ФОТОМЕТРИЧЕСКИЙ КЛИН Советский патент 1969 года по МПК G01J1/04 G02B5/04 

Известные фотометрические клинья, содержащие группу клиновидных полос, расположенных на плоской стеклянной или желатиновой поверхности, не обеспечивают нейтральности клина во всем спектре излучения. Указанный недостаток устраняется в предложенном клине тем, что клиновидные полосы расположены на поверхности полого цилиндра с односторонним дном, закрепленным на оси вращения, а промежутки между клиновидными полосами представляют собой прорези в полой поверхности цилиндра.

Схема предложенного клина приведена на чертеже.

Каркас-несущая поверхность фотометрического клина - представляет собой полую цилиндрическую поверхность 1 с односторонним дном, закрепленным на оси 2 вращения. Цилиндрическая поверхность имеет поперек образующей клиновидные сквозные прорези 5. Непрозрачные участки-ребра 4 представляют единое целое с цилиндром. К ребрам 4 на винтах 5 крепятся клиновидные металлические

пластины 6 с точно выдержанным углом клина и тщательно обработанными краями. В пластинах предусмотрены овальные отверстия для юстировки при закреплении их на каркасе. На поверхности цилиндра нанесена шкала 7 углов поворота клина. Жесткая связь шкалы с каркасом дает возможность исключить какие бы то ни было ошибки, связанные с передачей 1перемещения клина или люфтом отсчетного устройства. Наличие прорезей в поверхности цилиндра обеспечивает нейтральность клина во всем диапазоне спектра излучения.

Предмет изобретения

Фотометрический клин, содержащий группу клиновидных полос, отличающийся тем, что, с целью нейтрализации клина к любого вида излучению, клиновидные полосы расположены на поверхности полого цилиндра с односторонним дном, закрепленным на оси вращения, а промежутки между клиновидными пластинами представляют собой прорези в полой поверхности цилиндра.