение относится к способу проявления ядерных эмульсионных слоев любой толщины и различной чувствительности к заряженным частицам.
Известен двухтемпературный способ проявления ядерных фотослоев, заключаюпдийся в том, что ядерный слой пропитывают в проявляющем растворе, включающем щавелевокислый калий, феррисульфат и ферросульфат, при 2-5°С, после чего проявляют при 18-24°С. При этом возникают деформации эмульсионных слоев, приводящие к искажению траекторий заряженных частиц, вследствие изменения температуры во второй стадии проявления.
С целью улучшения регистрационных характеристик слоя, сокращения времени проявления и повышения стабильности проявления воспроизведения результатов, предлагается пропитывать слои при 16-22°С и окислительно-восстановительном потенциале ниже порога проявления скрытого изображения, после чего проявляют при той же температуре и окнс.тительио-восстановительном потенциале выше порога проявления скрытого изображения.
потенциала выше порога проявления скрытого изображения. Следы в этом случае не проявляются. Во второй - интенсивно проявляются следы, так как величина окс-ред. потенциала в растворе проявителя несколько ниже порога проявления следов самых слабоионизирующих частиц, регистрируемых в данном опыте. При обработке ядерных эмульсий возникают
меньшие деформации в слоях, благодаря однотемпературному режиму и использованию проявителя с низким рП, в котором происходит слабое набухание слоев в процессе проявления.
Предлагаемый способ обеспечивает полную воспроизводимость процесса, вследствие постоянного потенциометрического контроля, и высокие регистрационные характеристики - максимальная величина чувствительности
сравнима с результатами, полученными в пирогаллоламидоловом проявителе двухтемпературным методом. При этом полностью отсутствует дихроическая вуаль и получается низкая величина зерновой вуали.
Повый метод предусматривает также возможность проведения избирательного проявления частиц различной природы (дискриминации), т. е. при использовании эмульсии одной чувствительности (релятивистской) путем являющего раствора, можно получать требуемый интервал чувствительностей. Пример. Готовят проявитель следую состава: раствор I вода дистиллированная, на700 мл гретая до 50°С лимонная кислота щавелевокислый калий феррисульфат 1,19 бромистый калий 1000 м вода дистиллированная до раствор II вода дистиллированная, нагретая до 50°С лимонная кнслота 250 ферросульфат 1,19 бромистый калий 1000 мл вода дистиллированная до Запасные растворы I и II хорошо сох ются длительное время. Рабочий раствор явителя готовят неносредственно перед явлением, вливая раствор II в кювету с вором I, где измеряют окс-ред. потенциал. рН проявляющего раствора 3,5. Количество раствора II, вводимого в раствор I, определяют по потенциалу, величина которого выбирается в зависимости от проявляемого материала. Для эмульсии ПР-2-релятивистская величины пороговых потенциалов проявления скрытого изображения, образованного частицами различной природы, следующие, Л1в: осколки деления-130 а-частнцы-180 р-частицы (электроны)-230 На графике представлена зависимость плотности зерен в следах релятивистских электронов от окс-ред. потенциала при второй стадии проявления. В зависимости от поставленной задачи в эксперименте подбирают требуемую величину окс-ред. потенциала первой стадии, а из данных графика - величину окс-ред. потенциала второй стадии проявления. В таблице приведен режим фотографической обработки эмульсионных слоев различной толщины.
Фиксирование, сушку толстых слоев в спиртовых растворах и наклеивание их на стекло проводят по известному способу.
Плотность зерен в следах заряженных частиц в глубине и на поверхности толстых слоев обеспечивается введением дпухпотенциальной системы проявления и большей скоростью проникновения железооксалатного проявителя в глубину слоя и отличается высокой равно.мерностью:
глубина от поверхности слоя, мк
плотность зерен
50- 7040,5
90-11041,3
130-15041
При осуществлении предлагаемого способа уменьщается деформация слоя за счет снижения степени набухания в проявителе и применения однотемперагурного режима процесса проявления, сокращается время фотографической обработки толстых эмульсионных слоев за счет исключения стадии предварительного набухания слоев в дистиллированной воде и устранения стон-ванны (4 час для
слоев толщиной 400 мк), а также сокращения времени пропитывания, вследствие большой скорости пропитывания проявляющего раствора 3 глубину слоя. Преимущества предлагаемого способа также в исключении низкотемпературной стадии проявления, требующей специального устройства и дополнительных затрат на охлаждение растворов, в возможности дискриминации частиц различной природы путем проведения
избирательного проявления за счет изменения величины оке-ред. потенциала проявляющего раствора. Кроме того отпадает необходимость тсрмостатирования процесса проявления, так как в железооксалатном проявителе сущестТакже можно варьировать в широких пределах величину проявленного зерна в следах заряженных частиц путем изменения длительности стадии проявления и температуры проявляющего раствора.
Предмет изобретения
Способ проявления ядерных фотослоев с применением проявляющего раствора, включающего щавелевокислый калий, феррисульПлотность
50 Зерен/ЮОмк
фат и ферросульфат, отличающийся тем, что, с целью улучшения регистрационных характеристик слоя, сокращения времени проявления и повышения стабильности воспроизведения
результатов, слои пропитывают при 16-22°С и окислительно-восстановительном потенциале ниже порога проявления скрытого изображения, после чего проявляют при той же температуре и окислительно-восстановительном
потенциале выше порога проявления скрытого изображения.
25
L
-250
Потенциал, ма
-J1L
-300
