РЕЙКА НИВЕЛИРНАЯ Советский патент 1969 года по МПК G01C5/00 G01C15/06 

Изобретение относится к области измерительных приборов, в частности, к лриборам и принадлежностям для геодезической съемки.

В настоящее время при монтаже и эксплуатации различных установок, где требуется высокая точность установки оборудования в проектное положение по высоте, -применяются нивелирные рейки с подставкой и укрепленными на ней установочными микрометрическими винтами и втулкой, в которую проходит шток рейки.

Однако для установки рейки в вертикальное положение в известном устройстве необходимо произвести продолжительное по времени .выравнивание рейки ло уровню при помощи микрометрических винтов.

Для исключения влияния наклона поверхности нивелирования на волотное пололсение рейки подставка нивелирной рейки имеет опорную поверхность, форма которой образована по секансной кривой, а рейка с противовесом укреплены на подставке при помощи щарнира, причем, центры тяжести подставки и противовеса находятся на одинаковом расстоянии от шарнира и от касательной, проведенной к опорной поверхности в точке пересечения последней с осью симметрии подставки.

устройство при работе на наклонных поверхностях, выражается в том, что

A /ii-f/i2 const(1)

и должно быть независимо от угла наклона ф базовой поверхности (имеется ввиду, что угол Ф меньше угла фкр, равного углу трения).

Условие (1) складывается из следующих требований /1, const(2)

/t2 const .(3)

при

Условие (2) выполняется конструкцией устройства в силу того, что рейка с щарнирным креплением к подставке занимает отвесное положение за счет противовеса. Условие (3) выполняется так же. Действительно hz - p-cosff(4),

где p csecф (5), так как опорная поверхность подставки выполнена исходя из этого условия. При этом, с - расстояние от центра шарнира до внешней образующей корпуса по его оси симметрии. Накладывая условие, что

п const

Таким образом, /z const и не зависит от угла наклона базовой поверхности.

Конструкция устройства в разрезе представлена на чертеже.

Устройство состоит из подставки 1, на которой укреплена рейка 2 со шкалой, шарнира 3, к которому кренится противовес 4.

При установке устройства на базовую поверхность какой-либо установки или оборудования, рейка 2 занимает вертикальное положение независимо от угла наклона базовой поверхности, а так как опорная поверхность выполнена по секансной кривой, изменения полол ения высоты рейки от угла наклона базовой поверхности не происходит, в то время

как сама подставка наклонится к горизонту на какой-то угол.

Предмет изобретения

Рейка нивелирная, состоящая из корпуса с противовесом, шарнирно установленного на подставке, отличающаяся тем, что, с целью исключения влияния наклона поверхности нивелирования на высотное положение рейки, опорная поверхность подставки выполнена по секансной кривой, а центры тяжести противовеса и опорной подставки расположены на одинаковом расстоянин от центра шарнира, равном половине расстояния от центра шарнира до внешней образуюш;ей опорной подставки по оси ее симметрии.