СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ПОЛУПРОЗРАЧНОГО ФОТОКАТОДА Советский патент 1972 года по МПК H01J43/28 

Изобретение относится к фотоэлектронным приборам, а именно к способам изготовлеЕия приборов с полупрозрачным фотокатодом.

Известны механические способы изготовления подложек для фотокатодов, имеющих на поверхности выступы заданной геометрии, что повышает чувствительность фотокатода.

Однако известные способы не позволяют получать подложки с малым шагом выступов. Между тем для преобразования изображениям (например, с помош,ью передающих телевизионных трубок) необходима высокая разрешающая способность фотокатода, и поэтому в них применимы лишь подложки с микрорельефом, имеющим шаг выступов менее 0,1 мм.

Предлагаемый способ позволяет получить такие подложки благодаря использованию технологии получения фотоситаллов и растровой техники.

Способ осуществляют следующим образом. Пластииу светочувствительного стекла - заготовку подложки -засвечивают световым полем, состоящим из пятен, вплотную примыкающих одно к другому. В каждом из пятен освещенность меняется по определенному закону, соответствующему заданной форме выступов. Папример, для получения ко-нических выступов пятна круглые, а освещенность вдоль радиусов меняется по закону, близкому к линейному (уточнение производят экспериментально), с нулевой освещенностью в центре и максимальной на краю пятна.

После термообработки, необходимой для образования фотоситалла на экспонированных участках стекла, засвеченную поверхность пластины протравливают в растворе плавиковой кислоты (режим травления также подбирают экспериментально). Так как скорость растравливания фотоситалла в 10- 20 раз выше, чем скорость растравливания светочувствительного стекла, а глубина образования фотоситалла пропорциональна освещенности данной точки, то в результате травления на поверхности подложки получают рельеф, геометрию которого можно регулировать. Для обеспечения необходимого распределения освещенности при экспозиции могут быть использованы приемы растровой оптики.

В связи с тем, что получение эффективных фотокатодов на известных светочувствительных стеклах затруднительно (они содержат значительное, до 15%, количество лития, воздействующего на фотокатод при его обработке) целесообразно наносить на рельефную поверхность защитный слой. При экспериментальной проверке способа наносился защитный слой кварца толщиной около 0,05 ж/с. Этот слой обеспечил получение фотокатодов с высокой чувствительностью. Предлагаемым

способом можно получать рельеф с шагом до 0,01 ММ и использовать подложки в преобразователях изображения различных типов.

Предмет изобретения

Способ изготовления подложки для полупрозрачного фотокатода, заключающийся в том, что на поверхности стеклянной пластины получают выступы в виде призм, пирамид или

конусов, для -чего применяют засветку и травление пластины .из светочувствительного стекла, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности, засветку производят световыми пятнами, примыкающими одно к другому, причем распределение освещенности в каждом из пятен соответствует заданной форме выступов, а после травления на поверхность пластины наносят защитную пленку окиси кремния.