СПОСОБ ОЧИСТКИ ОПТИЧЕСКИХ ДЕТАЛЕЙ И ПРИЁМНИКОВИЗЛУЧЕНИЯ Советский патент 1969 года по МПК G01N1/34 

Изобретение относится к способам очистки рабочих поверхностей оптических деталей и приемников излучения от органических пленок без применения растворителей и механическЬго воздействия.

Известен способ очистки поверхностей от пленок, заключающийся в том, что очищаемый объект должен находиться около 100 час в атмосфере газового разряда в специальной камере, которая является частью высоковольтной водородной лампы. Цель изобретения - упростить процесс удаления органических пленок с поверхностей очиндаемых объектов.

Для этого очищаемые объекты облучают в диапазоне 105-135 нм длин волн в открытой воздушной среде на расстоянии 0,5-2,5 мм о г выходного окна лампы. При этом происходит

фотохимическое разложение органической полимерной пленки на легко испаряющиеся газообразные продукты. Время процесса сокращается до 1 час.

Предмет изобретения

1.Способ очистки оптических деталей и приемников излучения в газовой среде облучения водородной лампой, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса удаления органических пленок с поверхности очищаемых объектов, их облучают в диапазоне 105-135 нм длин волн в открытой воздушной среде.

2.Способ по п. 1, отличаюи ийся тем, что объект при облучении располагают на расстоянии 0,5-2,5 мм от выходного окна лампы.